专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]焊料印刷-CN202110948440.X在审
  • R·A·内多尔夫;B·库克;S·赫尔泽 - 德克萨斯仪器股份有限公司
  • 2021-08-18 - 2022-02-22 - B41M5/00
  • 一种方法(100)包括执行(106)非丝网印刷工艺,该非丝网印刷工艺将焊料沉积在引线框架上或半导体管芯或晶片的导电特征部上,或者沉积在层压结构的导电通孔上或层压结构的导电通孔中。该方法(100)还包括将半导体管芯接合(110)到引线框架,执行(112)使焊料回流的热工艺,执行(114)形成包封半导体管芯和引线框架的一部分的封装结构的模制工艺,以及从引线框架的剩余部分分离(116)封装电子器件。
  • 焊料印刷
  • [发明专利]使用前侧深沟槽刻蚀隔离电路元件-CN201610922836.6有效
  • D·卡罗瑟斯;R·杰克逊;R·穆霍帕迪亚;B·库克 - 德克萨斯仪器股份有限公司
  • 2016-10-26 - 2021-12-31 - H01L27/02
  • 本申请公开了使用前侧深沟槽刻蚀隔离电路元件。一种集成电路(400,图4)通过以下方式形成:形成穿过互连区域(404)的至少部分的隔离沟槽(430、432、434),该沟槽深入集成电路的基板(402)中至少40微米,至少200微米的基板材料留在隔离沟槽下方。介电材料(434)在不大于320℃的基板温度下形成在隔离沟槽中以形成隔离结构(424),该隔离结构(424)将集成电路的隔离区域(438)与基板的至少部分分隔。隔离区域包含隔离组件(406)。集成电路的隔离区域可为基板中的区域,和/或互连区域中的区域。隔离区域可为基板的第一部分,其与基板的第二部分侧向地分隔。隔离区域可为在隔离结构上方的互连区域的部分。
  • 使用深沟刻蚀隔离电路元件
  • [发明专利]用于光敏印刷元件的载体片-CN201080051960.0有效
  • J·亨尼西;D·X·埃尔韦尔;N·R·皮纳;B·库克;R·维斯特 - 麦克德米德印刷方案股份有限公司
  • 2010-10-01 - 2012-09-12 - B41M5/00
  • 本发明涉及一种用于热显影柔性版印刷元件,以使浮凸图像在其表面露出的设备,以及使柔性版印刷元件显影的方法。该方法包括在柔性版印刷元件的已成像且已曝光的表面上软化或熔化交联光聚合物。该设备包括一个辊,其与柔性版印刷元件的已成像的表面接触并沿该表面移动,以去除在柔性版印刷元件的已成像且已曝光的表面上软化或熔化的未交联光聚合物。通过使用毗邻设置在柔性版印刷元件的已成像的表面上的加热器,或通过加热与印刷元件表面相接触的辊,使未交联光聚合物软化或熔化。非强制选择地,该设备还包括在热显影前,固化柔性版印刷元件已成像的表面的装置。
  • 用于光敏印刷元件载体

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