“高桥让”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果14个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]滚动轴承用试验装置、及滚动轴承的试验方法-CN202080042946.8在审
发明人：藤丸智;永野洋佑;高桥让;神田伸浩;宫部修一 -专利权人：株式会社捷太格特;株式会社神田
申请日： 2020-06-08 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： G01M13/04 文献下载
摘要：滚动轴承用试验装置具备：密封容器，被导入气氛气体；旋转轴，收容于所述密封容器内，所述滚动轴承外嵌于该旋转轴；一对轴支承部，固定于在所述密封容器设置的固定部，在所述滚动轴承的轴向两侧将所述旋转轴以旋转自如的方式支承；驱动装置，驱动所述旋转轴；保持部，将所述滚动轴承的外圈以不能旋转的方式保持；及第一载荷施加机构和第二载荷施加机构，向所述滚动轴承的内圈与外圈之间施加轴向载荷。
滚动轴承试验装置试验方法

[发明专利]热熔黏合剂组合物-CN201980097227.3在审
发明人： 高桥让 -专利权人：昭和电工材料株式会社
申请日： 2019-12-19 - 公布日： 2022-01-11 - 主分类号： B32B27/28 文献下载
摘要：热熔黏合剂组合物，其含有：1‑丁烯均聚物、熔点低于80℃的乙烯系聚合物、熔点为80℃以上的α‑烯烃共聚物、增粘树脂、蜡及液状软化剂；乙烯系聚合物包含选自由乙烯‑α‑烯烃共聚物及乙烯‑醋酸乙烯酯共聚物所组成的组中的至少1种共聚物。
黏合剂组合

[发明专利]粘接剂组合物-CN201780088902.7有效
发明人： 高桥让 -专利权人：昭和电工材料株式会社
申请日： 2017-12-11 - 公布日： 2021-11-19 - 主分类号： C09J123/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种粘接剂组合物，其为包含α‑烯烃均聚物、熔点大于或等于90℃的α‑烯烃共聚物、增粘树脂、蜡以及液态软化剂的粘接剂组合物，将该粘接剂组合物加热至180℃后，在降温至20℃之后立即测定的复数刚性模量(I)小于或等于1MPa。
粘接剂组合

[发明专利]氨基甲酸酯预聚物组合物的固化物及其制造方法、结构体及其制造方法、以及图像显示装置-CN202080024873.X在审
发明人：石田翔大;小宫聪一郎;高桥让;马笼和幸;龟井淳一 -专利权人：昭和电工材料株式会社
申请日： 2020-03-13 - 公布日： 2021-11-09 - 主分类号： C08G18/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种氨基甲酸酯预聚物组合物的固化物的制造方法，该氨基甲酸酯预聚物组合物包含氨基甲酸酯预聚物。该制造方法具备以下工序：使氨基甲酸酯预聚物组合物进行湿气固化，而获得氨基甲酸酯预聚物组合物的第1固化物的工序；及将第1固化物加热，而获得氨基甲酸酯预聚物组合物的第2固化物的工序。氨基甲酸酯预聚物具有源自多元醇的结构单元，该源自多元醇的结构单元包含源自结晶性多元醇的结构单元。
氨基甲酸酯预聚物组合固化及其制造方法结构以及图像显示装置

[发明专利]双列球轴承及轴支承装置-CN201510177920.5有效
发明人： 高桥让;冈本大辅;内藤光一郎 -专利权人：株式会社捷太格特
申请日： 2015-04-15 - 公布日： 2019-04-19 - 主分类号： F16C19/18 文献下载
摘要：本发明提供一种双列球轴承及轴支承装置。双列球轴承包括：外圈(16)；内圈(15)；多个第一滚珠(11)，设置在所述外圈(16)与所述内圈(15)之间，且构成第一列；多个第二滚珠(12)，设置在所述外圈(16)与所述内圈(15)之间，且构成节圆直径比所述第一列的节圆直径大的第二列；环状的第一保持器(21)，具有多个保持所述第一滚珠(11)的第一空腔(23)；环状的第二保持器(22)，具有多个保持所述第二滚珠(12)的第二空腔(24)；及圆环部(30)，与所述外圈(16)一起从半径方向外侧覆盖由所述第二空腔(24)保持的所述第二滚珠(12)中的从该第二空腔(24)露出而面向半径方向外侧的部分。
滚珠双列球轴承第二空腔内圈轴支承装置保持器节圆第一空腔圆环部覆盖

[发明专利]粘接剂组合物-CN201580028556.4有效
发明人： 高桥让 -专利权人：日立化成株式会社
申请日： 2015-11-26 - 公布日： 2019-02-01 - 主分类号： C09J123/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种粘接剂组合物，其包含1‑丁烯均聚物15～25重量份、熔点大于或等于90℃的α‑烯烃共聚物12～22重量份、软化点大于或等于125℃的增粘树脂30～50重量份、聚丙烯系蜡6～22重量份、以及液态烃4～20重量份。
重量份粘接剂组合物熔点烯烃共聚物聚丙烯系增粘树脂均聚物软化点液态烃丁烯

[发明专利]存储器的管理方法、存储装置及搭载了该存储装置的计算机-CN201310125908.0无效
发明人：稻田遼一;藤田良;高桥让 -专利权人：株式会社日立制作所
申请日： 2013-04-12 - 公布日： 2013-10-30 - 主分类号： G06F12/02 文献下载
摘要：本发明是存储器的管理方法、存储装置及搭载了该存储装置的计算机。即使在从非易失性存储器读出数据时发生错误的情况下，也能够使存储装置的运转时间延长。存储装置具有非易失性存储器、RAM和存储器控制器。RAM具有空块管理表和消耗块管理表。存储器控制器当空块的数为阈值1以上、且在从非易失性存储器读出的数据包含阈值2以上且不足阈值3的错误时，将相应块作为消耗块在消耗块管理表登记。存储器控制器当空块的数为不足阈值1时，将在消耗块管理表登记的消耗块作为空块在空块管理表登记。
存储器管理方法存储装置搭载计算机

[发明专利]III族氮化物半导体的气相生长装置-CN201110020688.6无效
发明人：矶宪司;石滨义康;高木亮平;高桥让 -专利权人：日本派欧尼株式会社
申请日： 2011-01-12 - 公布日： 2011-08-03 - 主分类号： C30B25/14 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种III族氮化物半导体的气相生长装置，其包括保持基板的衬托器、该衬托器的相对面、用于对该基板进行加热的加热器、由该衬托器和该衬托器的相对面的间隙形成的反应炉、将原料气体从该反应炉的中心部供向周边部的原料气体导入部以及反应气体排出部，即使在晶体生长于大尺寸、多个基板的表面上的情况下，仍可相对所有角度，以均匀的流量喷射原料气体，可在衬托器的相对面上抑制原料气体的分解、结晶化。衬托器的相对面具有在内部使制冷剂流通的机构，原料气体导入部具有由通过圆板状的分隔部而沿上下方向分隔的结构形成的多个气体喷射口，该气体喷射口中的至少1个具有通过多个柱状的分隔部而沿圆周方向分隔的结构。
iii 氮化物半导体相生装置

[发明专利]滚动轴承-CN200980114438.X有效
发明人：合田友之;高桥让;黑松干雄;岩胁健 -专利权人：株式会社捷太格特
申请日： 2009-04-22 - 公布日： 2011-04-13 - 主分类号： F16C33/41 文献下载
摘要：一种滚动轴承，包括外圈、内圈、滚珠和保持器。该保持器包括：布置在其轴向方向的端部处的环形部分；和多个柱形部分，所述多个柱形部分从环形部分的轴向方向一侧的侧表面在同轴方向上突出，且布置在环形部分的周向方向上，以在柱形部分之间形成每个用于容纳滚动元件的凹口，其中在不引导所述保持器的所述外圈和所述内圈中的一个或两个与所述第一环形部分之间形成用于限制润滑剂流动的密封间隙。
滚动轴承

[发明专利]III族氮化物半导体的气相生长装置-CN201010190520.5无效
发明人：矶宪司;石滨义康;高木亮平;高桥让 -专利权人：日本派欧尼株式会社
申请日： 2010-05-27 - 公布日： 2010-12-22 - 主分类号： H01L21/205 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种III族氮化物半导体的气相生长装置，其包括保持基板的托盘；该托盘的相对面；用于对该基板进行加热的加热器；由该托盘和该托盘的相对面的间隙形成的反应炉；将原料气体供给到该反应炉的原料气体导入部；反应气体排出部，可谋求半导体的膜厚分布的均匀性、反应速度的提高。原料气体导入部包括两个以上的混合气体的喷射口，该混合气体的喷射口可按照任意的比例喷射氨、有机金属化合物与载气。
iii 氮化物半导体相生装置

[发明专利]圆锥滚子轴承、圆锥滚子轴承装置-CN201010254712.8有效
发明人：松山博树;千叶博行;原田昌宽;户田一寿;荻野清;川口幸志;高桥让;百百路博文 -专利权人：株式会社捷太格特
申请日： 2005-04-14 - 公布日： 2010-12-01 - 主分类号： F16C19/36 文献下载
摘要：本发明通过使滚子填充率处于0.7～0.92的范围，而且相对于滚子直径的滚子长度处于1.1～1.7的范围，来降低油的搅拌阻力及滚动粘性阻力，从而降低转矩。另外，通过实施如下的凸面加工，来降低滚动粘性阻力，并降低转矩，即：在将外圈凸面加工半径设为RCO、将滚道长度设为LRO、将内圈凸面加工半径设为RCI、将滚道长度设为LRI时，外圈凸面加工参数(＝RCO/LRO)为30～150，并且内圈凸面加工参数(＝RCI/LRI)为50～260。
圆锥滚子轴承装置

[发明专利]III族氮化物半导体的气相生长装置-CN201010120474.1无效
发明人：矶宪司;石滨义康;高木亮平;高桥让 -专利权人：日本派欧尼株式会社
申请日： 2010-02-24 - 公布日： 2010-09-01 - 主分类号： C23C16/34 文献下载
摘要：本发明提供一种III族氮化物半导体的气相生长装置，其包括用于保持基板的托盘；该托盘的抵抗面；用于对该基板进行加热的加热器；设置于该托盘的中心部的原料气体导入部；由该托盘和该托盘的抵抗面的间隙形成的反应炉等，即使在保持于具有较大直径的托盘上的大直径的多个基板的表面上进行晶体生长的情况下，即使在1000℃以上的温度对基板进行加热，晶体生长的场合，仍可有效地实现晶体生长。形成下述的气相生长装置，其具有所设置的基板和托盘的抵抗面之间的距离非常窄，并且使制冷剂在托盘的抵抗面流通的结构。
iii 氮化物半导体相生装置

[发明专利]圆锥滚子轴承、圆锥滚子轴承装置-CN200810133536.5有效
发明人：松山博树;千叶博行;原田昌宽;户田一寿;荻野清;川口幸志;高桥让;百百路博文 -专利权人：株式会社捷太格特
申请日： 2005-04-14 - 公布日： 2008-12-31 - 主分类号： F16C19/36 文献下载
摘要：本发明涉及一种圆锥滚子轴承，通过使滚子填充率处于0.7～0.92的范围，而且相对于滚子直径的滚子长度处于1.1～1.7的范围，来降低油的搅拌阻力及滚动粘性阻力，从而降低转矩。另外，通过实施如下的凸面加工，来降低滚动粘性阻力，并降低转矩，即：在将外圈凸面加工半径设为RCO、将滚道长度设为LRO、将内圈凸面加工半径设为RCI、将滚道长度设为LRI时，外圈凸面加工参数(＝RCO/LRO)为30～150，并且内圈凸面加工参数(＝RCI/LRI)为50～260。
圆锥滚子轴承装置

[发明专利]圆锥滚子轴承、圆锥滚子轴承装置、及采用了它的车辆用小齿轮轴支撑装置-CN200580011414.3有效
发明人：松山博树;千叶博行;原田昌宽;户田一寿;荻野清;川口幸志;高桥让;百百路博文 -专利权人：株式会社捷太格特
申请日： 2005-04-14 - 公布日： 2007-04-04 - 主分类号： F16C33/36 文献下载
摘要：本发明通过使滚子填充率处于0.7～0.92的范围，而且相对于滚子直径的滚子长度处于1.1～1.7的范围，来降低油的搅拌阻力及滚动粘性阻力，从而降低转矩。另外，通过实施如下的凸面加工，来降低滚动粘性阻力，并降低转矩，即：在将外圈凸面加工半径设为RCO、将滚道长度设为LRO、将内圈凸面加工半径设为RCI、将滚道长度设为LRI时，外圈凸面加工参数(＝RCO/LRO)为30～150，并且内圈凸面加工参数(＝RCI/LRI)为50～260。
圆锥滚子轴承装置采用车辆齿轮轴支撑

1
共 14 条