专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]决定刻蚀于晶圆内的接触孔洞的接触边缘粗糙度的方法-CN201510242108.6在审
  • 郑清仁 - 旺宏电子股份有限公司
  • 2015-05-13 - 2016-12-07 - H01L21/66
  • 本发明公开了一种用以决定刻蚀于晶圆内的接触孔洞的接触边缘粗糙度的方法、装置、系统与计算机程序产品。根据本发明,提供一种方法包括以下步骤:取得对应于一接触孔洞的图像数据,基于至少部分图像数据决定一孔洞轮廓;孔洞轮廓可用以描述自接触孔洞的参考点至位于预定角度组的每一角度的接触孔洞边缘的距离;基于至少部分孔洞轮廓,决定接触孔洞的理想形状;接触孔洞的理想形状可由预定角度组的每一角度,从理想形状的参考点至理想形状的边缘的距离所描述。基于至少部分接触孔洞轮廓与理想形状,决定接触边缘粗糙度。
  • 决定刻蚀晶圆内接触孔洞边缘粗糙方法

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