专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体装置-CN200910166647.0有效
  • 高桥和也 - 三洋电机株式会社;三洋半导体株式会社
  • 2009-08-24 - 2010-03-03 - H01L29/73
  • 在具有两层电极结构的分立式双型晶体管中,将第一层发射电极与发射区域由形成于它们之间的第一绝缘膜的发射接触孔连接。将第二层发射电极与第一层发射电极由形成于它们之间的第二绝缘膜的发射通孔连接。故在第二层发射电极下方,发射接触孔和发射通孔重叠,产生两个绝缘膜厚度的高度差。该高度差也影响第二层发射电极表面,在其上使用焊料粘合金属片时,由于凹凸大产生不良粘合。本发明的半导体装置使设于第一层发射电极上下的发射接触孔和发射通孔不重叠,对于一个发射电极使发射接触孔和发射通孔相互分开地配置多个。故在第二层发射电极表面,即便高度差为最大,也仅受设于膜厚较厚的绝缘膜的发射通孔高度差的影响,第二层电极表面的平坦性提高。可以避免金属片不良粘合。
  • 半导体装置
  • [发明专利]半导体装置-CN202010376529.9在审
  • 梅本康成;小屋茂树;大部功;井手野馨 - 株式会社村田制作所
  • 2020-05-07 - 2020-11-10 - H01L29/737
  • 在基板上依次配置有集电极层、基极层、发射层、以及发射台面层。还配置有基极电极以及发射电极。在俯视时,发射台面层具有在第一方向上长的形状,基极电极包含与发射台面层在第一方向上隔着间隔配置的基极电极焊盘部。在发射电极以及基极电极上,分别配置有发射布线以及基极布线。发射布线通过发射接触孔与发射电极连接。在第一方向上,发射台面层的基极布线侧的边缘与发射接触孔的基极布线侧的边缘的间隔比发射台面层与基极布线的间隔窄。
  • 半导体装置
  • [发明专利]太阳电池及太阳电池的制备方法-CN202310341102.9在审
  • 张倬涵;陈达明;胡匀匀;柳伟;季雯娴;杨睿;徐冠超;张学玲;杨广涛;陈奕峰 - 天合光能股份有限公司
  • 2023-03-31 - 2023-06-23 - H01L31/0216
  • 本公开提供了一种太阳电池,包括:衬底、第一发射、第二发射、绝缘间隔结构、第一电极和第二电极;衬底具有相对设置的正面和背面;第一发射和第二发射设置于衬底的背面,第一电极设置于第一发射远离衬底的一侧且电连接于第一发射,第二电极设置于第二发射远离衬底的一侧且电连接于第二发射;绝缘间隔结构设置于第一发射与第二发射之间,且第一发射与第二发射通过绝缘间隔结构相间隔。绝缘间隔结构将第一发射与第二发射进行有效地间隔,避免载流子在第一发射与第二发射的界面上的复合,因而能够有效降低太阳电池的反向漏电,提高太阳电池的效率。
  • 太阳电池制备方法
  • [实用新型]一种IGBT芯片版图金属层-CN202021820854.1有效
  • 郭乔;林泳浩;李伟聪 - 珠海市浩辰半导体有限公司
  • 2020-08-27 - 2021-03-05 - H01L27/02
  • 本实用新型公开一种IGBT芯片版图金属层,芯片版图包括元胞区、终端区、栅极压焊点、发射压焊点;所述终端区位于元胞区的外围,栅极压焊点、发射压焊点位于元胞区内部;其特征在于,版图金属层包括发射金属及栅极金属;所述发射金属包括位于元胞区内部的第一发射金属,以及位于元胞区与终端区连接过渡区的第二发射金属;所述第二发射金属在过渡区环绕构成等位环场板,并与第一发射金属电连接;所述栅极金属环绕在第一发射金属与第二发射金属之间,并留有第一发射金属与第二发射金属电连接的通道。本实用新型能够满足发射金属和栅极金属的设计要求,增加电流流通路径,改善电流均匀性,提高关断能力。
  • 一种igbt芯片版图金属
  • [发明专利]一种新型绝缘栅双极性晶体管-CN202110873522.2在审
  • 何艳静;詹欣斌;袁嵩;弓小武 - 西安电子科技大学
  • 2021-07-30 - 2021-12-07 - H01L29/739
  • ;N‑漂移区,位于N+缓冲区之上;表面结构,位于N‑漂移区之上,表面结构包括:两个沟槽栅极,沟槽栅极延伸至N‑漂移区;P基区以及浮空P基区,P基区位于沟槽栅极的内侧,浮空P基区位于沟槽栅极的外侧;沟槽发射,位于P基区中;第一N+发射以及P+发射,位于沟槽栅极内侧;第一N+发射和P+发射依次交替设置在垂直于平面的z方向上;第二N+发射,位于沟槽发射的两侧;顶部发射,覆盖P基区、浮空P基区、沟槽栅极、第一N+发射和P+发射、沟槽发射以及第二N+发射,且顶部发射连接沟槽发射
  • 一种新型绝缘极性晶体管
  • [发明专利]功率放大器模块-CN201811182641.8有效
  • 近藤将夫;柴田雅博 - 株式会社村田制作所
  • 2018-10-11 - 2023-09-01 - H01L23/367
  • 在活性区域上层叠有集电极层、基极层以及发射层。由层间绝缘膜覆盖集电极层、基极层以及发射层。垫片与元件分离区域热耦合。在层间绝缘膜上配置有发射凸块。发射凸块经由设置于层间绝缘膜的导通孔与发射层电连接,并且也与垫片电连接。在俯视时,发射凸块与发射层中的流过发射电流的区域亦即发射区域部分地重叠。
  • 功率放大器模块
  • [发明专利]具有两个辅助发射导体路径的半导体模块-CN201580008490.2有效
  • S.哈特曼;D.科泰特;S.基钦 - ABB瑞士有限公司
  • 2015-01-14 - 2018-10-19 - H01L23/64
  • 半导体模块(10)包括:至少一个半导体芯片(12),其包括至少一个半导体开关(14),该至少一个半导体开关(14)具有集电极(18)、发射(22)和栅极(20);集电极端子(24),其连接到集电极(18);栅极端子(26),其连接到栅极(20);发射端子(28),其经由具有发射电感(32)的发射导体路径(30)连接发射(22);辅助发射端子(38),其连接发射(22);第一导体路径(34),其连接发射(22);和第二导体路径(36),其连接发射(22)具有与第一导体路径(34)不同的与发射导体路径(30)的互感耦合。第一导体路径(34)和第二导体路径(36)能连接到辅助发射端子(38)和/或第一导体路径(34)连接到辅助发射端子(38)并且第二导体路径(36)连接到第二辅助发射端子(44)。半导体开关(14)是IGBT,并且第一导体路径(34)和第二导体路径(36)中的每个包括桥接点(40),用于使相应导体路径连接到辅助发射端子(38)。
  • 具有两个辅助发射极导体路径半导体模块
  • [发明专利]半导体器件及其制造方法-CN201911347505.4在审
  • 长田尚 - 瑞萨电子株式会社
  • 2019-12-24 - 2020-07-07 - H01L29/739
  • 具体地,该半导体器件包括:条状沟槽栅极、条状沟槽发射、N型发射层、P型基极层和P型基极接触层,该条状沟槽发射布置为面向沟槽栅极,该N型发射层和该P型基极层被该沟槽栅极和该沟槽发射包围,并且P型基极接触层布置在形成在半导体衬底中的沟槽发射的一侧上P型基极接触层、发射层和沟槽发射发射电极共同地连接,并且沟槽发射在半导体衬底的厚度方向上形成得比沟槽栅极更深。
  • 半导体器件及其制造方法
  • [实用新型]一种碳硅硫净化器能量转换棒-CN202222535524.3有效
  • 张景尧 - 张景尧
  • 2022-09-23 - 2023-01-10 - C02F5/00
  • 本实用新型公开了一种碳硅硫净化器能量转换棒,包括发射发射座、出线管,发射座通过密封螺丝与碳硅硫净化器本体密封连接,出线管设置在发射座上,发射通过射频线与碳硅硫净化器本体的信号发射连接,射频线设置在出线管的内部,发射的外部罩设有塑料套管,塑料套管的一端通过密封压盘一与发射连接。本实用新型采用上述结构的碳硅硫净化器发射,能够解决现有的碳硅硫净化器能量转换棒更换困难以及不易加工的问题。
  • 一种碳硅硫净化器能量转换
  • [发明专利]电子源装置-CN200510106468.X无效
  • 山本睦;古贺启介;盐田昭教 - 松下东芝映象显示株式会社
  • 2005-09-26 - 2006-03-29 - H01J1/30
  • 一种电子源装置,其包括:多个电子发射部分,它们被布置在Si基底上的矩阵中;以及多条相互正交的发射线和栅极线,多个电子发射部分中的每一个发射部分都由来自于多条发射线和多条栅极线的信号进行控制,以执行相互独立的发射电子操作另外,设置了包围着对应发射线的器件隔离区;在各条发射线上制出接触孔;在被器件隔离区包围着的区域的外部区域上,设置了与各条发射线相对应的多个发射线安装电极;以及借助于接触孔,连接到各个发射线安装电极的导线被连接到与各个发射线安装电极所对应的发射线上
  • 电子装置
  • [发明专利]高频晶体管-CN201510208919.4有效
  • 潘光燃;文燕;高振杰;马万里;石金成 - 北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司
  • 2015-04-28 - 2019-05-14 - H01L29/417
  • 本发明提出了一种高频晶体管,包括:多个并行的发射区窗口;多个并行的发射金属,多个所述发射金属中的每个所述发射金属均覆盖在多个所述发射区窗口中的每个所述发射区窗口的上方,其中,多个所述发射金属中的第一个发射金属和最后一个发射金属独立于其他发射金属,且所述其他发射金属均并行相连,其中,所述其他发射金属为多个所述发射金属中除所述第一个发射金属和所述最后一个发射金属之外的发射金属。通过本发明的技术方案,可以确保线宽相同的相互平行的高频晶体管的发射区窗口在复制到晶圆后,多发射高频晶体管内部不同位置的发射可以产生一致的高频特性,以避免使多发射高频晶体管产生较大噪音。
  • 高频晶体管

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