专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]相位移光罩及其制造方法-CN201510222082.9有效
  • 陈高惇 - 华邦电子股份有限公司
  • 2015-05-05 - 2020-05-26 - G03F1/26
  • 本发明提供一种相位移光罩及其制造方法,此相位移光罩包括:基板、相位移层以及遮蔽层。相位移层位于所述基板上。相位移层的图案包括主图案以及次解析辅助图案。次解析辅助图案配置于所述主图案的周围。所述相位移层具有透射率,所述透射率大于6%。遮蔽层至少覆盖所述相位移层的所述次解析辅助图案。因此,本发明不仅能保留次解析辅助图案的功能(即增加光刻处理裕度),而且在经过曝光处理与显影处理后,次解析辅助图案不会成像在半导体衬底上。
  • 相位移光罩及其制造方法
  • [发明专利]电路结构及用以定义此电路结构的光掩模-CN200810009293.4无效
  • 杜德洪;陈高惇 - 力晶半导体股份有限公司
  • 2008-02-03 - 2009-08-05 - H01L23/482
  • 本发明提出一种电路结构及用以定义此电路结构的光掩模。此电路结构包括多个拾取垫与多条并列的导线,其中呈连续排列的部分导线各自配置有一拾取垫,且任一条配置拾取垫的导线的拾取垫穿过该导线一侧的一相邻导线的一断开处,而与次一导线连接。本发明的光掩模上有用以定义上述导线的多个导线图案,以及用以定义上述拾取垫的多个拾取垫定义用图案。本发明的H-切断结构中拾取垫周遭的图案密度近于密集区,其光学邻近效应较已知狗骨状设计容易控制;且因H-切断结构的对称性佳,因此光学邻近修正较易于实行。
  • 电路结构用以定义光掩模
  • [发明专利]接触窗开口的制造方法-CN200610005889.8无效
  • 陈高惇;萧立东 - 力晶半导体股份有限公司
  • 2006-01-19 - 2007-07-25 - H01L21/311
  • 一种接触窗开口的制造方法。首先于基底上形成一层掩模层,再于掩模层中沿两个方向分别形成多个沟槽。此两个方向互相交错。沟槽的深度不大于掩模层的厚度,但于沟槽与沟槽交错处的掩模层会形成开口,此开口暴露基底。移除开口所暴露的部分基底,以在基底中形成接触窗开口。在光刻工艺中,由于形成线状图案较形成点状图案容易控制,因此可精确地掌控接触窗开口的尺寸。
  • 接触开口制造方法

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