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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]反射镜，特别是微光刻投射曝光系统的反射镜-CN201980030856.4有效
发明人： K.希尔德;T.格鲁纳;V.施克洛弗 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2019-04-24 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： G02B5/08 文献下载
摘要：本发明涉及反射镜，特别是微光刻投射曝光设备的反射镜。根据一个方面，根据本发明的反射镜具有反射镜基板(12)；反射层堆叠体(21)，用于反射在光学有效表面(11)上入射的电磁辐射；以及至少一个压电层(16)，该压电层布置在反射镜基板与反射层堆叠体之间，并且通过位于压电层面向反射层堆叠体的一侧的第一电极组件以及通过位于压电层面向反射镜基板的一侧的第二电极组件，能够向该压电层施加用于产生局部可变形变的电场；其中，第一电极组件和第二电极组件二者都具有多个电极(20a，20b)，能够通过供应线(19a，19b)向多个电极中的每一个施加相对于相应的另一个电极组件的电压；其中，所述电极组件中的每一个被分配分离的介体层(17a，17b)，用于沿相关电极组件设置电势的连续曲线；并且其中，所述介体层的平均电阻彼此相差至少1.5倍。
反射特别是微光投射曝光系统

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