“J.哈特杰斯”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果13个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]具有防止等离子体蚀刻效应的屏蔽件的EUV辐射的光学布置-CN201880050254.0有效
发明人： B.利鲍格;M.贝克;K.希尔德;J.哈特杰斯;S.哈斯 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2018-07-13 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种EUV辐射的光学布置(1)，其包括：至少一个反射式光学元件(16)，具有带有反射EUV辐射(33)的涂层(31)的主体(30)。至少一个屏蔽件(36)被装配到主体(30)的至少一个表面区域(35)，并且在光学布置(1)的操作期间保护至少一个表面区域(35)免受等离子体(H+、H*)的蚀刻效应，该等离子体围绕反射式光学元件(16)。屏蔽件(36)与主体(30)的表面区域(35)之间距离(A)小于周围等离子体(H+、H*)的德拜长度(λD)的两倍，优选地小于德拜长度(λD)。
具有防止等离子体蚀刻效应屏蔽 euv 辐射光学布置

[发明专利]用于分面镜的分面组件-CN202180029939.9在审
发明人： J.哈特杰斯;A.沃尔夫;T.格鲁纳 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2021-04-19 - 公布日： 2022-12-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种分面组件(26)是用于投射光刻的照明光学单元的分面镜的组成部分。该分面组件(26)具有一用于反射照明光的反射面(27)的分面(7)。该分面组件(26)的一分面主体(28)具有至少一个中空腔(29)。该中空腔(29)的一反射面腔壁形成该反射面(27)的至少一个部分(27ij)。该分面组件(26)的一致动器控制装置(30)操作上连接至中空腔(29)，用于该反射面腔壁的受控变形。其结果为一分面组件，可弹性用作配备在用于投射光刻的照明光学单元内的分面镜的组成部分。
用于分面镜组件

[发明专利]用于确定微光刻光学系统的光学元件的加热状态的方法和装置-CN201980049199.8在审
发明人： T.格鲁纳;J.哈特杰斯;M.豪夫;G.伯勒 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2019-05-16 - 公布日： 2021-03-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于确定微光刻光学系统中的光学元件的加热状态的方法和设备，其中使用至少一个非接触传感器(330、430、531、532、533、534、631、632)，所述至少一个非接触传感器基于从所述光学元件(301、401、402、403、501、502、503、504、601)接收电磁辐射，并且其中，由所述传感器(330、430、531、532、533、534、631、632)捕获的辐射范围变化，以确定所述光学元件中的温度分布。
用于确定微光光学系统光学元件加热状态方法装置

[发明专利]光学单元的支撑-CN201980044987.8在审
发明人： M.沃格特;J.哈特杰斯 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2019-06-25 - 公布日： 2021-02-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种微光刻的组件，特别是使用极EUV范围(EUV)中的光，所述微光刻的组件包括用于支撑光学单元(106、107)的支撑结构(109)，所述光学单元的质量特别是等于4t至14t，优选地为5t至10t，更优选地为6t至8t。支撑结构(109)包括用于支撑光学单元(106、107)的多个分离的支撑单元(110.1、110.2、110.3、110.4)。支撑单元(110.1、110.2、110.3、110.4)中的每一个包括空气轴承单元(111.1、111.2、111.3、111.4)，通过空气轴承单元能够生成抵消光学单元(106、107)的重量的支撑力。支撑单元(110.1、110.2、110.3、110.4)的数目至少等于四个，其中，经由联接装置(112)联接支撑单元(110.1、110.2、110.3、110.4)中的至少两个以形成支撑单元对，使得联接装置(112)抵消与支撑单元对的两个支撑单元(110.1、110.2)的支撑力的可指定比率的偏差。
光学单元支撑

[发明专利]分面反射镜装置-CN201080069330.6有效
发明人： J.哈特杰斯 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2010-07-28 - 公布日： 2018-11-27 - 主分类号： G02B5/09 文献下载
摘要：本发明提供了一种分面反射镜装置，其包含分面元件和支撑元件，该支撑元件支撑所述分面元件。所述分面元件包含弯曲的第一支撑部分，而支撑元件包含第二支撑部分，第二支撑部分形成与第一支撑部分在接触区域中接触的支撑边缘，以支撑分面元件。
反射装置

[发明专利]包括光学距离测量系统的用于微光刻的投射曝光设备-CN201380038040.9有效
发明人： A.沃尔夫;M.施瓦布;T.格鲁纳;J.哈特杰斯 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2013-07-12 - 公布日： 2018-11-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种用于微光刻的投射曝光设备(10)，包含形成曝光光束路径的多个光学组件(M1‑M6)，并且包含距离测量系统(30、130、230)，用于测量光学组件(M1‑M6)中的至少一个和参考元件(40、140、240)之间的距离。所述距离测量系统包含频率梳发生器(32、132、232)，其构造成产生具有梳状频谱的电磁辐射(36、236)。
包括光学距离测量系统用于微光投射曝光设备

[发明专利]具有分段反射镜的光刻设备-CN201380036437.4有效
发明人： J.哈特杰斯 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2013-06-19 - 公布日： 2017-06-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：公开了一种光刻设备(100)，包含反射镜(200)，具有至少两个反射镜段(210)，所述至少两个反射镜段连接在一起，使得在所述反射镜段(210)之间形成空隙(214)；以及传感器(220，300)，用于检测所述反射镜段(210)的相对位置；其中，所述传感器(220，300)布置在所述反射镜段(210)之间的所述空隙(214)中。
具有分段反射光刻设备

[发明专利]光学元件-CN201280024051.7有效
发明人： J.哈特杰斯;D.菲奥尔卡;B.普尼尼-米特勒 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2012-03-16 - 公布日： 2016-11-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于半导体光刻的投射曝光设备的光学元件，包括光学作用表面(9)和用于冷却光学元件的至少一个冷却部件，其中，所述冷却部件连接到至少两个分离的冷却回路，并实施为使得所述光学作用表面(9)可以在至少一个部分区域中比在另一部分区域中以更大的程度被冷却。本发明还涉及一种包括根据本发明的光学元件的投射曝光设备。
光学元件

[发明专利]用于在微光刻中使用的分面反射镜-CN201080062769.6有效
发明人： D.菲奥尔卡;J.哈特杰斯 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2010-12-13 - 公布日： 2016-02-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及用于在微光刻中使用的分面反射镜（6；10）。分面反射镜（6；10）具有预定用于引导EUV照明光（3）的部分光束的照明通道的多个分面（7；11）。借由包括致动器（31；35）且具有运动分量（32；dz'；dz″）的调节装置（30；34），分面（7；11）的至少一些是可垂直于分面反射平面（xy；x'y'；x″y″）移动的。这导致在分面反射镜中，与现有技术相比，可以较低的制造成本实现与目标照明规格相符的给定要求，当使用分面反射镜时，该给定要求必须被满足。
用于微光使用反射

[发明专利]包括测量光学元件的测量系统的投射曝光设备-CN201380011972.4有效
发明人： S.布雷迪斯特尔;J.哈特杰斯;T.格鲁纳 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2013-01-23 - 公布日： 2014-11-12 - 主分类号： G02B27/00 文献下载
摘要：一种微光刻的投射曝光设备(10)，包括测量投射曝光设备的光学元件的测量系统(50)。测量系统(50)包括：照射装置(54)，其构造成在不同方向(64)上将测量辐射(62)辐射至光学元件(20)，使得对于不同入射方向(64)，测量辐射(62)覆盖光学元件(20)内的相应光路长度(68)；检测装置(56)，其构造成对于相应入射方向(64)测量光学元件(20)中由测量辐射(62)覆盖的对应光学路径长度；以及评估装置，其构造成考虑相应入射方向，通过所测量路径长度的计算机断层反向投射确定光学元件(20)中的折射率的空间解析分布。
包括测量光学元件系统投射曝光设备

[发明专利]在微光刻投射曝光设备中热致动反射镜的布置-CN201180073600.5有效
发明人： J.哈特杰斯 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2011-09-21 - 公布日： 2014-05-21 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及在微光刻投射曝光设备中热致动反射镜的布置，其中反射镜(901)具有光学有效表面(901a)和至少一个进入通道(910、910’)，至少一个进入通道(910、910’)在所述有效表面的方向上从该反射镜的不对应于光学有效表面的表面延伸，其中该布置设计为利用在进入通道(910)中传播的电磁辐射热致动反射镜(901)，其中该布置还具有至少一个热辐射装置，其产生在进入通道(910、910’)中传播的电磁辐射，以及其中热辐射装置可沿着进入通道(910、910’)致动。
微光投射曝光设备中热致动反射布置

[发明专利]微光刻投射曝光设备和微光刻曝光方法-CN201180046828.5有效
发明人： J.赫茨勒;S.布雷迪斯特尔;T.格鲁纳;J.哈特杰斯;M.施瓦布;A.沃尔夫 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2011-09-22 - 公布日： 2013-06-05 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：一种用于曝光基板(20)的微光刻投射曝光设备(10)，包括：投射物镜(18)；及光学测量装置(40)，其用于在曝光基板(20)前，确定基板(20)的表面形貌。测量装置(40)具有在投射物镜(18)的外面延伸的测量光束路径，并构造为波前测量装置，该波前测量装置构造为在基板表面(21)上的多个点处同时确定形貌测量值。
微光投射曝光设备方法

[发明专利]EUV微光刻的照明光学系统和这种照明光学系统的EUV衰减器、具有这种照明光学系统的照明系统和投射曝光装置-CN200980158506.2有效
发明人： N.施米茨;J.哈特杰斯;U.宾格尔;B.普尼尼 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2009-03-27 - 公布日： 2012-02-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种EUV微光刻的照明光学系统，用于将来自辐射源的照明光束导引到物场。至少一个EUV反射镜(13)包括反射面(29)，为了形成该照明光束，反射面(29)具有非平面反射镜形貌。EUV反射镜(13)具有布置在其前面的至少一个EUV衰减器。面向EUV反射镜(13)的反射面(29)的衰减器面具有衰减器形貌，该衰减器形貌设计为与该反射镜形貌互补而使得衰减器面的至少部分以恒定间隔距反射面(29)布置。结果是照明光学系统，其中可以校正物场上照明参数、例如照明强度分布或者照明角度分布的不利变化，且使不利的辐射损失尽可能少。
euv 微光照明光学系统这种衰减器具有系统投射曝光装置

1
共 13 条