专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体器件及其生产方法-CN201310757220.4有效
  • I·尼基廷;M·施内甘斯 - 英飞凌科技股份有限公司
  • 2013-12-13 - 2017-05-03 - H01L23/29
  • 本发明涉及半导体器件及其生产方法。一个半导体器件包括半导体芯片,所述半导体芯片包括第一主面和第二主面,其中第二主面是所述半导体芯片的背面。进一步地,所述半导体器件包括导电层,特别地,被布置在所述半导体芯片的第二主面的第一区域上。进一步地,所述半导体器件包括聚合物结构,所述聚合物结构被布置在所述半导体芯片的第二主面的第二区域上,其中第二区域是所述半导体芯片的第二主面的外围区域,且第一区域与第二区域毗邻。
  • 半导体器件及其生产方法
  • [发明专利]电解质、形成铜层的方法以及形成芯片的方法-CN201510920779.3在审
  • W·罗布尔;F·黑林;M·梅尔兹尔;M·施内甘斯;B·魏德甘斯 - 英飞凌科技股份有限公司
  • 2015-12-11 - 2016-06-22 - C25D3/38
  • 本发明涉及一种电解质。该电解质可以包括至少一种配置为在温度超过大约100℃时分解或蒸发的添加剂和一种水溶性金属盐,并且所述电解质不含有碳纳米管。本发明还涉及提供一种形成金属层的方法,该方法可以包括使用电解质在载体上沉积金属层,其中该电解质可以包括至少一种配置为在温度超过大约100℃时分解或蒸发的添加剂和一种水溶性金属盐,其中所述电解质不含有碳纳米管;以及对金属层退火以形成含有多个孔的金属层。本发明还涉及一种半导体器件,该半导体器件可以包括包含多个孔的金属层,其中所述多个孔可以形成在金属层中,同时添加剂的残余物存留在所述多个孔中并已经至少部分分解或蒸发。本发明还涉及一种金属层。
  • 电解质形成方法以及芯片

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