“F·J·J·范鲍克斯台尔”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果12个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]具有改良的图案化性能的光刻设备-CN201880080924.3在审
发明人： F·拉托雷;L·J·A·凡鲍克霍文;J·N·小方塞卡;G·彼得斯;E·H·E·C·奥姆梅伦;F·J·J·范鲍克斯台尔 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-11-22 - 公布日： 2020-07-31 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：公开了一种光刻设备包括：可移动的平台，包括配置成支撑图案形成装置的支撑结构；投影系统，配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上；和板，定位在可移动的平台和投影系统之间；板包括：第一表面，面对可移动的平台；第二表面，面对投影系统；开口，通过板以使得图案化的辐射束传递通过开口，其中开口至少具有从第一表面延伸至第二表面的第一侧和第二侧；在开口的第一侧中的一个或更多个气体出口和在板的第一表面中的一个或更多个气体出口，其中气体出口配置成使得气体经由气体出口被供应至可移动的平台和投影系统之间的区；在开口的第二侧中的一个或更多个气体入口，其中气体入口配置成使得气体经由气体入口从可移动的平台和投影系统之间的区中被抽取出来；和板的第一表面中的一个或更多个气体出口中的所有气体出口都定位和配置成使得对于一个或更多个气体出口中的每个气体出口，既正交于第一表面又与气体出口相交的线在图案形成装置的整个范围的移动期间在任何点处都不与图案形成装置相交。有利地，重叠误差低于利用已知的技术所实现的重叠误差。
具有改良图案化性光刻设备

[发明专利]光刻设备和器件制造方法-CN201580038638.7有效
发明人： G·纳齐博格鲁;F·J·J·范鲍克斯台尔;T·P·H·沃马丹;J·S·C·维斯特尔拉肯;J·P·科洛斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2015-06-08 - 公布日： 2019-12-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻设备，包括：具有光轴(O)的投影系统(PS)；具有环境气体的外壳(EN)；及容纳于所述外壳中的物理部件(WT)，其中：所述光刻设备配置用于使所述物理部件沿预定方向(SC)且在垂直于所述光轴的平面内经历相对于所述外壳的移动；所述光刻设备配置用于使所述物理部件在移动期间维持相对于外壳的预定取向；所述移动引起了相对于部件的环境气体的流；所述物理部件具有取向成垂直于所述光轴的第一表面(1)；所述部件包括配置用于引导所述环境气体的流远离所述第一表面的流引导系统。
光刻设备器件制造方法

[发明专利]台系统和光刻设备-CN201810554117.2在审
发明人： G·纳齐博格鲁;S·考斯吉恩斯;F·J·J·范鲍克斯台尔;E·范德帕斯奇;A·奈斯特;L·索桑娜 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2015-06-25 - 公布日： 2018-11-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：光刻设备包括光学传感器(24)、可移动主体(20)、支撑件、偏转器系统(22)、第一驱动系统和第二驱动系统。可移动主体能够相对于传感器移动。支撑件用于保持传感器。第一驱动系统被设置为使可移动主体相对于传感器移动。第二驱动系统被设置为使第一驱动系统相对于传感器移动。第二驱动系统被设置为使偏转器系统相对于传感器移动。可移动主体的移动引起扰动。偏转器系统被设置为形成用于将扰动反射离开支撑件的偏转区域。
驱动系统传感器移动可移动主体偏转器系统支撑件光刻设备扰动光学传感器偏转区域传感器台系统反射移动

[发明专利]光刻设备和器件制造方法-CN201580009245.3有效
发明人： G·纳齐博格鲁;M·范巴伦;F·J·J·范鲍克斯台尔;K·库依皮尔斯;J·G·高森;L·J·A·凡鲍克霍文 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2015-01-20 - 公布日： 2018-09-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种包括阻挡系统(3)的光刻设备，及使用如所描述的光刻设备中的任一个的器件制造方法。所述阻挡系统用以维持阻挡装置(4)内的气体的受保护体积。可在所述光刻设备的不同部件相对于彼此而移动时维持所述受保护体积。所述阻挡系统可用于所述光刻设备内的不同部位中。所述阻挡装置的几何构型影响所述受保护体积如何高效地被维持，尤其是在高速的情况下。本发明的几何构型减少从所述阻挡装置外部进入所述受保护体积的环境气体的量。
光刻设备器件制造方法

[发明专利]光刻设备和方法-CN201580043589.6有效
发明人： G·纳齐博格鲁;S·考斯吉恩斯;F·J·J·范鲍克斯台尔;E·范德帕斯奇;A·奈斯特;L·索桑娜 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2015-06-25 - 公布日： 2018-06-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：光刻设备包括光学传感器(24)、可移动主体(20)、支撑件、偏转器系统(22)、第一驱动系统和第二驱动系统。可移动主体能够相对于传感器移动。支撑件用于保持传感器。第一驱动系统被设置为使可移动主体相对于传感器移动。第二驱动系统被设置为使第一驱动系统相对于传感器移动。第二驱动系统被设置为使偏转器系统相对于传感器移动。可移动主体的移动引起扰动。偏转器系统被设置为形成用于将扰动反射离开支撑件的偏转区域。
驱动系统传感器移动可移动主体偏转器系统支撑件光刻设备扰动光学传感器偏转区域传感器反射移动

[发明专利]泵系统、二氧化碳供给系统、抽取系统、光刻设备和器件制造方法-CN201210548141.8有效
发明人： M·L·范德盖格;L·H·范德霍伊维尔;A·H·J·A·马登斯;F·J·J·范鲍克斯台尔 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2012-12-17 - 公布日： 2013-06-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种泵系统、一种二氧化碳供给系统、一种抽取系统、一种光刻设备和一种器件制造方法。所述抽取系统包括：泵，用于将气体沿着管道泵送至止回阀，所述止回阀配置成在上游压强高于一定的幅值时打开；压强传感器，用于生成指示在泵和止回阀之间的气压的信号；和控制器，所述控制器配置成在来自压强传感器的信号指示在泵和止回阀之间的气压低于一定的幅值的情况下生成停止信号。
系统二氧化碳供给抽取光刻设备器件制造方法

[发明专利]衬底台组件、浸没光刻设备以及器件制造方法-CN201210280770.7有效
发明人： J·G·C·昆尼;J·H·W·雅各布斯;M·霍本;T·S·M·劳伦特;F·J·J·范鲍克斯台尔;S·C·R·德尔克斯;S·N·L·唐德斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2012-08-08 - 公布日： 2013-03-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种衬底台组件、浸没光刻设备以及器件制造方法。所述衬底台组件包括：衬底台，用以支撑衬底；和气体处理系统，用以将气体提供至衬底台与安装在衬底台上的衬底之间的区域，其中由气体处理系统提供的气体的热导率在298K的条件下大于或等于100mW/(m.K)。
衬底组件浸没光刻设备以及器件制造方法

[发明专利]光刻设备和器件制造方法-CN201210082022.8有效
发明人： H·沃格;J·G·高森;B·D·帕尔惠斯;F·J·J·范鲍克斯台尔;李靖高 -专利权人： ASML控股股份有限公司;ASML荷兰有限公司
申请日： 2012-03-26 - 公布日： 2012-10-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻设备和制造器件方法。在实施例中，具有图案形成装置支撑件的设备包括：具有第一流限制表面的第一平坦元件；包括面对第一流限制表面的第二流限制表面的第二平坦元件；支撑件驱动器，相对于所述第二平坦元件沿着特定方向线性地移动所述支撑件，其中所述第一和第二流限制表面具有在所述第一和第二流限制表面之间的一个或更多的突起和/或凹陷，其中在第一和/或第二流限制表面上的突起和/或凹陷布置成提供流阻，在垂直于所述流的第一和/或第二流限制表面的每一单位宽度上的所述流阻对于平行于所述特定方向的流比对于垂直于所述特定方向的流更低。流限制表面可以将气流引导到产生热量的驱动器部分上。
光刻设备器件制造方法

[发明专利]投影系统、光刻设备和器件制造方法-CN201210060737.3无效
发明人： F·J·J·范鲍克斯台尔;R·F·德格拉夫;A·J·范德奈特;J·A·M·M·范尤杰叔格;L·H·范德霍伊维尔 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2012-03-09 - 公布日： 2012-09-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种投影系统、光刻设备和器件制造方法。其中公开了投影系统、光刻设备和器件制造方法的各种配置。根据所公开的配置，所述投影系统配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上。所述投影系统包括光学元件，所述光学元件包括第一面和第二面。所述第一面配置成暴露于连接至所述光刻设备的外面的外部气体环境。所述第二面配置成暴露于内部气体环境，所述内部气体环境实质上与所述外部气体环境隔离。所述投影系统还包括压强补偿系统，配置成响应于所述外部气体环境中的压强变化、或内部气体环境与外部气体环境之间的压差来调整所述内部气体环境中的压强。
投影系统光刻设备器件制造方法

[发明专利]气体歧管、光刻设备用模块、光刻设备及器件制造方法-CN201210048047.6有效
发明人： F·J·J·范鲍克斯台尔;P·达姆波沃尔;A·A·H·范德斯泰恩;R·B·J·科尔德维基 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2012-02-28 - 公布日： 2012-08-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种气体歧管、用于光刻设备的模块、光刻设备和器件制造方法。所述气体歧管用以在光刻设备的光学部件的两个平行板之间引导气流，所述气体歧管包括：入口，用以提供气流至气体歧管；格构件，包括用以使所述气流均匀化的多个通孔；位于所述格构件下游的收缩装置，用以减小气流流过的横截面面积；和位于收缩装置下游的出口，用以提供气流至所述两个平行板。
气体歧管光刻备用模块设备器件制造方法

[发明专利]气体歧管、用于光刻设备的模块、光刻设备和器件制造方法-CN201110316530.3有效
发明人： F·J·J·范鲍克斯台尔;M·J·M·范达姆;J·C·M·贾斯伯;R·范德哈姆;S·舒勒波夫;G·彼得斯;M·巴拉古拿;P·达姆波沃尔;A·A·H·范德斯泰恩 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2011-10-18 - 公布日： 2012-05-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种气体歧管、用于光刻设备的模块、光刻设备和器件制造方法，所述气体歧管用于在光刻设备的光学部件的两个板之间引导气流，所述气体歧管具有进口、在所述进口的下游的扩散器、在所述进口的下游的流整直器、在所述流整直器的下游的收缩器和在所述收缩器的下游的出口。
气体歧管用于光刻设备模块器件制造方法

[发明专利]光刻设备、照射系统、投影系统以及使用光刻设备制造器件的方法-CN201110069632.X有效
发明人： J·G·高森;A·J·范德奈特;B·D·帕尔惠斯;F·J·J·范鲍克斯台尔;李靖高 -专利权人： ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司
申请日： 2011-03-16 - 公布日： 2011-09-21 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻设备、照射系统、投影系统以及使用光刻设备制造器件的方法。提供一种气体幕帘以将光刻设备的构件与被污染气体分开。气体幕帘通过开口供给。开口位于与构件的表面接触的保护环境的边界处。气体幕帘可以将构件与设备的移动部分分开。
光刻设备照射系统投影以及使用制造器件方法

1
共 12 条