[发明专利]化学汽相淀积设备及利用该设备合成碳纳米管的方法无效
| 申请号: | 00121138.2 | 申请日: | 2000-07-27 |
| 公开(公告)号: | CN1282801A | 公开(公告)日: | 2001-02-07 |
| 发明(设计)人: | 李铁真;柳在银 | 申请(专利权)人: | 李铁真;株式会社日进纳米技术 |
| 主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C01B31/00 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 甘玲 |
| 地址: | 韩国全*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | 提供了一种化学汽相淀积设备和利用该设备合成碳纳米管的方法。该化学汽相淀积设备在一片或多片基片上合成碳纳米管,并且包括包含多个垂向轴的载物舟,沿着每一根轴设置用于支撑基片的支撑突出物,基片水平向平行地安装在支撑突出物上。而且,该化学汽相淀积设备包括具有在其一端的用于供应反应气的通道,以及在其另一端的用于排放反应气的通道的反应炉,其成型为长方体的内部设置载物舟,以及设置在反应炉外部的加热单元。采用这种化学汽相淀积设备可以大量合成碳纳米管。 | ||
| 搜索关键词: | 化学 汽相淀积 设备 利用 合成 纳米 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于在一片或多片基片上合成碳纳米管的化学汽相淀积设备,该设备包括:包含多个垂向轴的载物舟,沿着每一根轴设置用于支撑基片的支撑突出物,基片水平向平行地安装在支撑突出物上;反应炉,该反应炉具有在其一端的用于供应反应气的通道,以及在其另一端的用于排放反应气的通道,该反应炉内部成型为一个长方体来将载物舟设置于其中;以及设置在反应炉外部的加热单元。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





