专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果18个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]绝缘膜的成膜方法、绝缘膜的成膜装置及基板处理系统-CN201880025732.2有效
  • 村松诚;斋藤祐介;源岛久志;藤井宽之 - 东京毅力科创株式会社
  • 2018-03-13 - 2023-10-20 - H01L21/316
  • 本发明的课题是提供一种技术:在基板上形成包含氧化硅的绝缘膜作为涂布膜时,可获得良好的膜质。本发明的成膜方法的特征在于,将包含聚硅氮烷的涂布液涂布在晶圆W上,并使涂布液的溶剂挥发后,在进行固化工序之前,在氮气气氛下对前述涂布膜照射紫外线。因此,在聚硅氮烷的被水解的部位容易生成悬挂键。因此,由于在作为预先被水解的部位的硅中生成悬挂键,因此羟基的生成效率变高。即,由于水解所需的能量降低,因此,即使在将固化工序的温度设为350℃时,未被水解而残留的部位也会变少。其结果,由于有效地发生脱水缩合,因此交联率提高,从而能够成膜致密的(为良好的膜质)绝缘膜。
  • 绝缘方法装置处理系统
  • [发明专利]涂装体及涂布组合物-CN202080005379.9有效
  • 西野骏佑;藤井宽之;池田猛;伊丹爱子;早川信;岛井曜;铃木惠介 - TOTO株式会社
  • 2020-03-06 - 2023-06-30 - C01F17/235
  • 本发明提供一种涂装体及涂布组合物,可长期发挥即使在屋内也能够抑制霉菌繁殖的功能及屋外的出色的抑制霉菌及/或藻的繁殖的功能。该涂布涂装体是基材上设置有表面层的涂装体,表面层含有萤石结构的具有氧缺陷的平均微晶直径为10nm以下的氧化铈粒子,该氧化铈粒子在喇曼分光光谱中,归属于Ce‑O结合的F2g振动模式的峰值,相对于通过测定标准物质得到的归属于Ce‑O结合的F2g振动模式的峰值,向低波数侧偏离超过2cm‑1。该涂装体长期极其显著地抑制屋内的霉菌的繁殖及屋外的藻的繁殖。
  • 涂装体组合
  • [发明专利]电子器件制造用溶剂组合物-CN201880024340.4有效
  • 藤井宽之;赤井泰之;铃木阳二 - 株式会社大赛璐
  • 2018-04-25 - 2022-10-28 - C09D11/03
  • 本发明提供一种溶剂组合物,其是用于通过印刷法制造电子器件的油墨中使用的溶剂组合物,其中,所述溶剂组合物可以提高油墨的印刷精度,可以在低温下进行烧制,可以将烧制后残存的灰分量抑制到非常低的水平。本发明的电子器件制造用溶剂组合物是用于通过印刷法制造电子器件的油墨中使用的溶剂组合物,其中,所述溶剂组合物包含溶剂与下述式(1)所示的化合物的相容物。式(1)中,R相同或不同,表示碳原子数为1以上的脂肪族烃基。
  • 电子器件制造溶剂组合
  • [发明专利]基片处理方法和基片处理系统-CN202180013830.6在审
  • 斋藤祐介;村松诚;藤井宽之 - 东京毅力科创株式会社
  • 2021-02-05 - 2022-09-16 - H01L21/3065
  • 本发明的对基片进行处理的基片处理方法包括:将包含有机金属配合物、溶剂和添加物的涂敷液涂敷于基片,形成上述涂敷液的液膜的步骤;对形成有上述涂敷液的液膜的基片进行加热,形成含有机成分的金属氧化膜的步骤,其中,上述含有机成分的金属氧化膜是包含上述添加物中所含的有机成分的金属氧化膜;将上述含有机成分的金属氧化膜作为掩模进行干蚀刻的步骤;在上述干蚀刻后,将上述含有机成分的金属氧化膜中的上述有机成分除去的步骤;和将从上述含有机成分的金属氧化膜中除去了上述有机成分的膜通过湿蚀刻除去的步骤。
  • 处理方法系统
  • [发明专利]组合物及其制造方法-CN202180010388.1在审
  • 藤井宽之 - 株式会社大赛璐
  • 2021-01-07 - 2022-09-09 - C07C291/04
  • 本公开提供一种具有用于涂布性、排出性的适度的粘性,能在低温下烧成,烧成后的灰分量极少的组合物。本公开的组合物包含下述式(1)所示的化合物与下述式(A)所示的化合物的相溶物。下述式(1)中,R1表示碳原子数10~25的直链状脂肪族烃基,R2、R3相同或不同,表示碳原子数2、4、6或8的烃基,R4表示碳原子数1~8的脂肪族烃基,R5、R6相同或不同,表示碳原子数1~3的脂肪族烃基、或羟烷基醚基。L1~L3表示酰胺键。下述式(A)中,式中,Ra和Rc相同或不同,表示氢原子或任选地具有取代基的碳原子数1~12的脂肪族烃基,Rb表示任选地具有取代基的碳原子数1~12的脂肪族烃基,各个取代基为氨基和/或羟基。
  • 组合及其制造方法
  • [其他]捆包容器及捆包容器用片材-CN201890001182.6有效
  • 藤井宽之;松本创一郎 - 三菱重工制冷空调系统株式会社
  • 2018-08-24 - 2021-02-05 - B65D5/50
  • 本实用新型的目的在于减少部件数量、使用材料,并且可靠地固定在各边形成有倾斜面的被捆包物或者防止装载时的变形。捆包容器(1)具备:经由第一弯折线(11)与底面部(5)连接并相对于底面部(5)倾斜地设置的第一斜面部(8)以及经由与第一弯折线(11)平行的第二弯折线(12)而与第一斜面部(8)连接的第一侧面部(6),捆包容器具有:第一切缝,该第一切缝连结第一弯折线(11)的端部和第二弯折线(12)的端部,并以使底面部(5)与第一斜面部(8)分离并且使第一侧面部(6)与第一斜面部(8)分离的方式形成;以及第二切缝,该第二切缝与第一弯折线(11)及第二弯折线(12)平行地形成,连结第一侧面部(6)的端部或底面部(5)的端部与第一切缝的中间部,并以使底面部(5)与第一侧面部(6)分离的方式形成。
  • 容器包容器用
  • [其他]包装容器及包装容器用片材-CN201890001178.X有效
  • 藤井宽之;松本创一郎 - 三菱重工制冷空调系统株式会社
  • 2018-08-24 - 2020-11-06 - B65D5/30
  • 一种包装容器及包装容器用片材,目的在于在两个侧面部的连接部分,在减少部件个数、使用材料的同时可靠且牢固地连接两个侧面部。包装容器(1)具备:连接部(16),其经由第三弯折部(15)与第二侧面部(7)连接,在第一侧面部(6)相对于底面部(5)竖立设置的状态下,沿着第一侧面部(6)的内表面设置;带部(20),其以基端与第一侧面部(6)的板面连接且顶端能够从第一侧面部(6)分开的方式相对于第一侧面部(6)的长度方向平行地延伸设置;第一切口,其以带部(20)形成在其内侧的方式形成于第一侧面部(6)的板面;以及开口部(22A),其形成于连接部(16)的板面,且能够供带部(20)的顶端插入,带部(20)的基端侧设置于连接部(16)的内表面侧,带部(20)的顶端相对于开口部(22A)从连接部(16)的内表面侧向外表面侧插入。
  • 包装容器用片材
  • [发明专利]光催化剂涂装体和光催化剂涂覆液-CN201510088854.4有效
  • 藤井宽之;龟岛顺次;表敷浩二;北崎聪;足立进 - TOTO株式会社
  • 2011-07-26 - 2018-02-23 - B01J37/02
  • 本发明公开了一种具有优异的光催化分解功能和优异的耐候性的光催化剂涂装体。还公开了一种在移除空气中的NOx中,能够提高NOx的移除量的同时,抑制如NO2等中间产物的生成的光催化剂涂装体。所述光催化剂层包含基体和设置于基体上的光催化剂层。所述光催化剂涂装体的特征在于,所述光催化剂层含有1‑20(包括的)质量份的光催化剂颗粒、30‑98(包括的)质量份的二氧化硅颗粒以及1‑50(包括的)质量份的氧化锆颗粒,使光催化剂颗粒、二氧化硅颗粒和氧化锆颗粒的合计为100质量份。所述光催化剂涂装体的特征还在于,所述氧化锆颗粒为选自在由具有平均晶粒直径为10nm以下的结晶氧化锆颗粒和无定形氧化锆颗粒构成的群组中的至少一种。
  • 光催化剂涂装体涂覆液
  • [发明专利]光触媒涂装体以及光触媒涂液-CN201511000844.7在审
  • 早川信;表敷浩二;北崎聪;藤井宽之;菅野充诚;龟岛顺次 - TOTO株式会社
  • 2011-03-25 - 2016-05-04 - B01J21/08
  • 本发明的目的在于提供一种能够得到良好的耐大气腐蚀性的光触媒涂装体,及在除去NOX时,尤其在除去空气中的NOX时,能够在提高NOX除去量的同时抑制NO2等中间生成物的生成的光触媒涂装体以及用于其形成的光触媒涂液。光触媒涂液至少包含光触媒性氧化钛粒子、二氧化硅粒子、水溶性锆化合物、水,其特征为,在光触媒涂液的全部固体部分中的光触媒性氧化钛粒子为1质量%以上、15质量%以下,二氧化硅粒子为51质量%以上、98质量%以下,换算成ZrO2的水溶性锆化合物的量为1质量%以上、15质量%以下,还包含除了光触媒性氧化钛粒子与二氧化硅粒子以外的0质量%以上、47质量%以下粒子成分,粒子成分的总量为85质量%以上、99质量%以下。
  • 触媒涂装体以及
  • [发明专利]复合材料及涂装组合物-CN201280064345.2有效
  • 田村万理;高见浩辅;北崎聪;藤井宽之;早川信 - TOTO株式会社
  • 2012-12-27 - 2014-09-17 - B32B9/00
  • 本发明提供一种复合材料,在与大量的水(雨水)接触时,发挥充分的自清洗性能,另一方面,即使在水(雨水)量少时,也不会产生由堆积在表面上的沙尘等所形成的线状污渍。本发明的复合材料具备基体材料与形成在所述基体材料的表面上的表面层,其特征为,所述表面层包含:含有选自Si、Al、Ti、Sn及W中的至少一种金属与氧的化合物(A);及选自氧化物、无机盐与有机盐中的至少一种化合物(B),氧化物、无机盐与有机盐含有选自Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Ga、Zr、Y、In及Hf中的至少一种金属,相对于所述化合物(A)的质量与所述化合物(B)的换算成氧化物的质量的质量之和,所述化合物(B)在换算成其氧化物时被配合成30质量%以上、小于99质量%。
  • 复合材料组合
  • [发明专利]光催化剂涂装体及用于此的光催化剂涂覆液-CN201180063774.3有效
  • 早川信;藤井宽之;高木洋二 - TOTO株式会社
  • 2011-11-02 - 2013-09-18 - B01J35/02
  • 本发明提供了一种不易产生流动条纹状外观不良的光催化剂涂装体。同时,本发明公开了一种不损坏基材所具备的设计性,特别是有效防止有机基材的侵蚀的同时,在各种特性特别是有害气体分解性和耐候性方面优异的光催化剂涂装体。该光催化剂涂装体的特征在于,其为由具备机成分的基材和该基材上设置的透明光催化剂层构成,以该光催化剂层全体为100质量%时,所述光催化剂层包含1质量%以上20质量%以下的光催化剂颗粒,50质量%以上、不足89质量%的无机氧化物颗粒和超过10质量%不足30质量%的有机硅乳液的干燥物,所述有机硅乳液以平均组成式RaSiO(4-a)/2(其中,R为烷基或者苯基,2≦a<4)所表示的有机硅构成。
  • 光催化剂涂装体用于涂覆液
  • [发明专利]光催化剂涂装体和光催化剂涂覆液-CN201180046787.X有效
  • 藤井宽之;龟岛顺次;表敷浩二;北崎聪;足立进 - TOTO株式会社
  • 2011-07-26 - 2013-06-05 - B01J35/02
  • 本发明公开了一种具有优异的光催化分解功能和优异的耐候性的光催化剂涂装体。还公开了一种在移除空气中的NOx中,能够提高NOx的移除量的同时,抑制如NO2等中间产物的生成的光催化剂涂装体。所述光催化剂层包含基体和设置于基体上的光催化剂层。所述光催化剂涂装体的特征在于,所述光催化剂层含有1-20(包括的)质量份的光催化剂颗粒、30-98(包括的)质量份的二氧化硅颗粒以及1-50(包括的)质量份的氧化锆颗粒,使光催化剂颗粒、二氧化硅颗粒和氧化锆颗粒的合计为100质量份。所述光催化剂涂装体的特征还在于,所述氧化锆颗粒为选自在由具有平均晶粒直径为10nm以下的结晶氧化锆颗粒和无定形氧化锆颗粒构成的群组中的至少一种。
  • 光催化剂涂装体涂覆液
  • [发明专利]光触媒涂装体以及光触媒涂液-CN201180015808.1有效
  • 早川信;表敷浩二;北崎聪;藤井宽之;菅野充诚;龟岛顺次 - TOTO株式会社
  • 2011-03-25 - 2012-12-12 - B01J35/02
  • 本发明的目的在于提供一种能够得到良好的耐大气腐蚀性的光触媒涂装体,及在除去NOX时,尤其在除去空气中的NOX时,能够在提高NOX除去量的同时抑制NO2等中间生成物的生成的光触媒涂装体以及用于其形成的光触媒涂液。光触媒涂装体的特征为,具备设置在基体材料上的光触媒层,所述光触媒层至少包含光触媒性氧化钛粒子、二氧化硅粒子与水溶性锆化合物的干燥物,在将所述光触媒层整体为100质量%时,所述光触媒性氧化钛粒子为1质量%以上、20质量%以下,所述二氧化硅粒子为51质量%以上、98质量%以下,换算成氧化锆(ZrO2)的所述水溶性锆化合物的干燥物的量为1重量%以上、48质量%以下。
  • 触媒涂装体以及

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top