[发明专利]正型光致抗蚀剂组合物有效
| 申请号： | 00126260.2 | 申请日： | 2000-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN1163797C | 公开（公告）日： | 2004-08-25 |
| 发明（设计）人： | 周振豪;李有京;朴弘植;罗允静;金玑洙;姜圣哲;康升镇 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社;东友半导体株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/008 | 分类号： | G03F7/008 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张平元 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种感光速度及残膜率优秀，恶臭的发生量少，从而能够改善作业环境的正型光致抗蚀剂组合物，其包括：用以形成光致抗蚀剂层的高分子树脂、由于曝光而使光致抗蚀剂层的溶解度发生改变的感光性化合物以及作为溶剂的3-甲氧丁基乙酯、2-庚酮和4-丁内酯。 | ||
| 搜索关键词： | 正型光致抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】：
1.一种正型光致抗蚀剂组合物，其包括：用以形成光致抗蚀剂层的10重量％至25重量％的高分子树脂；由于曝光而使光致抗蚀剂层的溶解度发生改变的4重量％至10重量％感光性化合物；及65重量％至85重量％的作为溶剂的3-甲氧丁基乙酯、2-庚酮及4-丁内酯；其中上述3-甲氧丁基乙酯、2-庚酮及4-丁内酯的比率是50至70重量份∶5至15重量份∶2至10重量份。
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