专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果4个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]用于衬底容器的歧管-CN202180018717.7在审
  • M·A·富勒;C·J·哈尔;I·迪特罗 - 恩特格里斯公司
  • 2021-03-04 - 2022-10-25 - H01L21/673
  • 本发明揭示一种衬底容器,其包含界定内部空间的壳体及具有进口及气体分配表面的歧管。所述壳体包含前开口、底壁及后壁。所述歧管附接到所述底壁且更靠近所述前开口而非所述后壁。所述气体分配表面经配置以将净化气体分配到所述内部空间中。一种净化开口衬底容器的方法包含将净化气体的第一流供应到歧管及将净化气体的第二流供应到所述衬底容器的内部空间。所述方法还包含所述歧管将所述第一流的所述净化气体分配于所述衬底容器的所述内部空间内。
  • 用于衬底容器歧管
  • [发明专利]晶片缓冲器-CN202080060001.9在审
  • C·J·哈尔;M·A·富勒 - 恩特格里斯公司
  • 2020-07-15 - 2022-04-05 - H01L21/673
  • 用于在晶片载体中使用的晶片缓冲器包含弹性梁,所述弹性梁包含:第一臂,其沿第一方向从所述晶片缓冲器的框架延伸;及第二臂,其沿第二方向从所述第一臂延伸;及晶片接触件,其位于所述第二臂的与所述第二臂结合到所述第一臂之处相对的端处。在正常条件期间,所述晶片缓冲器可仅在所述晶片接触件处接触所述晶片载体内的衬底。所述衬底也可在冲击事件发生时,接触所述第二臂上的次级接触点。所述晶片接触件可为v形沟槽式晶片接触件。所述晶片接触件可包含具有凸面的接触表面,所述接触表面经配置以在所述凸面处接触所述衬底。
  • 晶片缓冲器

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top