[发明专利]形成导电图案和制备陶瓷多层基材的方法有效
申请号: | 00104855.4 | 申请日: | 2000-03-27 |
公开(公告)号: | CN1270494A | 公开(公告)日: | 2000-10-18 |
发明(设计)人: | 久保田正博;伊波通明;渡边静晴 | 申请(专利权)人: | 株式会社村田制作所 |
主分类号: | H05K3/46 | 分类号: | H05K3/46;H05K1/02;G03F7/004 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 白益华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 揭示了一种形成导电图案的方法,它包括将光敏性导电浆料施涂到载体1上,形成膜2,所述浆料包含具有酸性官能团的有机粘合剂、光敏性有机组分、多价金属粉末,以及沸点约为178℃或更高的一元醇化合物、阴离子吸附用材料和/或触变剂;对膜2进行曝光和显影,由此形成导电图案3a和3b将形成于载体1上的导电图案3a和3b转印到陶瓷生坯片6上。本发明还揭示了制备陶瓷多层基材的方法。 | ||
搜索关键词: | 形成 导电 图案 制备 陶瓷 多层 基材 方法 | ||
【主权项】:
1.一种形成导电图案的方法,该方法包括以下步骤:在载体上施涂光敏性导电浆料,所述光敏性导电浆料包含具有酸性官能团的有机粘合剂、光敏性有机组分、多价金属粉末和选自以下物质组中的至少一种物质:(a)沸点约为178℃或更高的一元醇化合物;(b)能够吸附有机粘合剂中的阴离子的阴离子吸附用物质和(c)触变剂;通过光敏性导电浆料的曝光和显影形成预定的导电图案;和将形成于载体上的导电图案转印到基材上。
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