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[实用新型]一种侧翼稳态导流喇叭式镀液搅动喷嘴-CN202223061384.7有效
发明人：傅新民;黄品椿;黄信翔;黄信航;黄新雅;王敬宇;李宏隆;张德全;刘玉珍;付亮;付玉闯 -专利权人：昊鼎环保科技（湖北）有限公司;傅新民
申请日： 2022-11-18 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： C25D5/08 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种侧翼稳态导流喇叭式镀液搅动喷嘴，包括喷流嘴，所述喷流嘴与管道的连接头连通，所述喷流嘴的端部拆卸连接有扩散头，所述扩散头与所述喷流嘴之间连接形成有引流口，所述喷流嘴的水流通道上设置有旋流芯，所述旋流芯插入至所述喷流嘴的内腔相抵接，镀液经喷流嘴内由旋流芯产生旋流流出并引流引流口镀液通过扩散头排出。有益效果：通过喷流嘴、扩散头和旋流芯的改进，这种制作方便、成本较低的加强结构，并且对流量、搅动面积以及搅动距离等效能方面都有大幅的提升，有效的提高镀槽内镀液的稳定性。在相同效能条件下对比传统的搅动喷嘴，可减少喷嘴的配置数量，降低设备的制造成本。
一种侧翼稳态导流喇叭式镀液搅动喷嘴

[发明专利]一种电路板交换载具的方法及系统-CN202210631170.4在审
发明人： 黄品椿;黄信翔;黄信航 -专利权人：黄信翔
申请日： 2022-06-06 - 公布日： 2022-07-29 - 主分类号： C23C18/16 文献下载
摘要：本发明公开了一种电路板交换载具的方法及系统，系统包括第一循环系统、交换输送机及第二循环系统，其方法步骤为：使用第一载具承载电路板于第一化学沉积槽以逐片移动方式于电路板表面沉积第一金属层；将第一载具移出第一化学沉积槽进入第一水洗槽，去除所附着的化学药剂；将第一载具移至交换输送机，电路板自第一载具内取出，经输送后再送入第二载具内；第二载具承载电路板于第二化学沉积槽内以逐片移动方式于电路板表面沉积第二金属层；将第二载具移出第二化学沉积槽进入第二水洗槽，去除所附着的化学药剂；以及将电路板自第二载具内取出，避免让第一载具浸镀二层金属沉积层，节省后续去除作业及避免贵金属的浪费。
一种电路板交换方法系统

[发明专利]无铬环保镀金属膜结构系统-CN201510649920.0有效
发明人：傅新民;上野山卫;黄品椿;刘玉珍;粱翰妮;张春梵;李清勇;刘智仁;范银娇;李惠洲;许远培 -专利权人：凯基有限公司
申请日： 2015-10-09 - 公布日： 2019-03-19 - 主分类号： C23C18/22 文献下载
摘要：本发明提供一种无铬环保镀金属膜结构系统，其包括：一有机化合物基板，具有至少一有机化合物；一硅基亲水沉积层，沉积于有机化合物基板上，以形成具有亲水性的一粗糙表面；一离子键结敏化层，形成于硅基亲水沉积层上，且具有多个钯离子；一无电解金属镀层，形成于离子键结敏化层上，且具有多个金属离子，其中，多个金属离子与多个钯离子形成多个键结，无电解金属镀层的表面接收一光源照射，使在硅基亲水沉积层及离子键结敏化层与无电解金属镀层之间分别移出氢气及/或氢化合物。
环保镀金膜结构系统

[实用新型]浸泡槽阻水装置-CN201721448370.7有效
发明人：杨波;黄品椿;朱科星;张长树 -专利权人：苏州创峰光电科技有限公司
申请日： 2017-11-02 - 公布日： 2018-06-01 - 主分类号： H05K3/06 文献下载
摘要：本实用新型公开一种浸泡槽阻水装置，主要特征在于在电路板湿制程槽体内的输送滚轮下方设置可以水平调整位移的阻水板，并且所述阻水板以固定组件可以从上方固定或释放，因此方便调整漏液量大小、操作方便、方便目视、精准度高、不易造成阻水板擦伤阻水滚轮。
阻水板阻水装置浸泡槽电路板本实用新型固定组件输送滚轮水平调整阻水滚轮擦伤精准度漏液量湿制程目视体内释放

[实用新型]排水溢流防倒灌装置-CN201721243173.1有效
发明人：沈海华;黄品椿;朱科星;张长树 -专利权人：苏州创峰光电科技有限公司
申请日： 2017-09-26 - 公布日： 2018-03-30 - 主分类号： F16K15/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种排水溢流防倒灌装置，其包括主体套筒；垫环，其插设于所述主体套筒的顶端部之中，其顶端面与所述主体套筒的顶端面相齐平；迫紧，其嵌入所述垫环中，其上设置有中心通孔；逆止接头，其顶端部具有圆弧面，其插设于所述主体套筒内，并与所述主体套筒之间形成有废液流出通道，当所述溢流管内的废液倒流时，所述逆止接头在废液的浮力作用下被顶起，其圆弧面密封死所述迫紧的中心通孔；上平接头通过套设于其上的上螺帽与所述主体套筒螺纹连接；下平接头通过套设于其上的下螺帽与所述主体套筒螺纹连接。本实用新型提供可以在湿制程设备维护保养时，无需在客户端新增排废下点的状况下，就可以达到控制管道药液倒灌回机台的风险。
排水溢流倒灌装置

[实用新型]盲孔化学沉积装置-CN201721242469.1有效
发明人：徐永伯;黄品椿;朱科星;张长树 -专利权人：苏州创峰光电科技有限公司
申请日： 2017-09-26 - 公布日： 2018-03-27 - 主分类号： H05K3/42 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种盲孔化学沉积装置，其包括药液槽，用于盛入药液；传输机构，用于输送基材，其设于所述药液槽内，并包括多个平行且间隔设置的上输送滚轮组和下输送滚轮组；药液喷射机构，用于向所述基材喷射液体，其包括上水刀和/或下水刀；超音波机构，用于促进盲孔震动以使所述盲孔内的气泡溢出，其包括复数组下超音波组。本实用新型提供的盲孔化学沉积装置通过水刀向基材喷射液体，对基材上的盲孔产生冲击可以使得气泡从盲孔中部分溢出，而下超音波组作用于基材，促进盲孔震动，利用超音波产生的空穴效应把盲孔内的空气泡带出，化锡液能顺利进入盲孔内部，进而达到良好的化学沉积效果。
化学沉积装置

[发明专利]用于软性电路板的卷对卷双面电解镀铜装置及其镀铜方法-CN201610652783.0在审
发明人：傅新民;上野山卫;黄品椿;刘玉珍;粱翰妮;张春梵;李清勇;刘智仁;范银娇;李惠洲;许远培 -专利权人：凯基有限公司
申请日： 2016-08-10 - 公布日： 2018-02-23 - 主分类号： C25D7/12 文献下载
摘要：本发明提供一种用于软性电路板的卷对卷双面电解镀铜装置及其镀铜方法，电解镀铜装装置包括一电镀模块，其包括一U型槽，设置于电镀模块内，且具有一入料口及一出料口；多个滚筒，设置于U型槽中，移动一软性电路板；多个非可溶性阳极，设置于U型槽的内壁上；多个喷嘴数组，设置于多个非可溶性阳极上；以及一铜离子传感器，设置于U型槽中，且产生一感测值；一入料洁净槽，设置于U型槽的入料口，且沿水平方向移动软性电路板至入料口内；以及一出料洁净槽，设置于U型槽的出料口，且由出料口沿水平方向移出软性电路板。
用于软性电路板双面电解镀铜装置及其方法

[发明专利]基板的电路直接形成系统-CN201610645638.X在审
发明人：傅新民;上野山卫;黄品椿;刘玉珍;粱翰妮;张春梵;李清勇;范银娇;刘智仁;李惠洲;许远培 -专利权人：凯基有限公司
申请日： 2016-08-08 - 公布日： 2018-02-16 - 主分类号： H05K3/18 文献下载
摘要：一种基板的电路直接形成系统，依序包括一偶联浴槽，设置有硅烷偶联剂，用以在该基板浸泡于该偶联浴槽中时，使该基板上形成由硅烷分子键结的一硅烷层；一图案化设备，用以选择性地图案化该硅烷层，使该硅烷层形成一电路图案，并使该电路图案的表面反应形成一硅烷醇层；以及一金属沉积设备，用以让该硅烷醇层与一前驱物键结形成前驱物层，并于该前驱物层上进行金属沉积，以使该硅烷醇层表面直接形成一电路层。可具体实现直接基板上形成电路。
电路直接形成系统

[实用新型]一种化学沉积设备-CN201620719013.9有效
发明人： 黄品椿;朱科星;张长树;徐永伯;张东亚 -专利权人：苏州创峰光电科技有限公司
申请日： 2016-07-08 - 公布日： 2016-11-23 - 主分类号： C23C18/16 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种化学沉积设备，包括药液槽和设于所述药液槽内的传输机构，所述传输机构包括多个平行且间隔设置的上输送滚轮和下输送滚轮，该化学沉积设备还包括设于所述药液槽内、位于该些下输送滚轮的下方、并沿该些下输送滚轮的轴向设置的复数个搅动装置，所述搅动装置包括一基体和固设于所述基体上的至少一片叶片，当所述叶片在外力作用下于所述药液槽内360度旋转时，所述药液槽内的药液产生涌动。本实用新型增加了搅动装置，通过搅动装置在药液槽内旋转从而使得药液产生大面积的涌动力，进而提高沉积速率，提升沉积的效果。
一种化学沉积设备

[实用新型]一种蚀刻机之吸液机构-CN201620658539.0有效
发明人： 黄品椿 -专利权人：苏州创峰光电科技有限公司
申请日： 2016-06-28 - 公布日： 2016-11-16 - 主分类号： H05K3/06 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种蚀刻机之吸液机构，包括：吸液刀组、与所述吸液刀组依次连接的射流器和射流供液泵浦，所述吸液刀组包括复数个吸液刀，所述吸液刀包括吸液刀本体，所述吸液刀本体的底端面设置有多个吸液孔，所述吸液刀本体上还设置有一腔体，所述腔体的两端口分别与该些吸液孔以及所述射流器相连通，所述吸液刀本体的至少一侧面设置有一转轮，所述转轮的至少局部超出所述吸液刀本体的底端面，当该吸液机构的吸液孔在吸取药水时，所述转轮与基板的上板面接触，并在基板的上板面转动。本实用新型通过吸液机构可以及时的排除上板面的残留药水，避免水池效应，提高上板面蚀刻的均匀性，提高上板面线路蚀刻因子，提高整体的蚀刻速率。
一种蚀刻机构

[外观设计]真空蚀刻机吸液刀-CN201630286791.9有效
发明人： 黄品椿 -专利权人：苏州创峰光电科技有限公司
申请日： 2016-06-28 - 公布日： 2016-10-12 - 主分类号： 15-09 文献下载
摘要：1．本外观设计产品的名称：真空蚀刻机吸液刀。2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于吸取刻蚀基材表面的药水，排除基材表面的药水，避免水池效应，提高基材表面蚀刻的均匀性，提高蚀刻速度。3．本外观设计产品的设计要点：在于产品形状。4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：立体图。
真空蚀刻机吸液刀

[发明专利]一种化学沉积设备-CN201610536782.X在审
发明人： 黄品椿;朱科星;张长树;徐永伯;张东亚 -专利权人：苏州创峰光电科技有限公司
申请日： 2016-07-08 - 公布日： 2016-09-14 - 主分类号： C23C18/16 文献下载
摘要：本发明公开了一种化学沉积设备，包括药液槽和设于所述药液槽内的传输机构，所述传输机构包括多个平行且间隔设置的上输送滚轮和下输送滚轮，该化学沉积设备还包括设于所述药液槽内、位于该些下输送滚轮的下方、并沿该些下输送滚轮的轴向设置的复数个搅动装置，所述搅动装置包括一基体和固设于所述基体上的至少一片叶片，当所述叶片在外力作用下于所述药液槽内360度旋转时，所述药液槽内的药液产生涌动。本发明增加了搅动装置，通过搅动装置在药液槽内旋转从而使得药液产生大面积的涌动力，进而提高沉积速率，提升沉积的效果。
一种化学沉积设备

[实用新型]一种用于化学铜设备的排水装置-CN201521070671.1有效
发明人： 黄品椿 -专利权人：苏州创峰光电科技有限公司
申请日： 2015-12-21 - 公布日： 2016-05-04 - 主分类号： C23C18/38 文献下载
摘要：本实用新型公开一种用于化学铜设备的排水装置，其安装于化学铜设备的排水处，该排水装置包括调节机构、迫紧机构和底座，所述迫紧机构位于药水槽内，所述调节机构与所述迫紧机构连接，并调节迫紧机构间歇性与所述底座形成开或闭的状态，所述底座的内部为中通的结构，并通过一段封闭管路与排水球阀连接，所述封闭管路连通外部管路，所述外部管路用于向所述封闭管路内注入纯水。本实用新型通过调节机构调节使迫紧机构与底座之间压迫锁紧，从而使槽内药水与排水球阀之间形成一个封闭管路，所述封闭管路连通外部管路，通过向外部管路向封闭管路中注入纯水而形成水密封，进而保证排水球阀无药水接触，避免排水球阀结铜卡死。
一种用于化学设备排水装置

[发明专利]一种用于化学铜设备的排水装置-CN201510960154.X在审
发明人： 黄品椿 -专利权人：苏州创峰光电科技有限公司
申请日： 2015-12-21 - 公布日： 2016-03-02 - 主分类号： C23C18/38 文献下载
摘要：本发明公开一种用于化学铜设备的排水装置，其安装于化学铜设备的排水处，该排水装置包括调节机构、迫紧机构和底座，所述迫紧机构位于药水槽内，所述调节机构与所述迫紧机构连接，并调节迫紧机构间歇性与所述底座形成开或闭的状态，所述底座的内部为中通的结构，并通过一段封闭管路与排水球阀连接，所述封闭管路连通外部管路，所述外部管路用于向所述封闭管路内注入纯水。本发明通过调节机构调节使迫紧机构与底座之间压迫锁紧，从而使槽内药水与排水球阀之间形成一个封闭管路，所述封闭管路连通外部管路，通过向外部管路向封闭管路中注入纯水而形成水密封，进而保证排水球阀无药水接触，避免排水球阀结铜卡死。
一种用于化学设备排水装置

[实用新型]一种线路板沉锡设备-CN201520475859.8有效
发明人： 黄品椿 -专利权人：苏州创峰光电科技有限公司
申请日： 2015-07-03 - 公布日： 2015-11-18 - 主分类号： H05K3/42 文献下载
摘要：本实用新型公开一种线路板沉锡设备,包括主槽体、设于主槽体内用于基板在水平方向上输送的传送机构以及喷洒机构，传送机构包括入料传送段、出料传送段以及位于入料传送段和出料传送段之间的扰流段，扰流段包括复数个平行且间隔设置的上滚轮片组和下滚轮片组，喷洒机构包括复数个错开排列的上喷洒管和下喷洒管，上喷洒管的喷洒方向与基板运动方向成一定角度，下喷洒管的喷洒方向与基板相反运动方向成一定角度。本实用新型的传送机构增加了扰流段，该扰流段采用滚轮片组能够减小药液流动的阻力，同时喷洒机构能够进一步增加药液的液下流动性，从而实现了药液的液面平稳以及药液的液下涌动，进而避免拖尾和锡面光泽异常的现象。
一种线路板设备

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