专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]提高OPC运算效率的方法-CN202310626744.3在审
  • 王丹;陈燕鹏;于世瑞;张瑜 - 上海华力集成电路制造有限公司
  • 2023-05-30 - 2023-08-29 - G06F9/50
  • 本发明提供一种提高OPC运算效率的方法,所述方法包括:根据产品芯片面积计算得到刀片服务器的初始推荐数量;由所述初始推荐数量确定所述刀片服务器的可用数量的范围;在所述可用数量的范围内,根据所述可用数量与OPC运行时间确定CPU资源使用量并确定最佳可用数量;其中,所述最佳可用数量与所述OPC运行时间相乘所得的结果在满足工厂线上跑货速度的前提下达到最小。通过本发明解决了以现有的固定数量的刀片服务器进行掩膜版的出版易导致CPU利用率较低的问题。
  • 提高opc运算效率方法
  • [发明专利]一种优化MEEF的光学邻近修正方法-CN202010336815.2有效
  • 胡译丹;陈燕鹏 - 上海华力集成电路制造有限公司
  • 2020-04-26 - 2023-08-15 - G03F1/36
  • 本发明提供一种优化MEEF的光学邻近修正方法,将原始版图进行OPC修正,截取OPC修正后MEEF超出阈值的版图部分;对截取的版图部分进行pxOPC修正,得到掩模板图形;根据掩模板图形对相应的原始版图部分进行预先修正处理,得到预处理目标层;将预处理目标层进行基于规则和模型的OPC修正,得到最终符合OPC要求的掩模板图层。本发明中的方法通过将原始图形预先分段移动,能够在基于模型的OPC修正中有效促进引导掩模版图形的分段及移动,通过调整预分段及移动参数,使特殊图形在满足模拟图形与目标图形一致的条件下,得到MEEF优化的掩模版图形。
  • 一种优化meef光学邻近修正方法
  • [发明专利]通孔层多重版图拆分优化方法-CN202310443522.8在审
  • 陈燕鹏;王丹;于世瑞 - 上海华力集成电路制造有限公司
  • 2023-04-23 - 2023-08-01 - G06F30/392
  • 本申请提供一种通孔层多重版图拆分优化方法,包括:步骤S1,提供原始未拆分版图;步骤S2,根据初始拆分规则对原始未拆分版图进行拆分;步骤S3,对步骤S2中拆分后得到的版图进行OPC修正及仿真,获得限制重叠工艺窗口的热点区域;步骤S4,调整热点区域中图形的拆分规则,并进行OPC修正及仿真,以消除热点区域;步骤S5,将热点区域消除时设定的图形的拆分规则添加至规则库中,获得更新的规则库;步骤S6,按照更新的规则库中的拆分规则,对原始未拆分版图进行拆分,并进行OPC修正及仿真。根据本申请,可以提高工艺热点图形的工艺窗口。
  • 通孔层多重版图拆分优化方法
  • [发明专利]优化通孔层工艺窗口的辅助图形-CN202310333927.6在审
  • 李珊珊;陈燕鹏;于世瑞 - 上海华力集成电路制造有限公司
  • 2019-08-29 - 2023-06-30 - G03F1/36
  • 本申请是申请号:2019108101963,申请日:2019.8.29,发明名称:优化通孔层工艺窗口的辅助图形及方法的分案申请。本发明公开了一种优化通孔层工艺窗口的辅助图形,是适用于掩膜版中用于光学邻近效应修正,所述辅助图形为封闭的结构,还具有主图形位于所述辅助图形的中心区域,所述辅助图形位于主图形的外围,形成封闭的包围结构;所述辅助图形为至少两层的多层嵌套的封闭结构,其为SRAF图形,为封闭的多边形或者类似环形,至少包含有水平、垂直、45度、135度的边,各层结构之间具有一定的间距。
  • 优化通孔层工艺窗口辅助图形
  • [发明专利]金属层器件辅助图形的生成方法-CN201811515649.1有效
  • 邓国贵;陈燕鹏;王丹;于世瑞 - 上海华力集成电路制造有限公司
  • 2018-12-12 - 2023-06-16 - G06F30/392
  • 本发明公开了一种金属层器件辅助图形的生成方法,包括获取含金属层、通孔和所有避让层的原始设计版图;通过版图逻辑运算选出若干种线宽的金属线并筛选出与旁边不同电位的金属线之间的距离大于冗余金属到金属线之间的最小距离的两倍与最小金属线宽之和的外扩边,将外扩边分别往外扩大第一尺寸和第二尺寸,分别得到第一多边形和第二多边形,第一尺寸小于第二尺寸;去除第一多边形与第二多边形重叠的部分和进入禁入区域的部分,获得第一金属层器件临时辅助图形;对第一金属层器件临时辅助图形进行后处理,形成第一金属层器件辅助图形。本发明能在较小的金属线宽附近生成跟它本身尺寸类似或相同的辅助图形,从而减小图形密度不同导致的金属刻蚀后线宽差异。
  • 金属器件辅助图形生成方法
  • [发明专利]OPC修正方法-CN202210187299.0在审
  • 陈燕鹏;王丹;于世瑞 - 上海华力集成电路制造有限公司
  • 2022-02-28 - 2022-06-24 - G03F1/36
  • 本发明公开了一种OPC修正方法,包括:步骤一、提供版图的目标层。步骤二、形成MEEF热点标记。步骤三、将MEEF热点标记导入MBOPC系统中。步骤四、在MBOPC系统中设置所述MEEF热点标记下的切分线段的第一移动规则,第一移动规则用于保证MEEF热点标记所覆盖区域的图形的MEEF符合要求值。步骤五、运行MBOPC得到掩模版层,在运行MBOPC的过程中,MEEF热点标记所覆盖区域的图形的切分线段按照第一移动规则移动。本发明能降低掩模版整体的MEEF,提高光刻工艺窗口和产品良率,还能减小人力以及计算机资源,从而提高出版效率。
  • opc修正方法
  • [实用新型]一种水密接插件-CN202122364850.8有效
  • 张清龙;侯国庆;陈燕鹏;朱晨;杨克磊;殷伟;张平 - 昆明七零五所科技发展有限责任公司
  • 2021-09-28 - 2022-04-19 - H01R13/52
  • 本实用新型是一种水密接插件,该水密接插件包括公头组件、母头组件和压紧套;其中,所述公头组件通过电缆与水下设备舱体连接,母头组件通过电缆与水上控制设备连接;所述公头组件与母头组件能够插接,使水下设备和水上控制设备连接,且插接处通过压紧套固定和密封。该水密接插件能够通过电缆将水下产品和水上控制设备连接起来,使水上控制设备能很好操控水下产品。该水密接插件通过结构优化,使加工成本变低、整体感更强,同时具有防水功能,在较大的拖拽力和水压下不会出现漏水,能较好满足水下控制连接的需要。
  • 一种水密插件
  • [实用新型]一种水下螺旋桨拉力测试装置-CN202122381710.1有效
  • 张清龙;朱晨;周国明;吴飞;姚航;陈燕鹏;殷伟 - 昆明七零五所科技发展有限责任公司
  • 2021-09-29 - 2022-04-19 - G01M13/00
  • 本实用新型是一种水下螺旋桨拉力测试装置,该水下螺旋桨拉力测试装置包括支架、滑动机构、导管组件、拉杆和拉力检测仪器;所述导管组件通过滑动机构能够水平滑动的安装在支架上,导管组件的内部安装有电机和螺旋桨;所述拉杆一端与导管组件连接,另一端与拉力检测仪器连接;所述电机通电后带动螺旋桨转动,使水体由导管组件一侧进入,由导管组件另一侧排出;导管组件在滑动机构上滑动的同时,通过拉杆对拉力检测仪器产生拉力,拉力检测仪器即能够读出螺旋桨工作时产生的拉力值。通过该水下螺旋桨拉力测试装置能够对螺旋桨拉力进行测试,进而能够选择满足要求的螺旋桨。
  • 一种水下螺旋桨拉力测试装置
  • [发明专利]SRAM版图的OPC修正方法-CN201810768912.1有效
  • 陈燕鹏;赵璇;于世瑞 - 上海华力集成电路制造有限公司
  • 2018-07-13 - 2022-03-18 - G03F1/36
  • 本发明提供一种针对SRAM版图的OPC修正方法,将SRAM版图划分为中间区域、过渡区域和边界区域,通过Calibre pxOPC工具对SRAM版图的重复单元截图进行修正,得到SRAM最小重复单元的掩模板图形,使用Calibre Pattern Match工具将SRAM最小重复单元的掩模板图形匹配添加到SRAM版图中间区域,之后对SRAM版图的过渡区域和边界区域进行OPC修正,得到SRAM版图最终的掩模板图层。该方法可以大大缩减OPC运算时间,且保证了SRAM版图中间重复单元区域的掩模板尺寸的一致性。
  • sram版图opc修正方法

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