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[发明专利]检测装置、检测方法、加工设备及加工方法-CN202211533112.4在审
发明人：罗先刚;张逸云;赵承伟;龚天诚;张文豪;王彦钦;王长涛 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2022-12-01 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： G01B11/30 文献下载
摘要：本公开提供一种检测装置、检测方法、加工设备及加工方法，检测装置包括：激光干涉仪，用于发射激光光束与待处理元件表面形成干涉条纹，带动干涉条纹移相，采集干涉条纹的相位信息，根据干涉条纹的相位信息获得连续面形数据；白光干涉检测头，用于对待处理元件表面进行垂直扫描，获取离散微结构的形貌数据。加工设备包括：如上述的检测装置，用于测量待处理元件表面的连续面形数据和离散微结构的形貌数据，将连续面形数据和离散微结构的形貌数据匹配生成待处理元件表面的全貌数据；加工装置，用于根据全貌数据生成加工参数，根据加工参数对待处理元件表面进行单点非耦合加工。该装置、设备及方法能够实现离散微结构表面的高精度检测及加工。
检测装置方法加工设备

[发明专利]一种白光干涉检焦系统和解调方法-CN202211742364.8在审
发明人：褚燕武;龚天诚;王彦钦;赵承伟;张煜;贾桂园 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2022-12-30 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： G01B11/14 文献下载
摘要：本公开提供了一种白光干涉检焦系统和解调方法，该系统包括：白光光源；模板，其上制备有图形；基板，放置于承片台上；光谱仪，用于透过图形采集模板与基板之间的白光干涉信号；控制系统，用于根据干涉信号采用傅里叶变换解调方法、互相关计算解调方法或模型传递解调方法计算模板与基板之间的间隙值。本公开利用该检焦系统，在较大的距离测量范围内，根据反射光谱的不同形状，采取不同的解调方法，该间隙解调方法消除了图形化表面对检焦光谱的影响，突破了因检焦窗口导致的对模板图形布局的限制。
一种白光干涉系统解调方法

[发明专利]一种间隙检测系统、方法及焦面修正的方法-CN202211672168.8在审
发明人：罗先刚;王彦钦;赵承伟;龚天诚;王长涛;张文豪;张逸云;唐燕 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2022-12-23 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本公开提供一种间隙检测系统，用于检测模板和基板之间的全局间隙数据，包括：支撑框架；模板架，包括检焦模块，用于实时监测模板与基板之间的间隙数据；工件台模块，包括承片台，用于调整基板的位置和姿态；正立面形检测模块，用于对基板进行检测，得到第一面形数据；折转面形检测模块，可在检测位置、避让位置之间进行位置切换，用于对模板进行检测，得到第二面形数据；控制系统，用于获取模板、基板的位置数据以及正立面形检测模块、折转面形检测模块的标定数据，在获取模板与基板间的倾斜角度后，用于结合位置数据、标定数据、第一面形数据和第二面形数据计算得到模板与基板之间的全局间隙数据。
一种间隙检测系统方法修正

[发明专利]一种吸盘气道的设计方法、吸盘和设计装置-CN202310089780.0在审
发明人：罗先刚;赵承伟;张逸云;龚天诚;任传鑫;张文豪 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2023-02-09 - 公布日： 2023-04-14 - 主分类号： B65G47/91 文献下载
摘要：本公开提供一种吸盘气道的设计方法、吸盘和设计装置，设计方法包括：在吸盘的吸附面上离散设置M个孔；从M个孔中随机选择N个孔加载真空，将压强载荷几何映射到样品上，其他孔合并为吸附面，计算组样品最大形变量与最小形变量间的形变量差值；分别计算N＝1～M时，样品的形变量差值；对形变量差值从小到大排序，统计前P％形变量差值中孔被选用的频次，选用频次最高的前Q个孔之间的吸附面加工为吸盘气道。该设计方法可以高效率、自动化的挑选出对样品吸附面形影响小的孔，降低吸盘吸附样品后，吸附力对样品面形的影响；并且该设计方法适用于不同形状、尺寸、材质和重量的样品，通用性强。
一种吸盘设计方法装置

[发明专利]一种图案形成装置的热控方法-CN202211715722.6在审
发明人：赵承伟;王彦钦;任传鑫;龚天诚;张逸云;陈小安 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2022-12-29 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本公开提供了一种图案形成装置的热控方法，包括：S1，开启补偿照明，将图案形成装置加热至热平衡温度区间后，关闭补偿照明；补偿照明的照明区域面积为SC1×C2；S2，开启第一检测照明，检测步骤完成后关闭第一检测照明；第一检测照明的照明区域面积为SD1×D2；S3，开启曝光照明，曝光步骤完成后关闭曝光照明；曝光照明的照明区域面积为SE1×E2；其中，SC1×C2≥SD1×D2≥SE1×E2；S1、S2和S3在相互切换过程中，图案形成装置温度维持在热平衡温度区间；在热平衡温度区间内，补偿照明区域边缘Z向形变量ΔΔZC1×C2大于等于图案形成装置中心Z向的形变量ΔZ的50％。本公开通过引入补偿照明，实现图案形成装置长时间维持热平衡，使得图案形成装置的图形能维持稳定的变形。
一种图案形成装置方法

[发明专利]F-P传感器探头、绝对距离测量装置及方法-CN202211534663.2在审
发明人：罗先刚;龚天诚;赵承伟;王彦钦;贾桂园;褚燕武;王长涛 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2022-12-01 - 公布日： 2023-03-03 - 主分类号： G01D5/353 文献下载
摘要：本公开提供一种F‑P传感器探头、绝对距离测量装置及方法，涉及非接触式绝对距离测量技术领域。该结构包括第一N+1芯多模光纤头(9)、光纤套筒(10)、成像镜组(11)和标准镜(12)，其中：沿F‑P传感器探头向样品(8)的方向，所述光纤套筒(10)内部依次固定有所述第一N+1芯多模光纤头(9)、成像镜组(11)和标准镜(12)；所述第一N+1芯多模光纤头(9)包括N根第一多模光纤(16)和1根第二多模光纤(17)，N≥2，所述N根第一多模光纤(16)围绕所述第二多模光纤(17)排布。
传感器探头绝对距离测量装置方法

[发明专利]一种图案形成装置的调节与保护系统及方法-CN202211442774.0在审
发明人：赵承伟;张煜;龚天诚;王彦钦 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2022-11-17 - 公布日： 2023-02-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本公开提供一种图案形成装置的调节与保护系统及方法，该系统包括：安装板(1)；吸盘(2)，固定于所述安装板(1)的下方，用于吸附和释放图案形成装置(3)；调节机构(5)，固定于所述安装板(1)的下方且环绕于所述图案形成装置(3)的周围，用于调节所述图案形成装置(3)在平面上的移动和旋转，以使所述图案形成装置(3)到达目标位置；保护机构(6)，固定于所述安装板(1)的下方且环绕于所述图案形成装置(3)的周围，并与所述调节机构(5)错开设置，用于承托保护所述图案形成装置(3)避免其在工作过程中掉落。本公开的系统可实现图案形成装置目标位置的高精度调节，并提供常开保护。
一种图案形成装置调节保护系统方法

[发明专利]多功能匀光耦合装置及标定检测的方法-CN202211342590.7在审
发明人：邵洪禹;赵立新;何渝;龚天诚;吴斯翰;王彦钦;王长涛 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2022-10-28 - 公布日： 2023-01-13 - 主分类号： G02B6/26 文献下载
摘要：本公开提供一种多功能匀光耦合装置及标定检测的方法，该多功能匀光耦合装置沿光路方向依次包括：光源切换单元，包括位移调节台、光纤固定板和入射光纤，入射光纤包括第一光纤和第二光纤；第一光纤、第二光纤固定于光纤固定板上，通过位移调节台进行光纤的切换；匀光耦合单元，包括镜筒、光棒和多个透镜，光棒用于将光纤中的光束进行耦合并匀化，多个透镜用于将发散角较大的光束转化为发散角较小的光束并进行会聚；视场可调单元，用于调节光束的照明面积和照明形状；接收光纤，用于接收匀化后的光束并传递至后续光路。本公开的装置能实现能量的充分耦合，同时可实现光源模式切换、光开关可控、视场可调的功能。
多功能耦合装置标定检测方法

[发明专利]一种表面改性的衬底保持器及其制备方法-CN202211219961.2在审
发明人：罗先刚;张逸云;赵承伟;龚天诚;张文豪 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2022-09-30 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本公开提供了一种表面改性的衬底保持器及其制备方法，该制备方法包括：S1，在粗抛光后的基板上沉积改性层，改性层为易于刻蚀的材料；S2，对改性层进行精抛光，精抛光达到的平面度大于粗抛光达到的平面度；S3，在精抛光后的改性层上形成耐磨层；S4，在耐磨层上形成光刻胶层，对光刻胶层进行曝光、显影，得到第一图形结构；S5，在显影后的光刻胶层上生长金属掩模层，再剥离去除光刻胶层，在金属掩模层中得到第二图形结构；S6，采用反应离子刻蚀将第二图形结构转移至改性层中，去除金属掩模层，得到表面改性的衬底保持器。本公开的方法能够简单高效地加工出高精度的衬底保持器，满足高制程加工的需求。
一种表面改性衬底保持及其制备方法

[发明专利]紫外发光二极管曝光装置及系统-CN202211332385.2在审
发明人：罗先刚;赵承伟;龚天诚;贾桂园;王长涛;王彦钦 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2022-10-27 - 公布日： 2022-12-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本公开提供一种紫外发光二极管曝光装置及系统，涉及曝光处理技术领域，装置包括：紫外发光二极管光源，包括阵列贴片式的紫外发光二极管灯珠，紫外发光二极管灯珠用于发射紫外光束；准直镜组，用于对紫外光束进行收光准直；复眼镜组，用于对收光准直后的紫外光束进行匀光；聚光镜组，用于对匀光后的紫外光束进行聚光；曝光面，用于利用聚光后的紫外光束进行曝光的工作面；控制模块，用于通过高频开关模式，独立控制每个紫外发光二极管灯珠的开关。该紫外发光二极管曝光装置及系统有效地提高了光源输出功率的稳定性及能量的利用率，减少了发热和提高散热效果，实现了紫外光束的高效准直，并且，满足设备框架和其他部件空间限制要求。
紫外发光二极管曝光装置系统

[发明专利]成像光学系统和成像检测系统-CN202211011326.5在审
发明人：罗先刚;邵洪禹;赵立新;何渝;龚天诚;吴斯翰;王彦钦;王长涛 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2022-08-22 - 公布日： 2022-11-29 - 主分类号： G02B13/00 文献下载
摘要：本公开提供一种成像光学系统及成像检测系统，成像光学系统由物方开始依次包括：第一透镜、第二透镜、第三透镜、第一透镜组、孔径光阑、第二透镜组、第三透镜组、第十透镜、第十一透镜、玻璃补偿板和第四耦合棱镜；其中：第一透镜用于校正轴外场曲，第二透镜和第三透镜用于校正彗差和场曲；第一透镜组用于校正色差及平衡剩余球差，第二透镜组和第三透镜组用于校正色差；孔径光阑用于限制成像光束的大小；第十透镜用于平衡和校正场曲以及拉长后工作距，第十一透镜用于平衡和校正场曲、拉长后工作距以及会聚光路；玻璃补偿板用于补偿更换不同材料的待测物体的光程；第四耦合棱镜用于进行光路的分光耦合，向待测物体表面引入照明光。
成像光学系统检测系统

[发明专利]一种原位间隙检测装置与检测方法-CN202010138013.0有效
发明人：罗先刚;王长涛;赵承伟;龚天诚;罗云飞;张逸云 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2020-03-03 - 公布日： 2022-06-28 - 主分类号： G01B11/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种原位间隙检测装置与检测方法。该装置包括：用于支撑整体结构的外围框架；用于精密定位、调平、间隙控制和承载样片的工件台模块；用于装载母板、检测调平精度的承载模块；用于测量原位间隙的原位间隙检测模块；用于数据采集、处理与反馈控制的控制系统。该发明基于白光干涉间隙测量方法，通过外围三点监测母板与样片之间的间隙，并反馈控制工件台模块进行精密调平与间隙控制。同时结合白光干涉间隙测量方法与显微成像方法，对母板与样片中间工作区域进行横向分辨力高、检测精度高的原位间隙检测。
一种原位间隙检测装置方法

[发明专利]一种同时具有高增强和高重复性的表面增强拉曼散射基底及其制备方法-CN202010227993.1在审
发明人：岳伟生;张涛;龚天诚 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2020-03-27 - 公布日： 2020-06-16 - 主分类号： G01N21/65 文献下载
摘要：本发明提供一种同时具有高增强和高重复性的表面增强拉曼散射(SERS)基底及其制备方法。该基底为二聚体纳米柱结构，至下而上依次为硅片和二聚体纳米柱阵列。二聚体纳米柱是一对纳米柱，是由电子束光刻结合等离子刻蚀加工而成，其表面是金属膜(金或银)。由于金属纳米柱局域表面等离子共振和激发表面等离子波共同作用，二聚体纳米柱阵列表现出良好的SERS增强性和可重复性。研究得到圆形二聚体纳米柱的SERS增强因子达到6.4×109，测量的可重复性(标准项目对偏差RSD)为～5％。与现有平面规则纳米结构SERS基底相比，本发明的一种表面增强拉曼散射基底的增强因子可提高2‑3个数量级，而且机械性能好、容易制作。
一种同时具有增强重复性表面散射基底及其制备方法

[发明专利]一种被动调平结构的检平装置与方法-CN202010138021.5在审
发明人：罗先刚;赵承伟;龚天诚;王长涛;张逸云 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2020-03-03 - 公布日： 2020-06-12 - 主分类号： G01C15/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种被动调平结构的检平装置和方法，属于被动调平结构的技术领域。该装置包括用于产生相对位移的驱动模块、用于实现被动调平的调平模块、用作检测光源的光源模块、用于调平状态监测的检平模块以及用于信号采集与反馈控制的控制系统。该装置和方法通过准直激光入射到被动调平的反射板上，通过位置敏感探测器探测反射回来的光束，进而判断调平状态，有效的解决了被动调平结构的检平问题，具有实时、非接触和高精度检测等特点。
一种被动结构平装方法

[发明专利]一种基于白光干涉间隙检测和超精密对准套刻技术的分离式近场微纳光刻方法和装置-CN201711334920.7在审
发明人：罗先刚;龚天诚;赵承伟;王长涛;刘玲;张健;刘凯鹏 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2017-12-14 - 公布日： 2018-05-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于白光干涉间隙检测和超精密对准套刻技术的分离式近场微纳光刻方法和装置，该方法可实现大面积分离式曝光和超精密对准套刻，该装置包括超精密环控系统、主动隔振平台、支撑框架、紫外曝光光源、光刻镜头模块、间隙检测系统、对准模块、承片台模块和控制系统。该装置通过白光干涉光谱测量技术，可实现纳米量级的在线间隙检测和调平，从而实现分离式曝光；通过对准模块和控制系统，可实现超精密对准套刻技术。
一种基于白光干涉间隙检测精密对准技术分离近场光刻方法装置

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