[发明专利]无机被膜形成用组合物及无机被膜形成方法无效
申请号: | 00120418.1 | 申请日: | 2000-07-07 |
公开(公告)号: | CN1282889A | 公开(公告)日: | 2001-02-07 |
发明(设计)人: | 高梨博;佐藤善美;小畑健和 | 申请(专利权)人: | 东京应化工业株式会社 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 杨宏军 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供一种无机被膜形成用组合物,其特征在于,其中含有(A)感光剂、(B)粉末和(C)硝酸盐,该(C)硝酸盐是从硝酸的非金属盐、硝酸铁和硝酸铈中选出的至少一种。另外还提供无机被膜的形成方法。根据本发明,可以采用低温焙烧工艺形成导电性被膜、绝缘性被膜、光吸收性被膜或荧光体被膜等各种无机被膜。 | ||
搜索关键词: | 无机 形成 组合 方法 | ||
【主权项】:
1.一种无机被膜形成用组合物,其特征在于,其中含有(A)感光剂、(B)粉末和(C)硝酸盐,该(C)硝酸盐是从硝酸的非金属盐、硝酸铁和硝酸铈中选出的至少一种。
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