专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种电极制作方法及阵列基板的制作方法-CN201710336009.3在审
  • 宫奎;许徐飞 - 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
  • 2017-05-12 - 2017-08-29 - H01L21/3213
  • 本发明公开了一种电极制作方法及阵列基板的制作方法,涉及显示技术领域,解决了现有的刻蚀铜金属层过程中光刻胶掩膜层容易脱落,使得刻蚀形成的铜电极或铜电极线部分区域变细甚至断开,导致制作形成的薄膜晶体管的性能较差的技术问题。该电极制作方法包括在基板上依次形成铜金属层、第一难熔金属隔离层和光刻胶掩膜层;利用光刻胶掩膜层,进行湿法刻蚀,形成第一难熔金属电极图形;对光刻胶掩膜层进行软化处理,得到覆盖第一难熔金属电极图形的侧壁的抗刻蚀层;以抗刻蚀层作为掩膜,进行湿法刻蚀,形成铜电极图形;去除抗刻蚀层,形成目标电极。本发明提供的电极制作方法应用于制作电极。
  • 一种电极制作方法阵列
  • [发明专利]一种刻蚀方法-CN201610162056.6在审
  • 张俊;王一军;许徐飞;宋洁 - 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
  • 2016-03-21 - 2016-06-08 - H01L21/311
  • 本发明公开了一种刻蚀方法,包括:在需要图案化的膜层上涂覆光刻胶层;在光刻胶层上形成光刻胶去除区域和光刻胶保留区域;在光刻胶去除区域形成交联材料,在预定条件下使交联材料与光刻胶保留区域发生反应,形成反应区域;去除交联材料,保留光刻胶保留区域和反应区域,对去除交联材料区域的膜层进行刻蚀;去除光刻胶保留区域和反应区域的遮挡层,形成图案化膜层。提供的刻蚀方法,能够在现有设备的基础上提高曝光精度,形成关键尺寸更小的结构。本发明通过控制交联材料和光刻胶反应的条件,可以调整反应区域的宽度,并可以调整至小于曝光机分辨率极限的关键尺寸,而不会发生残留remain。
  • 一种刻蚀方法
  • [发明专利]一种固体燃料的多段分级热解气化装置及方法-CN201110027951.4有效
  • 高士秋;许光文;周琦;许徐飞;汪印;李强 - 中国科学院过程工程研究所
  • 2011-01-26 - 2012-05-23 - C10J3/66
  • 本发明涉及一种固体燃料的多段分级热解气化装置及方法。本发明的装置包括加煤装置1、多层流化床反应器6、排渣阀9、旋风分离器10和冷凝分离器11;所述的多层流化床反应器6的底部设置进气口;所述的多层流化床反应器6内设置若干层流化床3,每层流化床3通过带孔的分布板5隔开,最顶层流化床与加煤装置1连通,最顶层流化床中加入的煤与该层热解半焦及上行的高温热解气化气进行热交换,发生低温热解,得到初步热解的固体颗粒经溢流管4/分布板5下行进入到下一层流化床中,继续与半焦及热解气化气发生热交换进行热解反应,依次进入下一层流化床中,最后进入到最底层流化床中发生气化反应。本发明的装置和方法可以产生更多的轻质焦油组分。
  • 一种固体燃料分级解气化装方法

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