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[实用新型]一种防断裂塑料托盘-CN202222424007.9有效
发明人： 占建英 -专利权人：武汉中百新晨环保包装科技有限公司
申请日： 2022-09-13 - 公布日： 2023-01-03 - 主分类号： B65D19/40 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种防断裂塑料托盘，包括托盘底座和第一支套，所述托盘底座的底端安装有等间距的多组第一支套，所述第一支套一侧的托盘底座底端安装有等间距的多组第二支套，所述第二支套一侧的托盘底座底端安装有等间距的多组第三支套，所述第三支套一侧的托盘底座底端安装有等间距的多组第四支套，所述第四支套一侧的托盘底座底端安装有等间距的多组第五支套。本实用新型不仅实现了塑料托盘结构加强的连接，增加了结构连接的强度，而且提高了塑料托盘叠加时的便利性。
一种断裂塑料托盘

[实用新型]一种环保一次性餐具生产装置-CN202221055868.8有效
发明人： 占建英;晏超 -专利权人：武汉中百新晨环保包装科技有限公司
申请日： 2022-04-28 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： B29C43/50 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种环保一次性餐具生产装置，包括机架、液压缸、动模、定模、螺旋输送装置、电加热装置、料斗、驱动箱以及控制箱，其特征是：机架上装有套管，套管内装有封闭式的伸缩气囊，伸缩气囊的前端与套管连接固定，伸缩气囊的前端装有单向阀，伸缩气囊的前端装有电磁阀，动模上装有气嘴，气嘴通过气管与电磁阀连通，机架上还装有电动推杆，电动推杆的驱动杆与伸缩气囊的后端连接固定，该餐具生产装置还包括用于控制电动推杆和电磁阀的辅助控制器。该生产装置在生产餐具的过程中，通过向动模的边缘吹气，若有餐具成品挂在动模上，则气流可以将餐具成品吹落，这样就无需人工取下餐具或是停机后取下餐具，不会影响到热塑加工的效率。
一种环保一次性餐具生产装置

[发明专利]显示基板及其制备方法、显示装置-CN201910596302.2有效
发明人： 占建英;张慧文;张亮 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方显示技术有限公司
申请日： 2019-07-03 - 公布日： 2021-11-16 - 主分类号： H01L27/12 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种显示基板及其制备方法、显示装置。显示基板包括柔性基底以及设置在所述柔性基底上的薄膜晶体管，所述柔性基底上嵌设有强化层，所述强化层的位置与薄膜晶体管沟道区的位置相对应，用于提高薄膜晶体管沟道区的抗形变能力。本发明通过在基底上嵌设强化层，强化层与薄膜晶体管沟道区的位置相对应，提高了薄膜晶体管沟道区的抗形变能力，在显示基板弯曲时能够减小甚至消除薄膜晶体管沟道区的形变，避免因薄膜晶体管沟道区形变过大影响薄膜晶体管的电性参数，保证了发光稳定性，提升了显示品质，有效解决了现有显示装置存在的发光不稳定的问题。
显示及其制备方法显示装置

[发明专利]阵列基板及其制造方法、显示装置-CN201710324020.8有效
发明人： 占建英;沈奇雨 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
申请日： 2017-05-08 - 公布日： 2020-05-26 - 主分类号： H01L27/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种阵列基板及其制造方法、显示装置，属于显示技术领域。所述阵列基板包括：衬底基板；所述衬底基板上设置有栅极；在所述栅极上设置有带有凹槽的栅极绝缘层，所述凹槽位于所述栅绝缘层远离所述衬底基板的一侧；在所述凹槽内依次设置有源层和源漏极图形；在所述源漏极图形上设置有钝化层。本发明通过将有源层和源漏极图形依次设置在凹槽内，可以减小钝化层存在的相对段差，进而提高了显示装置的显示质量。本发明用于显示装置中。
阵列及其制造方法显示装置

[发明专利]一种薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板、显示装置-CN201710023214.4有效
发明人：元淼;沈奇雨;许徐飞;占建英;郭海兵 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
申请日： 2017-01-12 - 公布日： 2020-03-31 - 主分类号： H01L51/05 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板、显示装置，涉及显示技术领域，能够减少有源层中垂直于OTFT沟道中载流子传输方向的晶界数量。该薄膜晶体管的制作方法包括制作源极和漏极的方法，还包括制作有源层的方法：在衬底上沿第一方向形成多个处理区域，且任意相邻两个处理区域具有不同的亲水性；其中，第一方向与薄膜晶体管的载流子传输方向平行；在衬底上形成至少覆盖相邻两个处理区域的部分交界区域的有源层。
一种薄膜晶体管及其制作方法阵列显示装置

[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、显示装置-CN201610663487.0有效
发明人：张俊;占建英;杨丽娟;周如;王一军 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
申请日： 2016-08-12 - 公布日： 2020-01-31 - 主分类号： H01L27/12 文献下载
摘要：本发明提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置，属于显示技术领域，其可解决现有的沟道处的段差大易导致台阶处源漏极短接、有机层过孔处易发生光刻胶残留造成显示不良的问题。本发明的阵列基板中，在栅极绝缘层远离栅极的一侧设置凹部，将有源层设于凹部内，使得栅极绝缘层远离栅极的一面与有源层远离栅极的一面尽量齐平。这样形成的源漏极可以平坦的覆盖在其上方，源漏极不会短接。此外，在后续工艺中相当于用栅极绝缘层抬高源漏极，减小有机层过孔处的段差，不会导致光刻胶残留，影响像素电极与源漏极搭接。本发明的阵列基板适用于各种显示装置，尤其适用于像素高的液晶显示装置。
一种阵列及其制备方法显示装置

[发明专利]显示基板及其制备方法、显示装置-CN201710024600.5有效
发明人：张俊;史高飞;周如;占建英 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
申请日： 2017-01-13 - 公布日： 2020-01-07 - 主分类号： H01L27/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种显示基板及其制备方法、显示装置，所述显示基板包括显示区域和周边区域，周边区域设置有第一电极线，第一电极线上设置有绝缘层，绝缘层上对应第一电极线所在的位置设置有第一过孔，第一过孔中设置有接触电极，绝缘层上设置有第二电极线，第二电极线通过接触电极与第一电极线电连接。本发明提供的技术方案在第一电极线与第二电极线之间设置接触电极，在对第二电极线进行刻蚀去除时接触电极可以对第一电极线进行保护，使得刻蚀液不会对第一电极线进行破坏。因此，本发明提供的技术方案在不影响第一电极线与第二电极线进行搭接的前提之下，避免对第二电极线进行刻蚀去除时损伤第一电极线，从而节约了生产成本，提高了生产效率。
显示及其制备方法显示装置

[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、显示装置-CN201710002822.7有效
发明人： 占建英;冯思林;张俊;沈奇雨 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
申请日： 2017-01-03 - 公布日： 2019-12-24 - 主分类号： H01L27/12 文献下载
摘要：本发明提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域，可提高显示效果。所述阵列基板包括：GOA区域，所述GOA区域设置有薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括依次设置在衬底上的栅极、栅绝缘层、有源层、源极和漏极；所述阵列基板还包括依次设置在所述源极和所述漏极远离所述衬底一侧的钝化层和导电层；其中，所述导电层在所述衬底上的正投影与所述有源层在所述衬底上的正投影重叠。
一种阵列及其制备方法显示装置

[发明专利]一种薄膜晶体管及其制作方法、显示基板及显示装置-CN201710001470.3有效
发明人： 占建英;张慧文;冯思林 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
申请日： 2017-01-03 - 公布日： 2019-12-03 - 主分类号： H01L29/786 文献下载
摘要：本发明涉及显示技术领域，公开了一种薄膜晶体管及其制作方法、显示基板及显示装置。所述薄膜晶体管包括与有源层的沟道区接触设置的导电图形，所述导电图形与源电极、漏电极绝缘设置。当薄膜晶体管导通时，位于源电极和导电图形之间的沟道区，以及位于漏电极和导电图形的沟道区形成导电沟道，而不是整个沟道区形成导电沟道，使沟道区的宽长比小于导电沟道的宽长比，较小的沟道区宽长比能够获得小的关态电流Ioff，较大的导电沟道的宽长比能够获得大的工作电流Ion，达到了同时优化Ion和Ioff的目的，提升了薄膜晶体管的性能。
一种薄膜晶体管及其制作方法显示显示装置

[发明专利]一种液晶显示面板、液晶显示装置及其驱动方法-CN201710115345.5有效
发明人：赵娜;邓立赟;许徐飞;占建英;杨丽娟 -专利权人：合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2017-02-28 - 公布日： 2019-09-20 - 主分类号： G09G3/36 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种液晶显示面板、液晶显示装置及其驱动方法，涉及显示技术领域，可改善现有技术中寄生电容对显示的影响。该液晶显示面板包括阵列基板和对盒基板；阵列基板包括第一衬底、设置于第一衬底上的栅线、数据线和薄膜晶体管；对盒基板包括第二衬底、设置于第二衬底面向阵列基板一侧的多个附加电极；在每个子像素区域，栅线和所述数据线形成第一重叠区域、薄膜晶体管的栅极和源极形成第二重叠区域、薄膜晶体管的栅极和漏极形成第三重叠区域；在每个所述子像素区域，所述附加电极与所述第一重叠区域、所述第二重叠区域和所述第三重叠区域中的至少一个重叠区域，在第一衬底上的正投影面积相等且重叠。
重叠区域衬底液晶显示面板薄膜晶体管阵列基板液晶显示装置子像素区域附加电极数据线对盒基板栅线驱动寄生电容面积相等正投影漏极源极

[发明专利]一种图案化目标膜层、薄膜晶体管、阵列基板及制作方法-CN201710166641.8有效
发明人：张慧文;占建英;王志鹏;于凯;李铁朋 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
申请日： 2017-03-20 - 公布日： 2019-09-03 - 主分类号： H01L29/786 文献下载
摘要：本申请实施例提供一种图案化目标膜层、薄膜晶体管、阵列基板及制作方法，以简化图案化目标膜层的制作工艺，降低图案化目标膜层的制作成本。所述制作方法包括：在衬底基板上形成图案化的光刻胶层，其中，所述光刻胶层的图案为与所述目标膜层的图案互补的图案；在所述光刻胶层上形成目标层薄膜；去除图案化的所述光刻胶层，并同时去除与所述光刻胶层的图案相对应区域的目标层薄膜，形成目标膜层的图案。
一种图案目标薄膜晶体管阵列制作方法

[发明专利]显示基板及其制造方法、掩膜版、显示装置-CN201910476225.7在审
发明人： 占建英;张慧文;姚利利 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
申请日： 2019-06-03 - 公布日： 2019-08-23 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：本申请公开一种显示基板及其制造方法、掩膜版、显示装置，属于显示技术领域。该方法包括：在衬底基板上形成金属材质层；通过一次构图工艺对金属材质层进行处理得到像素界定层和第一电极，第一电极位于像素界定层限定的像素开口中。本申请可以简化显示基板的制造过程，降低显示基板的制造成本。本申请用于显示基板制造。
显示基板金属材质层像素界定层第一电极显示装置掩膜版申请制造衬底基板构图工艺像素开口制造成本制造过程

[发明专利]具有套设在基层第一过孔上的第二过孔的层结构制备方法-CN201610141245.5有效
发明人：张俊;占建英 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
申请日： 2016-03-11 - 公布日： 2019-03-15 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：本发明提供一种具有套设在基层第一过孔上的第二过孔的层结构制备方法。所述具有套设在基层第一过孔上的第二过孔的层结构制备方法包括：在基层上涂覆负性光刻胶；利用半色调掩模板进行曝光；且所述半色调掩模板的与所述基层的第一过孔对应的区域为完全透光区域，该完全透光区域的外侧为将该完全透光区域环绕、且与该完全透光区域相接的半透光区域；对所述负性光刻胶进行显影；在显影后的图形上形成一层材料；剥离剩余的光刻胶。上述具有套设在基层第一过孔上的第二过孔的层结构制备方法，其可以避免因工艺波动而出现光刻胶残留，进而导致各种短接不良的问题，同时，还可以省去刻蚀工艺，简化工艺步骤，降低成本。
具有设在基层第一第二结构制备方法

[发明专利]一种阵列基板及其制作方法、显示面板和显示装置-CN201610004798.6有效
发明人： 占建英;冯思林;张俊 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
申请日： 2016-01-04 - 公布日： 2018-11-23 - 主分类号： H01L27/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种阵列基板及其制作方法、显示面板和显示装置，用以减小阵列基板的边框，实现阵列基板的窄边框设计。所述阵列基板，包括显示区域和边框区域，所述边框区域包括移位寄存器单元和信号线，所述信号线与所述移位寄存器单元中的薄膜晶体管的栅极连接，所述信号线与所述移位寄存器单元在衬底基板上的投影相重叠。
一种阵列及其制作方法显示面板显示装置

[发明专利]等离子体射流装置-CN201710004355.1在审
发明人： 占建英;周如;张俊;张慧文;元淼 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
申请日： 2017-01-04 - 公布日： 2017-06-16 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种等离子体射流装置，包括外壳，所述外壳上设置有第一入口和第一出口，所述外壳内分布设置有多个放电单元；所述第一入口用于向所述放电单元提供反应气体；所述放电单元用于对所述反应气体进行放电处理，以形成等离子体射流；所述第一出口用于输出所述等离子体射流。本发明提供的等离子体射流装置形成的等离子体通过气流作用形成大面积均匀稳定的等离子体射流，这些阵列式的等离子体射流直接作用于基板，对薄膜晶体管进行刻蚀处理，最终实现放电区域与工作区域分离的薄膜晶体管等离子体刻蚀工艺。本发明提供的技术方案具有等离子体粒子活性高、处理速度快，可实现多角度、大面积均匀稳定的低温薄膜晶体管表面刻蚀等优点。
等离子体射流装置

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