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[发明专利]二维结构的衍射级选择的优化方法-CN200780010518.1有效
发明人：金文;斯里尼瓦斯·杜迪;李世芳 -专利权人： 音质技术公司
申请日： 2007-03-20 - 公布日： 2009-04-15 - 主分类号： G01B11/14 文献下载
摘要：本发明提供了一种选择衍射级数目的方法，所述衍射级数目用于在光学计量中为二维结构产生模拟的衍射信号，通过使用第一衍射级数目和二维结构的假想轮廓产生第一模拟衍射信号。使用第二衍射级数目和与产生所述第一模拟衍射信号相同的假想轮廓以产生第二模拟衍射信号，其中第一衍射级数目和第二衍射级数目是不同的。比较所述第一模拟衍射信号和第二模拟衍射信号。基于对所述第一模拟衍射信号和第二模拟衍射信号的比较，确定选择第一衍射级数目还是第二衍射级数目。
二维结构衍射选择优化方法

[发明专利]形成于半导体晶片上的结构的方位扫描-CN200480031908.3无效
发明人：约尔格·比朔夫;李世芳;牛新辉 -专利权人： 音质技术公司
申请日： 2004-10-28 - 公布日： 2006-12-06 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：通过以入射角和方位角将入射光束引导到所述结构，来检查形成于半导体晶片上的结构。在方位角的范围内扫描入射光束以获得方位扫描。在方位扫描过程中，测量衍射光束的正交偏振分量。
形成半导体晶片结构方位扫描

[发明专利]使用机器学习系统的对在半导体晶片上形成的结构的光学计量-CN200480014975.4无效
发明人：斯里尼瓦斯·多迪;埃曼努埃尔·德勒热;尼克希尔·贾卡达;鲍君威 -专利权人： 音质技术公司
申请日： 2004-06-25 - 公布日： 2006-07-05 - 主分类号： G06F15/18 文献下载
摘要：提供一种使用机器学习系统的对在半导体晶片上形成的结构的光学计量，通过得到用计量装置测量的第一衍射信号，检测在半导体晶片上形成的结构。通过使用机器学习系统产生第二衍射信号，其中，机器学习系统接收一个或更多个表征结构的剖面的参数作为输入，以产生第二衍射信号。比较第一和第二衍射信号。当第一和第二衍射信号在匹配准则内匹配时，基于由机器学习系统使用以产生第二衍射信号的一个或更多个参数或剖面确定结构的特征。
使用机器学习系统半导体晶片形成结构光学计量

[发明专利]对二维结构生成模拟衍射信号-CN200380101531.X有效
发明人：约尔格·比肖夫;牛新辉 -专利权人： 音质技术公司
申请日： 2003-10-14 - 公布日： 2005-12-07 - 主分类号： G01R31/26 文献下载
摘要：可生成用于确定半导体晶片上形成的结构的轮廓的一个或多个模拟衍射信号，其中该轮廓在一维以上变化。对该结构的假想轮廓在第一维和第二维上的变化生成各中间计算，其中每个中间计算对应该结构的假想轮廓的一个部分。然后存储生成的中间计算并在用来为该结构的一个或多个假想轮廓生成一个或多个模拟衍射信号中使用。
二维结构生成模拟衍射信号

[发明专利]光计量术中模型和参数的选择-CN03817778.1有效
发明人：维·沃恩格;伊玛纽尔·德里格;鲍君威;斯利尼瓦斯·多迪;牛新辉;尼克希尔·加卡特达 -专利权人： 音质技术公司
申请日： 2003-07-25 - 公布日： 2005-09-21 - 主分类号： G01B11/14 文献下载
摘要：选取用于晶片(47)结构(59)光计量术中的轮廓模型，轮廓模型有与结构(59)尺寸相关的一组几何参数。利用一个或多个输入衍射信号和一个或多个参数选择准则，选取轮廓模型的一组优化参数。对照一个或多个终止准则，测试选取的轮廓模型和优化参数组。在满足一个或多个终止准则之前，完成选取轮廓模型，选取一组优化参数，和测试选取的轮廓模型和优化参数组的过程。
计量模型参数选择

[发明专利]对单一特征的光学度量-CN03814153.1无效
发明人：乔尔格·比肖夫;牛新辉;鲍君威 -专利权人： 音质技术公司
申请日： 2003-06-09 - 公布日： 2005-08-31 - 主分类号： G01B11/00 文献下载
摘要：形成在晶片(104)之上的单一特征(102)的分布，可以用这样的方法确定：利用一个光束(108)形成一个聚焦在特征(102)上的光源(106)，以及一个用来检测从该特征(102)衍射出的光(110)的检测器(112)，来得到该特征的光学识别标志。然后可以由一个处理器(114)将获得的光学识别标志与储存在程序库(116)中的一组模拟光学特征进行对比，其中每个模拟光学识别标志对应于该单一特征的一个假定分布，并且根据该假定分布而建模。
单一特征光学度量

[发明专利]用于集成电路的光学计量的波长选择-CN03812966.3有效
发明人：斯瑞尼瓦斯·多蒂;劳伦斯·莱恩;威·沃恩格;迈克尔·劳格瑞;鲍君威;凯利·巴里;尼克希尔·扎卡特达;伊曼纽·缀格 -专利权人： 音质技术公司
申请日： 2003-05-30 - 公布日： 2005-08-24 - 主分类号： G06F19/00 文献下载
摘要：用于集成电路的光学计量中的特定波长可利用一个或多个选择准则和终止准则来选择。使用选择准则选择波长，波长的选择被迭代直到满足终止准则。
用于集成电路光学计量波长选择

[发明专利]适合于工具对工具匹配的计量衍射信号-CN03809540.8有效
发明人：迈克尔·劳格西里;戴维·瓦辛格;尼克西尔·亚卡特达尔 -专利权人： 音质技术公司
申请日： 2003-03-25 - 公布日： 2005-08-03 - 主分类号： G06F19/00 文献下载
摘要：在一种实施方式中，确定次级计量工具相对于初级计量工具的信号调节矢量(步骤560)。在(步骤500)，用初级计量工具测量晶片上预定数目的位置外的衍射信号。计量工具可以是偏振光椭圆计、反射计。初级计量工具是一种具有硬件规格说明的计量工具，该硬件规格说明被用来生成衍射信号及其相关简表的数据库的计量数据。在(步骤520)，用一个或多个次级计量工具测量该相同预定数目的位置，次级计量工具具有与初级计量工具相同的类型或相同的种类。在(步骤540)，对于相应的位置，计算用初级计量工具和用次级计量工具测量到的衍射信号的差。
适合于工具匹配计量衍射信号

[发明专利]用于集成电路量度的形态精确化-CN03808175.X有效
发明人：鲍君威;斯瑞尼瓦斯·多迪;尼契尔·扎卡特达;旺韦 -专利权人： 音质技术公司
申请日： 2003-02-10 - 公布日： 2005-07-27 - 主分类号： C09K15/04 文献下载
摘要：本发明包括从一个测得信号来确定在集成电路内一个结构的形态的方法和系统，用一个量度装置测量来自该结构的信号，在一个形态数据空间中选择测量信号的最佳符合，该数据空间有具有指定非线性程度的数据点，并执行一个精确化程序以确定精确化形态参数，一个实施方案包括一个精确化程序，该程序包括在形态库信号和形态参数的代价函数的一个功能区中寻找一个多面体，并用权重平均方法来把总代价函数最小化。其他实施方案包括用灵敏度分原，分簇方法，基于回归的方法，局域化精细分辨率方法，叠代率精确化方法，以及其他代价优化或精确化方法程序和方法的形态参数精确化程序。形态参数的精确化可以自动地启动或基于事先确定的标准，如象在测得信号和最佳符合形态库之间超过某一误差量度来启动。
用于集成电路量度形态精确

[发明专利]用于数据压缩的群集-CN01804176.0无效
发明人：斯里尼维斯·多蒂 -专利权人： 音质技术公司
申请日： 2001-11-28 - 公布日： 2005-07-06 - 主分类号： G05B19/00 文献下载
摘要：一种采用软件的改进的断面测量数据收集和分析系统，该软件对存储在表示半导体芯片晶片断面的存储器中的库数据进行群集分析，用于实时匹配来自由断面测量仪器收集的数据的数据信号。为了更好地在输入的数据信号与断面库数据之间实时进行匹配为群集，并抽取群集的代表性的群集数据点。代表性群集存储在主存储器(例如RAM)，而形成群集的数据存储在次存储器(例如硬驱动器)。然后实时数据信号首先与代表性群集数据点比较，并当与特定的代表性群集数据点形成匹配时，与代表性群集数据点相关的群集从次存储器加载到主存储器。然后进而使用输入的实时数据信号进行搜索，以找出与群集中的数据最接近的匹配。这样，不必顺序地搜索整个的库数据，因而为了快速搜索，整个的库不必驻留在主存储器中，这既保存了时间又保存了主存。进而公开了细分驻留在群集的teh边界上的点的具体情形的技术。在优选实施例中，群集的划分方法基于teh T.Gonzalez算法。
用于数据压缩群集

[发明专利]使用抽样衍射信号选择一个假想剖面用于光学计量-CN200410079171.4有效
发明人：翁维;包军巍;斯里尼瓦斯·多迪;伊曼纽尔·德勒热;温金;桑贾伊·耶杜尔;道瑞斯·钦;尼克黑尔·亚卡塔达尔;劳伦斯·雷恩 -专利权人： 音质技术公司
申请日： 2004-09-15 - 公布日： 2005-05-25 - 主分类号： G01N21/17 文献下载
摘要：使用一个假想剖面来模拟形成于半导体晶片上的结构剖面，用于使用光学计量确定该结构的剖面。选择一个假想剖面，从形成于晶片上的结构中测量的衍射信号获得抽样衍射信号，该抽样衍射信号是对测量的衍射信号的代表性抽样。定义了一个假想剖面，并从获得的抽样衍射信号中使用一个抽样衍射信号对该假想剖面进行评价。
使用抽样衍射信号选择一个假想剖面用于光学计量

[发明专利]周期性栅衍射信号库的生成-CN01802456.4有效
发明人：牛新辉(音译);尼克西尔·亚卡达尔 -专利权人： 音质技术公司
申请日： 2001-09-06 - 公布日： 2004-09-15 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：周期性栅的模拟衍射信号(模拟信号)库的一种产生方法，包括获得一个测量衍射信号(测量信号)。假定参数与一假定剖面相关联。这些假定参数在某一范围内变化以产生一组假定剖面。变化假定参数的范围是基于测量信号的。一组模拟信号从假定剖面组产生。
周期性衍射信号生成

[发明专利]用于快速的精确的耦合波分析的层内计算的高速缓存-CN01802628.1有效
发明人：牛辛辉;尼克希尔·H·杰卡塔德 -专利权人： 音质技术公司
申请日： 2001-01-25 - 公布日： 2003-01-01 - 主分类号： G01B9/02 文献下载
摘要：使用精确的耦合波分析来确定来自周期性光栅轮廓的电磁辐射的衍射,并将中间计算结果进行高速缓存,以缩短计算时间。为了进行计算,周期性光栅被划分为许多层,光栅的各脊截面被离散化为各个矩形部分,并且介电常数、电场和磁场都被表示成沿着光栅的周期性方向的谐波展开。将麦克斯韦尔方程应用于每一个中间层,提供一个具有波矢量矩阵A(620)的矩阵波方程,该方程建立了电场的谐波振幅与它们在垂直于光栅平面的方向上的二次导数之间的联系(615’),其中,波矢量矩阵A是层内各参数以及入射辐射各参数的一个函数。W是从波矢量矩阵A获得的特征矢量矩阵,Q是波矢量矩阵A的特征值的平方根的一个对角线矩阵(647)。
用于快速精确耦合分析计算高速缓存

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