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专利名称

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申请人
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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]容器中冲净流速的远程优化-CN202180092700.6在审
发明人： M·A·富勒;N·伯吉特;K·A·雷诺兹;C·J·哈尔;M·C·扎布卡 -专利权人：恩特格里斯公司
申请日： 2021-12-29 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： H01L21/673 文献下载
摘要：优化衬底容器中的冲净流参数包含：使冲净工作流体流入所述衬底容器的内部中，从所述衬底容器的所述内部排放所述冲净工作流体，及在预定时段内变动所述冲净工作流体的冲净流参数，在所述预定时段期间检测所述衬底容器的所述内部中的至少一个环境状况，基于所述预定时段期间的所述经变动冲净流参数及所述至少一个经检测环境状况确定经优化冲净流参数，及根据所述经优化冲净流参数调整所述流入及所述排放。所述衬底容器可包含例如前开式晶片传送盒或光罩盒。
容器中冲净流速远程优化

[发明专利]用于衬底容器的歧管-CN202180018717.7在审
发明人： M·A·富勒;C·J·哈尔;I·迪特罗 -专利权人：恩特格里斯公司
申请日： 2021-03-04 - 公布日： 2022-10-25 - 主分类号： H01L21/673 文献下载
摘要：本发明揭示一种衬底容器，其包含界定内部空间的壳体及具有进口及气体分配表面的歧管。所述壳体包含前开口、底壁及后壁。所述歧管附接到所述底壁且更靠近所述前开口而非所述后壁。所述气体分配表面经配置以将净化气体分配到所述内部空间中。一种净化开口衬底容器的方法包含将净化气体的第一流供应到歧管及将净化气体的第二流供应到所述衬底容器的内部空间。所述方法还包含所述歧管将所述第一流的所述净化气体分配于所述衬底容器的所述内部空间内。
用于衬底容器歧管

[发明专利]晶片缓冲器-CN202080060001.9在审
发明人： C·J·哈尔;M·A·富勒 -专利权人：恩特格里斯公司
申请日： 2020-07-15 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： H01L21/673 文献下载
摘要：用于在晶片载体中使用的晶片缓冲器包含弹性梁，所述弹性梁包含：第一臂，其沿第一方向从所述晶片缓冲器的框架延伸；及第二臂，其沿第二方向从所述第一臂延伸；及晶片接触件，其位于所述第二臂的与所述第二臂结合到所述第一臂之处相对的端处。在正常条件期间，所述晶片缓冲器可仅在所述晶片接触件处接触所述晶片载体内的衬底。所述衬底也可在冲击事件发生时，接触所述第二臂上的次级接触点。所述晶片接触件可为v形沟槽式晶片接触件。所述晶片接触件可包含具有凸面的接触表面，所述接触表面经配置以在所述凸面处接触所述衬底。
晶片缓冲器

[发明专利]用于衬底容器的缓冲保持器-CN201780014884.8在审
发明人： M·富勒;C·J·哈尔 -专利权人：恩特格里斯公司
申请日： 2017-02-03 - 公布日： 2018-12-21 - 主分类号： H01L21/673 文献下载
摘要：本发明提供一种衬底保持器(110)，其呈现可适应上面的衬底对齐的位置的大变化的基本上均匀接触面(128)。允许所述均匀接触面(128)偏转并压缩以便消除衬底(114)被所述衬底保持器(110)损坏或被无意地夹紧于所述衬底保持器(110)内或者被所述均匀接触面(128)按压过紧的可能。在具有此布置的情况下，不利用粘合剂或胶带，因此不存在污染微环境的挥发性有机化合物的伴随除气或由于此些粘合剂及胶带与洗涤过程不兼容而导致的并发事件。
衬底保持器粘合剂胶带衬底挥发性有机化合物按压偏转并发事件衬底容器洗涤过程对齐保持器不兼容大变化微环境缓冲除气地夹压缩污染

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