[发明专利]化学汽相沉积的系统和方法无效
| 申请号： | 00808554.4 | 申请日： | 2000-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN1354806A | 公开（公告）日： | 2002-06-19 |
| 发明（设计）人： | R·J·巴雷;L·H·麦克尔;T·E·肯 | 申请（专利权）人： | 硅谷集团热系统责任有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/00 | 分类号： | C23C16/00;C23C16/54 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王杰 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供了用于处理基体(110)的化学汽相沉积(CVD)系统。所述系统(100)包括加热马弗炉(115),一个具有用于送入化学蒸汽以对基体(110)进行处理的喷嘴装置(130)的处理室(120),以及用于使基体通过马弗炉和处理室的传送带(105)。所述传送带(105)具有抗氧化涂层(175)以减少沉积物在其上面的形成。所述涂层(175)对于防止在由含铬合金制成的传送带上形成铬的氧化物特别有用。在一个实施方案中,抗氧化涂层(175)包括牢固结合的基本无过渡金属的氧化物层(185)。优选地,所述抗氧化涂层(175)包含铝的氧化物。更优选地,所述涂层(175)包括一个与镍的铝化物层(180)牢固结合的铝的氧化物层(185)。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 沉积 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.用于处理基体的化学汽相沉积系统，该系统包括：(a)至少一个具有喷嘴装置的化学汽相沉积室，所述喷嘴装置用来将化学蒸汽送入化学汽相沉积室以对基体进行处理；以及(b)用于使待处理的基体通过化学汽相沉积室的传送带，所述传送带具有抗氧化涂层，结果，减少了沉积物在传送带和邻近系统部件上的形成以及粒子的产生。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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