专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]具有深沟槽隔离岛的ESD保护器件-CN201911146637.0在审
  • 陈在晨;A·A·萨尔曼;B·胡 - 德克萨斯仪器股份有限公司
  • 2019-11-21 - 2020-05-29 - H01L27/02
  • 本申请涉及具有深沟槽隔离岛的ESD保护器件,并公开一种电子器件(100),其包括具有第二导电类型的衬底(105),该衬底包括具有掩埋层(BL)的半导体表面层(115),该掩埋层(BL)具有第一导电类型。均具有第一导电类型的第一掺杂区域(例如集电极)(117)和第二掺杂区域(例如发射极)(119)在半导体表面层中,其中具有第二导电类型的第三掺杂区域(例如基极)(118)在第二掺杂区域内,其中第一掺杂区域在第三掺杂区域下方并横向于第三掺杂区域延伸。至少一排深沟槽(DT)隔离岛(1251‑12515)位于第一掺杂区域内,每个隔离岛都包括沿沟槽侧壁从半导体表面层延伸到BL的电介质衬垫,以及从半导体表面层延伸到BL的相关联的深掺杂区域(125a)。深掺杂区域可以合并,从而形成跨越DT岛的合并的深掺杂区域。
  • 具有深沟隔离esd保护器件
  • [发明专利]双向静电放电(ESD)保护器件-CN201310151775.4有效
  • H·L·爱德华兹;A·A·萨尔曼 - 德克萨斯仪器股份有限公司
  • 2013-04-27 - 2017-09-22 - H01L27/02
  • 本发明涉及一种双向静电放电(ESD)保护器件,其包括具有顶部半导体表面的衬底,所述顶部半导体表面包括形成于其中的第一可控硅整流器(SCR)和第二SCR,所述SCR包括图案化的p掩埋层(PBL),所述PBL包括多个PBL区域。所述第一SCR包括第一和第二n沟道远端漏极MOS器件,每个MOS器件具有栅极和在p‑本体内的源极并且共享第一合并漏极。所述第二SCR包括第三和第四n沟道远端漏极MOS器件,每个MOS器件具有栅极和在p‑本体内的源极并且共享第二合并漏极。所述多个PBL区域只在所述源极的至少一部分下面,而排除在任一合并漏极下面。
  • 双向静电放电esd保护器件
  • [发明专利]在沟槽下方具有沉块扩散区的双极晶体管-CN201480037806.6在审
  • H·L·爱德华兹;A·A·萨尔曼 - 德克萨斯仪器股份有限公司
  • 2014-07-02 - 2016-03-09 - H01L29/72
  • 在所述示例中,一种双极晶体管(100)包括:具有半导体表面(106)的衬底(105);以及第一沟槽封装件和第二沟槽封装件(121,122),这两个沟槽封装件均至少内衬有电介质,所述电介质从所述半导体表面(106)的顶侧(106a)向下延伸至沟槽深度。所述第一沟槽封装件(121)限定内封闭区。基极(140)和在所述基极(140)中形成的发射极(150)在所述内封闭区之内。埋层(126)在所述沟槽深度之下,包括在所述基极(140)下方。沉块扩散区(115)包括在所述第一沟槽封装件和第二沟槽封装件(121,122)之间的从所述半导体表面(106)的所述顶侧(106a)延伸到所述埋层的第一部分(115a),和在所述内封闭区之内的第二部分(115b)。所述第二部分(115b)不延伸至所述半导体表面(106)的所述顶侧(106a)。
  • 沟槽下方具有扩散双极晶体管

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