[发明专利]含有光碱产生剂与光酸产生剂的光致抗蚀剂组合物无效
| 申请号： | 00124850.2 | 申请日： | 2000-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN1289069A | 公开（公告）日： | 2001-03-28 |
| 发明（设计）人： | 郑载昌;金珍秀;孔根圭;白基镐 | 申请（专利权）人： | 现代电子产业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王维玉,丁业平 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种含有光碱产生剂(PBG)的光致抗蚀剂组合物,更具体地说,涉及一种光致抗蚀剂组合物,其包括(a)光致抗蚀剂树脂,(b)光酸产生剂,(c)有机溶剂,及(d)光碱产生剂。所述优选的光碱产生剂选自化学式1的苄氧羰基化合物或化学式2的氧－酰基肟化合物,其中,R′、R1至R6为根据说明书所定义。本发明的组合物可避免斜线图案生成与严重的I/D偏差发生。 | ||
| 搜索关键词： | 有光 产生 光致抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】：
1．一种光致抗蚀剂组合物，其包括(a)光致抗蚀剂树脂，(b)光酸产生剂，(c)光碱产生剂，及(d)有机溶剂。
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