|
|
钻瓜专利网为您找到相关结果 15个，建议您 升级VIP下载更多相关专利
- [实用新型]硅片传送机构-CN202223294738.2有效
-
赖学明
-
苏州耀德半导体有限公司
-
2022-12-08
-
2023-04-11
-
H01L21/677
- 本实用新型公开了一种硅片传送机构，包括传送腔及围绕传送腔设置的多个工艺腔，传送腔内设有在旋转机构作用下能朝向任一工艺腔的伸缩臂，伸缩臂上安装有能伸入到工艺腔内的夹取片叉。还包括检测机构，检测机构包括第一检测组件、第二检测组件，第一检测组件安装在夹取片叉上，用以检测是否夹取到硅片；第二检测组件安装在工艺腔的顶部，其包括与工艺腔一一对应设置的第二检测部，每个第二检测部均包括在驱动件作用下能相向或背向移动的一对视觉相机，且一对视觉相机的连线中点与对应的工艺腔的中点沿竖直方向投影后的连线垂直于一对视觉相机沿竖直方向投影的连线。本实用新型的硅片传送机构能对不同规格的硅片进行位置检测，提高生产效率。
- 硅片传送机构
- [实用新型]CVD反应器的晶圆固定机构-CN202221729640.2有效
-
赖学明
-
苏州耀德半导体有限公司
-
2022-07-06
-
2023-02-17
-
C23C16/458
- 本实用新型公开了CVD反应器的晶圆固定机构，包括反应器本体，所述反应器本体的内腔设置有加热室和反应室，所述反应室的内腔活动连接有转盘，所述转盘的顶部设置有夹持机构，所述反应器本体的右侧设置有预加热机构，所述夹持机构包括两个支撑杆。本实用新型的有益效果为：本实用新型能够通过设置夹持机构和转盘的配合使用，使用者将晶圆放置在两个夹持板之间，通过夹持板对晶圆进行夹持，在对晶圆进行加工的时候，启动第一电机，通过第一电机带动伸缩杆进行旋转，此时伸缩杆带动夹持板进行旋转，从而达到带动晶圆进行翻转的效果，且在对晶圆进行翻转的同时对转盘进行旋转，从而增加了加工的效率。
- cvd反应器固定机构
- [发明专利]双头连接管和具有其的液体流量计-CN202211171622.1在审
-
赖学明
-
苏州耀德半导体有限公司
-
2022-09-26
-
2023-01-06
-
F16L27/08
- 本发明公开了一种双头连接管包括具有进口和出口的管体，容置槽，沿轴向开设在所述进口和出口处，弹簧组件，由多个弹簧组成，所述弹簧安装在所述容置槽于靠近所述管体中部一侧表面上，所述弹簧另一端固连有安装座，所述安装座呈圆环状，连接头，安装在所述安装座于远离所述管体中部一侧表面上，所述连接头内壁和外壁均安装有螺纹，封盖，通过螺栓安装在所述进口和所述出口端部，所述封盖用以将所述连接头限制在所述容置槽内，所述封盖中部具有用以连通管体内部的流通口；本发明结构简单可解决液体流量计在连接卡套球阀和压接软管时，需要使用转接头作为中转连接，从而造成液体流量计安装繁琐，空间占用率高的问题。
- 双头连接管具有液体流量计
- [实用新型]一种硅片检测设备-CN202222551464.4有效
-
赖学明
-
苏州耀德半导体有限公司
-
2022-09-26
-
2023-01-06
-
B65G43/08
- 本实用新型公开了一种硅片检测设备包括底板和检测箱体，所述检测箱体两侧壁底部具有输送口，所述检测箱体长度方向的两侧壁上安装有斜对射光电感应器，输送线，安装在所述底板上，并通过所述输送口穿出所述检测箱体设置，电机，安装在所述输送线上并驱动所述输送线进行工作，置物盘，可拆卸的安装在所述输送线上，用于放置待检测的硅片，气缸，安装在所述底板上，并相对位于所述发射端和接收端连线中部的正下方，托盘，安装在所述气缸的伸出轴上，位置传感器，安装在所述检测箱体内壁上，用于检测所述置物盘在所述输送线上的运动位置；本实用新型可解决现有的硅片检测需要通过人工检测，从而造成检测效率较低，且易损伤硅片表面的问题。
- 一种硅片检测设备
- [实用新型]一种CVD反应器的支撑支架-CN202222600038.5有效
-
赖学明
-
苏州耀德半导体有限公司
-
2022-09-29
-
2023-01-06
-
F16M11/04
- 本实用新型公开了一种CVD反应器的支撑支架，包括支撑板，所述支撑板底部的四周均活动连接有万向轮，所述支撑板的顶部活动安装有反应器主体，所述支撑板的表面固定连接有液压伸缩杆，所述液压伸缩杆的活动端贯穿支撑板，所述液压伸缩杆的底部固定连接有支撑架，所述支撑板内设置有散热风机，所述支撑板的顶部固定连接有固定板。本实用新型的有益效果为：本实用新型能够通过设置液压伸缩杆和支撑板的配合使用，液压伸缩杆带动支撑板向下移动，增加底部的支撑力度，从而抬高反应器主体的高度，且底部增加支撑力度，防止倾斜，方便使用，且同时固定板和活动板对反应器主体的两侧进行限位，方便反应器主体输送的时候减少晃动，增加限位。
- 一种cvd反应器支撑支架
- [实用新型]一种带有喷嘴的CVD反应器-CN202222600040.2有效
-
赖学明
-
苏州耀德半导体有限公司
-
2022-09-29
-
2023-01-06
-
C23C16/455
- 本实用新型涉及一种带有喷嘴的CVD反应器，包括炉体、CVD反应器、传动组件、公转喷嘴组件和自转喷嘴组件，炉体的顶部固定安装有传动箱；传动组件设置在传动箱的内部，公转喷嘴组件设置在CVD反应器外侧的底部，自转喷嘴组件设置在公转喷嘴组件的两端；传动组件用于带动CVD反应器进行旋转；公转喷嘴组件带动自转喷嘴组件进行旋转。本实用新型的有益效果在于，在CVD反应设备技术领域中，通过外界的设备将原料气输送到CVD反应器中，再驱动传动组件带动CVD反应器进行旋转进行充分的混合原料气，同时利用公转喷嘴组件和自转喷嘴组件，使得原料气更加均匀的喷入炉内，大大的增加设备的实用性，提高工作效率，有利于实际的应用与操作。
- 一种带有喷嘴cvd反应器
- [实用新型]CVD机台的晶圆传送机构-CN202221325995.5有效
-
赖学明
-
苏州耀德半导体有限公司
-
2022-05-30
-
2023-01-06
-
H01L21/677
- 本实用新型涉及CVD机台的晶圆传送机构，涉及CVD沉淀加工技术领域，包括工作台和固定连接在工作台表面的第一固定板，第一固定板的表面固定连接有L型板，L型板的表面开设有用于转轴一穿过且与之定轴转动连接的通孔一，L型板的表面固定连接有电机一，电机一驱动轴的表面与转轴一的端部固定连接，转轴一的表面固定连接有连接板，连接板的端部固定连接有第二固定板，第二固定板的表面安装有负压通气拾取板，工作台的表面开设有用于转轴三穿过且与之定轴转动连接的通孔二，转轴三的表面开设有外螺纹槽，外螺纹槽的表面螺纹套接有放置板，本实用新型的有益效果在于，减小晶圆片转移支架的结构，降低晶圆片转移支架的成本，进而利于向中小企业推广。
- cvd机台传送机构
- [实用新型]CVD反应器的排气装置-CN202221731244.3有效
-
赖学明
-
苏州耀德半导体有限公司
-
2022-07-06
-
2022-10-28
-
C23C16/455
- 本实用新型公开了CVD反应器的排气装置，包括排气箱，所述排气箱的两侧均固定连通有排气管，所述排气箱内设置有喷淋头，所述排气箱的一侧设置有循环水箱，所述循环水箱的一侧设置有循环组件，所述循环水箱内设置有回收组件，所述循环水箱的顶部活动连接有盖板。本实用新型能够通过设置循环组件和循环水箱的配合使用，能够使水流通过水泵进入喷淋头中，水流对气体中的杂质进行清楚，从而在循环水箱中对杂质进行回收，斜坡增加杂质进入循环水箱中的情况，增加回收效果，且通过过滤网防止进入导水管中造成堵塞，且循环水质减少了水源的浪费，节约使用成本，且有效的净化排放气体。
- cvd反应器排气装置
- [实用新型]用于CVD设备的反应室-CN202221325815.3有效
-
赖学明
-
苏州耀德半导体有限公司
-
2022-05-30
-
2022-10-25
-
C23C16/44
- 本实用新型公开了用于CVD设备的反应室，包括柜体，所述柜体的一侧活动连接有防护门，所述柜体内设置有反应罐，所述反应罐固定连通有导管，所述柜体内固定连接有安装板，所述安装板上设置有与导管配合使用的夹持组件，所述安装板内设置有干燥组件。本实用新型的有益效果为：本实用新型能够通过设置夹持组件，能够使使用者拉动拉杆，拉杆带动限位板进入活动槽中，从而带动导向杆在导向槽中移动，带动弹簧受力形变，使用者将导管放入凹槽中，松开拉杆，弹簧受力形变带动限位板复位，从而增加了对导管的限位作用，防止上下移动，从而进行定位，防止倒流和折弯的情况出现，增加保护效果。
- 用于cvd设备反应
- [发明专利]预装载室失步监测系统及方法-CN202210529153.X在审
-
赖学明
-
苏州耀德半导体有限公司
-
2022-05-16
-
2022-10-11
-
H01L21/67
- 本发明公开了一种预装载室失步监测系统及方法，其中，监测系统包括机台、驱动机构、计步机构、监测机构。驱动机构包括马达、皮带轮组、丝杆、滑块，马达通过皮带轮组与丝杆连接；丝杆上螺纹套装有滑块；滑块上安装有预装载室；监测机构用以采集计步机构的实时计量数据，并监测失步差值是否合格。监测方法包括：实时采集计步机构的实时计量数据，并换算出滑块的目标移动距离、滑块的实际移动距离；计算出目标移动距离和实际移动距离之间的差值，并将该差值作为失步差值；当失步差值超出预设值时，监测机构发出报警并控制驱动机构停机。本发明的失步监测系统及方法能准确监测出预装载室的移动位置，降低晶圆划伤风险。
- 预装载室失步监测系统方法
- [实用新型]MCVD的加热器升降装置-CN202123270598.0有效
-
赖学明
-
苏州耀德半导体有限公司
-
2021-12-23
-
2022-07-05
-
C23C16/448
- 本实用新型公开了MCVD的加热器升降装置，包括底座，所述底座的顶端固定连接有盖板，所述底座的底端内侧固定连接有电动伸缩杆，所述电动伸缩杆的顶端固定连接有连接壳，所述连接壳的内侧设置有夹持机构，所述夹持机构的内侧设置有加热器，所述连接壳的一端固定连接有熄灭机构，与现有技术相比，通过设有的电动伸缩杆、连接壳、电机、调节螺杆、滑块、推杆、连接杆、夹紧块和防滑垫；在电机的作用下可以使加热器左右两侧的夹紧块带着防滑垫同时对加热器进行夹紧，保证加热器在夹持过程中不会出现往一侧偏移的现象，同时在升高过程中加热器也不会由于晃动出现偏移歪斜的现象，从而保证加热器的正常工作。
- mcvd加热器升降装置
- [实用新型]用于气相沉积设备的保温装置-CN202123272104.2有效
-
赖学明
-
苏州耀德半导体有限公司
-
2021-12-23
-
2022-05-17
-
C23C16/44
- 本实用新型涉及保温装置技术领域，尤其为用于气相沉积设备的保温装置，包括反应腔室和控制器，所述反应腔室的外侧转动设置有转筒，所述转筒包括转动内筒和保温层，所述保温层套设在转动内筒的外侧，所述转动内筒的内侧均匀地固定连接有发热灯，发热灯用于实现对流失热量的补充，降低内外温度差，维持保温的效果，所述转筒的外侧还设置有用于控制发热灯启停的热敏控制模块，热敏控制模块用于实现对发热灯在自动开启和自动关闭，所述反应腔室的底端外侧固定连接有支撑环，滚珠用于支撑转筒，所述支撑环的顶端内侧转动连接有滚珠，滚珠用于起到减小转动阻力的作用，所述滚珠的顶端与转筒的底端滑动连接。
- 用于沉积设备保温装置
|
