专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]用于解决电迁移的布局构造-CN201811322947.9有效
  • S·H·拉苏里;A·达塔;O·翁 - 高通股份有限公司
  • 2014-08-21 - 2022-05-10 - H01L23/482
  • 公开了用于解决电迁移的布局构造。一互连层面上的第一互连将CMOS器件的第一PMOS漏极子集连接在一起。该互连层面上的第二互连将第二PMOS漏极子集连接在一起。第二PMOS漏极子集不同于第一PMOS漏极子集。第一互连和第二互连在该互连层面上断开。该互连层面上的第三互连将CMOS器件的第一NMOS漏极子集连接在一起。该互连层面上的第四互连将第二NMOS漏极子集连接在一起。第二NMOS漏极子集不同于第一NMOS漏极子集。第三互连和第四互连在该互连层面上断开。第一、第二、第三和第四互连通过至少一个其它互连层面耦合在一起。
  • 用于解决迁移布局构造
  • [发明专利]高性能标准单元-CN201580011681.4有效
  • X·陈;O·翁;F·万;A·达塔;S·H·拉苏里 - 高通股份有限公司
  • 2015-02-19 - 2020-07-10 - H01L21/8234
  • 提供了一种晶体管单元,其包括定义在基板中的连续氧化物限定(OD)区;在第一虚设栅极(425)与第二虚设栅极(430)之间的晶体管的栅极(450),其中该晶体管的源极被定义在该OD区的处在该栅极与第一虚设栅极之间的第一部分中,并且其中该晶体管的漏极被定义在该OD区的处在该栅极与第二虚设栅极的第一侧之间的第二部分中;第一栅极定向本地互连(470)和第一扩散定向本地互连(440)将该OD区的毗邻于第二虚设栅极的第二对向侧的第三部分以及第二虚设栅极耦合至源电压。
  • 性能标准单元
  • [发明专利]高性能标准单元-CN202010227403.5在审
  • X·陈;O·翁;F·万;A·达塔;S·H·拉苏里 - 高通股份有限公司
  • 2015-02-19 - 2020-06-23 - H01L27/02
  • 提供了一种高性能标准晶体管单元,其包括定义在基板中的连续氧化物限定(OD)区;在第一虚设栅极(425)与第二虚设栅极(430)之间的晶体管的栅极(450),其中该晶体管的源极被定义在该OD区的处在该栅极与第一虚设栅极之间的第一部分中,并且其中该晶体管的漏极被定义在该OD区的处在该栅极与第二虚设栅极的第一侧之间的第二部分中;第一栅极定向本地互连(470)和第一扩散定向本地互连(440)将该OD区的毗邻于第二虚设栅极的第二对向侧的第三部分以及第二虚设栅极耦合至源电压。
  • 性能标准单元
  • [发明专利]用于解决电迁移的布局构造-CN201480046232.9有效
  • S·H·拉苏里;A·达塔;O·翁 - 高通股份有限公司
  • 2014-08-21 - 2018-11-30 - H01L27/02
  • 一互连层面上的第一互连将CMOS器件的第一PMOS漏极子集连接在一起。该互连层面上的第二互连将第二PMOS漏极子集连接在一起。第二PMOS漏极子集不同于第一PMOS漏极子集。第一互连和第二互连在该互连层面上断开。该互连层面上的第三互连将CMOS器件的第一NMOS漏极子集连接在一起。该互连层面上的第四互连将第二NMOS漏极子集连接在一起。第二NMOS漏极子集不同于第一NMOS漏极子集。第三互连和第四互连在该互连层面上断开。第一、第二、第三和第四互连通过至少一个其它互连层面耦合在一起。
  • 用于解决迁移布局构造

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