专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]用于不锈钢桶的带喷淋外边缘抛光装置-CN201520392591.1有效
  • 赖俊丞 - 曾静
  • 2015-06-09 - 2015-10-14 - B24B29/08
  • 本实用新型涉及一种用于不锈钢桶的带喷淋外边缘抛光装置,属于不锈钢桶粗抛光设备技术领域,其包括工作台,工作台上横向安装有左右相互对称的T型滑轨,在每块滑轨上均安装有滑块,滑块上纵向安装有一台电机,电机的电机轴上安装有抛光轮,在两个抛光轮之间设置有桶座,桶座固定在工作台上,桶座为环型结构,在桶座内至少设置有三块固定块,每个固定块上均固定有旋转螺杆,旋转螺杆从桶座的内侧壁垂直穿出桶座的外侧壁,在工作台左下角固定有喷淋安装板,喷淋安装板上安装有喷淋泵和喷淋水储罐,在喷淋泵的出口处安装有喷淋管线。通过本实用新型操作方便,省时省力,操作安全,给工人提供一个更安全的操作环境。
  • 用于不锈钢喷淋外边抛光装置
  • [实用新型]魔芋液压便捷挖掘用的辊式分离去土漏土机构-CN201520332021.3有效
  • 赖俊丞 - 李胜兵
  • 2015-05-21 - 2015-09-23 - A01D13/00
  • 本实用新型涉及一种魔芋液压便捷挖掘用的辊式分离去土漏土机构,属于农用技术领域,其包括挖掘铲、辊筒式输送器和主机架,在主机架底部设置有第一安装支架和第二安装支架,在第一安装支架左侧铰接有第三安装支架;挖掘铲安装在第三安装支架上,主机架底部固定有安装座,辊筒式输送器由第一辊筒输送器和第二辊筒输送器组成,第二辊筒输送器右出口端设置有提升输送器,在主机架上安装有接收槽,在接收槽底部开设有排土口,在排土口上方的接收槽内设置有过滤板,在第二辊筒输送器的正上方设置有刷板,在第二辊筒输送器上方设置有风管,在第一安装支架左侧的第一辊筒输送器上方设置有辊式去土组件。本实用新型提高了泥土与魔芋的分离效果。
  • 魔芋液压便捷挖掘辊式分离去土漏土机构
  • [实用新型]带头罩的枕巾-CN201420296527.9有效
  • 赖俊丞 - 赖俊丞
  • 2014-05-31 - 2014-11-05 - A47G9/10
  • 本实用新型公开了一种带头罩的枕巾,包括枕巾体、位于枕巾体上部的头罩、第一固定带和两根第二固定带,所述头罩的下边缘与枕巾体不相连,形成一空腔可放置头部,所述第一固定带穿过头罩的下边缘;所述的两根第二固定带沿头罩短轴方向从所述头罩本体三分之一和三分之二处贯穿且第二固定带一端固定于头罩上端边缘。该带头罩的枕巾,置于枕头上时,枕巾上的头罩可通过调节第一固定带使头罩稳固的戴在头上,保证头罩在睡觉时不滑落,另一方面,头罩又可以作为眼罩使用,可通过调节两根第二固定带,使头部与头罩之间形成一小空间,使眼罩使用时不会贴在眼睛上,使人感到舒适,睡得安稳。
  • 头罩枕巾
  • [实用新型]制管机同步裁切机构-CN201220419801.8有效
  • 赖俊丞 - 俊儒企业有限公司
  • 2012-08-23 - 2013-02-13 - B23D21/00
  • 本实用新型提供一种制管机同步裁切机构,包括:一承载平台,其包含有一滑座,且该滑座可滑移地设置于一机座上;一可调速驱动组,其包含一可调速动力源,一轴心连接于该可调速动力源的驱动轮,以及一连杆,其中,该连杆一端枢接于该驱动轮的偏心处,另一端则枢接于该滑座上;一设置于该承载平台上的管件夹持组,其可夹持一自制管机输出的待切管件;以及一设置于该承载平台上的管件裁切组,其可对该待切管件进行切断作业;藉此,当该驱动轮转动时,会使该连杆进行旋摆,以带动该承载平台与制管机输出的待切管件产生同向、等速的运动,以将待切管件裁切成预定长度。
  • 制管机同步裁切机
  • [实用新型]球阀的球塞表面研磨机-CN200720181208.3有效
  • 赖俊丞 - 赖俊丞
  • 2007-10-18 - 2008-09-24 - B24B11/10
  • 本实用新型是一种球阀的球塞表面研磨机,包括一设在所述的研磨机水平轴的球塞定位装置,所述的球塞定位装置供一球塞定位并控制其转动;一设在所述的研磨机垂直轴的研磨石组,所述的研磨石组具有环状排列的若干研磨石,每一研磨石具有一球体形的研磨面;各所述的研磨面共同构成一球体状的研磨空间;所述的研磨石组被一动力源控制而旋转,以所述的研磨石的研磨面对所述的球塞的球状表面进行研磨。
  • 球阀表面研磨机
  • [发明专利]光学光刻方法-CN03155531.4有效
  • 赖俊丞 - 力晶半导体股份有限公司
  • 2003-08-28 - 2005-03-09 - G03F1/16
  • 本发明提供一种光学光刻方法,更具体地,提供一种在光致抗蚀剂层中形成多个呈阵列排列的分离的封闭图案的方法。提供一相位移掩模,其包括多个第一、二相位移透光区域和一非相位移区域。第一、二相位移透光区域呈有规律性的交错阵列排列。并且第一、二相位移透光区域被非相位移区域分隔。进行一曝光工艺以在光致抗蚀剂层内形成分别对应于第一、二相位移透光区域的封闭图案。
  • 光学光刻方法
  • [发明专利]步进分析方法和系统-CN98115221.X有效
  • 赖俊丞 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 1998-06-24 - 2003-11-19 - H01L21/027
  • 一种步进分析方法包括:产生一十字线光掩模,包括第一及第二边角光掩模,用以遮蔽在晶片表面上的第一四方形区,第三边角光掩模,用以遮蔽在晶片表面上的一第二四方形区,其中第一四方形区大于第二四方形区,以及第四边角光掩模,用以使得第三四方形区曝光,其中第三四方形区小于第二四方形区;以及使用测量装置,根据十字线光掩模上重叠曝光的边角,产生在晶片表面上进行十字线光掩模步进时的该第三及第四边角光掩模重叠后的中心之间的差值这一对准调整值。
  • 步进分析方法系统

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