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- [发明专利]反射镜，特别是微光刻投射曝光系统的反射镜-CN201980030856.4有效
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K.希尔德;T.格鲁纳;V.施克洛弗
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卡尔蔡司SMT有限责任公司
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2019-04-24
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2023-03-07
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G02B5/08
- 本发明涉及反射镜，特别是微光刻投射曝光设备的反射镜。根据一个方面，根据本发明的反射镜具有反射镜基板(12)；反射层堆叠体(21)，用于反射在光学有效表面(11)上入射的电磁辐射；以及至少一个压电层(16)，该压电层布置在反射镜基板与反射层堆叠体之间，并且通过位于压电层面向反射层堆叠体的一侧的第一电极组件以及通过位于压电层面向反射镜基板的一侧的第二电极组件，能够向该压电层施加用于产生局部可变形变的电场；其中，第一电极组件和第二电极组件二者都具有多个电极(20a，20b)，能够通过供应线(19a，19b)向多个电极中的每一个施加相对于相应的另一个电极组件的电压；其中，所述电极组件中的每一个被分配分离的介体层(17a，17b)，用于沿相关电极组件设置电势的连续曲线；并且其中，所述介体层的平均电阻彼此相差至少1.5倍。
- 反射特别是微光投射曝光系统
- [发明专利]尤其是用于微光刻投射曝光装置的反射镜-CN202080044303.7在审
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H.M.斯蒂潘;T.格鲁纳
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卡尔蔡司SMT有限责任公司
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2020-06-09
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2022-02-01
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G02B26/08
- 本发明关于反射镜，尤其是用于微光刻投射曝光装置。根据一方面，根据本发明的反射镜具有光学有效表面(11,31)、反射镜基板(12,32)、用以反射入射在光学有效表面上的电磁辐射的反射层系统(21,41)、以及至少一个压电层(16,36)，其中压电层布置在反射镜基板和反射层系统之间，且通过位于面向反射层系统的压电层的一侧上的第一电极配置，以及通过位于面向反射镜基板的压电层的一侧上的第二电极配置，能够施加用以产生局部可变变形的电场至压电层，其中该电极配置中的一个分配有中介层(17,37,51,52,53,71)，用于设定沿相应电极配置的电位的至少区域性连续的轮廓；以及其中该中介层具有至少两个相互电绝缘的区域(17a,17b,17c,…；37a,37b,37c,…)。
- 尤其是用于微光投射曝光装置反射
- [发明专利]光刻曝光设备的反射镜系统和包括反射镜系统的光学系统-CN201680041530.8有效
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W.B.J.哈克福特;R.P.霍杰沃尔斯特;P.T.罗格斯;K.希尔德;T.格鲁纳
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卡尔蔡司SMT有限责任公司
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2016-07-05
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2021-07-06
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G21K1/06
- 投射曝光设备(WSC)的反射镜系统(1)，包括多个反射镜元件(2a、2b)，其邻近布置并且共同形成反射镜系统(1)的反射镜表面(3)。每个反射镜(2a、2b)包括基板(4a、4b)和在基板(4a、4b)上的多层系统(5a、5b)。多层系统(5a、5b)包含反射层系统(6a、6b)和压电层(8a、8b)，该反射层系统具有形成反射镜表面(3)的部分的辐射入射表面(7a、7b)，该压电层布置在辐射入射表面(7a、7b)和基板(4a、4b)之间。每个反射镜元件(2a、2b)包括与压电层(8a、8b)相关联的电极系统(9a、9b、9c)，以产生电场，其中压电层(8a、8b)的层厚度(tp)可以通过电场控制。提供将邻近的电极系统(9a、9b、9c)的邻近的第一电极和第二电极(9a、9b)电互连的互连系统(10)。根据一个构想，互连系统(10)产生在第一电极和第二电极(9a、9b)之间的间隙区域(11)中的互连电场，其中该互连电场在第一电极(9a)处的第一电场和在第二电极(9b)处的第二电场之间产生连续过渡。根据其他构想，互连系统(10)在第一电极和第二电极(9a、9b)之间的间隙区域(11)中的电阻(Ri)大于第一电极和第二电极(9a、9b)的电阻(Rw)，并且小于具有第一和第二电极(9a、9b)的邻近电极系统(9a、9b、9c)的压电层(8a、8b)电阻(RI)。
- 光刻曝光设备反射系统包括光学系统
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