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[实用新型]一种片体自适应载台-CN202221835638.3有效
发明人：徐永亮;朱明伦;刘昌礼;徐鑫 -专利权人： 苏州恒嘉晶体材料有限公司
申请日： 2022-07-15 - 公布日： 2023-02-17 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本申请涉及晶片限位设备领域，具体而言，涉及一种片体自适应载台，一定程度上可以解决片体载台不适用于多种规格片体的问题。所述片体自适应载台包括放置座、支撑爪和驱动组件，所述支撑爪设置为至少两个且均与所述放置座滑动连接，且所述支撑爪沿靠近所述放置座中心或者远离所述放置座中心的方向滑动；所述驱动组件用于驱动所述支撑爪滑动。
一种自适应

[发明专利]一种圆片倒角磨削机构及使用方法-CN202211154253.5在审
发明人：徐永亮;秦孝龙;周波;王晓娟 -专利权人： 苏州恒嘉晶体材料有限公司
申请日： 2022-09-22 - 公布日： 2022-10-25 - 主分类号： B24B9/06 文献下载
摘要：本申请涉及圆片加工设备领域，具体而言，涉及一种圆片倒角磨削机构及使用方法，一定程度上可以解决倒角时圆片的幅宽不均而导致后续成品崩边率高的问题。所述圆片倒角磨削机构包括磨削皿、转动件和压块，所述磨削皿正置后，由下至上呈扩口圆筒状，圆片放置在所述磨削皿中且与所述磨削皿转动连接；所述转动件用于驱动所述磨削皿沿所述磨削皿的中轴线转动；所述压块位于所述圆片的上方且所述压块的底壁与所述圆片的顶壁贴合，所述压块用于使所述圆片与所述磨削皿产生转动速度差。
一种倒角磨削机构使用方法

[实用新型]一种晶棒定向粘棒装置-CN202221297105.4有效
发明人：徐永亮;钱超;姜恒;周波 -专利权人： 苏州恒嘉晶体材料有限公司
申请日： 2022-05-26 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： B28D7/04 文献下载
摘要：本申请涉及定向粘棒技术领域，具体而言，涉及一种晶棒定向粘棒装置，一定程度上可以解决晶棒水平位晶向角度和垂直位晶向角度的调节需要在两个不同部件上完成，并且需要加工树脂板补偿垂直位晶向角度的问题。晶棒定向粘棒装置包括晶棒、树脂板、晶托、角度测量机构、显示机构、测量平台；晶棒与树脂板连接；树脂板与晶托连接；晶托与测量平台连接；角度测量机构设置在晶棒的一端，角度测量机构用于测量晶棒的晶向角度，显示机构与角度测量机构连接，显示机构用于显示晶棒的晶向角度。
一种定向装置

[实用新型]一种具有清洗装置的抛光机-CN202121770000.1有效
发明人：徐永亮;陈宇超;钱超;岳甫;刘彬;姜恒 -专利权人： 苏州恒嘉晶体材料有限公司
申请日： 2021-07-30 - 公布日： 2022-03-11 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本申请的一种具有清洗装置的抛光机，抛光机包括相互对应的且均可转动的上抛光盘和下抛光盘，清洗装置包括设置在抛光机上且为中空结构的清洗柱，沿清洗柱的周向上设置有喷头组件，喷头组件与清洗柱连通，喷头组件的喷射方向朝向待清洗的抛光盘。本申请提供一种具有清洗装置的抛光机，能够同时对每个上抛光盘进行清洗，解决了人工刷洗上抛光盘时存在的费时费力、清洗不彻底的问题。
一种具有清洗装置抛光机

[实用新型]一种抛光用旋转盘-CN202121610540.3有效
发明人：徐永亮;钱超;汪海波;孙金明 -专利权人： 苏州恒嘉晶体材料有限公司
申请日： 2021-07-15 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： B24B41/06 文献下载
摘要：本申请技术方案提供一种抛光用旋转盘，包括旋转盘本体，在旋转盘本体的一侧表面设置有连通的破真空气流通道，旋转盘本体的另一侧表面设置有气管接头，用于连接空气源；气管接头通过旋转盘本体内部的破真空空气流向通道与破真空气流通道上的破真空出气孔连通，其中，破真空空气流向通道自气管接头至破真空出气孔弯曲延伸。该旋转盘结构的设计，空气可以从气管接头处进入，通过破真空空气流向通道，在旋转盘另一侧的破真空出气孔排出，进入破真空气流流道，使得旋转盘与陶瓷盘的贴合处吹入空气，从而减少贴合处的真空面积，并且由于气流压力的存在，最终使得气流压力及陶瓷盘自重所叠加的力克服真空形成的贴合力从而将陶瓷盘脱离旋转盘。
一种抛光旋转

[实用新型]一种晶圆搬运机械手-CN202122251830.X有效
发明人：徐永亮;陆兵;钱伟;孙磊;洪飞;钱大伟 -专利权人： 苏州恒嘉晶体材料有限公司
申请日： 2021-09-17 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： B25J11/00 文献下载
摘要：本申请涉及一种晶圆搬运机械手，该机械手包括主体框架、升降机构、通过连接组件连接的搬运机构和旋转机构；主体框架包括底板、与底板通过若干导向轴连接的升降机构固定架；搬运机构包括驱动牙叉组件直线运动的第一驱动部件、数显压力开关、驱动激光传感器直线运动的第二驱动部件。该机械手的牙叉组件采用直线驱动方式，重复定位精度高，结构更简单；升降机构采用导向轴进行导向，加强了机械手的稳定性，可以通过连接组件微量调节搬运机构的重心位置，进一步的避免了其在工作过程中发生较大的震动。
一种搬运机械手

[实用新型]一种衬底片厚度检测装置-CN202121662918.4有效
发明人：徐永亮;孙磊;于海群;陆兵;黄燕;陈宇超 -专利权人： 苏州恒嘉晶体材料有限公司
申请日： 2021-07-21 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本申请提供一种衬底片厚度检测装置，通过安装在机架台面上的感应陶瓷盘传感器，对陶瓷盘进行感应，当感应到陶瓷盘之后驱动旋转转台带动旋转工作台，使得旋转工作台上的陶瓷盘平稳的匀速旋转，然后通过光谱共焦传感器测量出与陶瓷盘上衬底片上表面的距离，以及与陶瓷盘上表面的距离，通过光谱共焦传感器与陶瓷盘上表面的距离以及光谱共焦传感器与陶瓷盘上衬底片上表面的距离作差即可得陶瓷盘上衬底片的厚度值。该装置，能够在整个测量过程，实现全自动化操作，可以节省人力，避免传统技术中测量精度受人工因素影响较大的问题，且本申请中的技术无需人工记录数据，需要的数据直接从光谱共焦传感器中导出，避免记录数据时出错。
一种衬底厚度检测装置

[发明专利]一种晶圆搬运机械手及控制方法-CN202111089920.1在审
发明人：徐永亮;陆兵;钱伟;孙磊;洪飞;钱大伟 -专利权人： 苏州恒嘉晶体材料有限公司
申请日： 2021-09-17 - 公布日： 2021-11-19 - 主分类号： B25J11/00 文献下载
摘要：本申请涉及一种晶圆搬运机械手及控制方法，该机械手包括主体框架、升降机构、通过连接组件连接的搬运机构和旋转机构；主体框架包括底板、与底板通过若干导向轴连接的升降机构固定架；搬运机构包括驱动牙叉组件直线运动的第一驱动部件、数显压力开关、驱动激光传感器直线运动的第二驱动部件。该机械手的牙叉组件采用直线驱动方式，重复定位精度高，结构更简单；升降机构采用导向轴进行导向，加强了机械手的稳定性，可以通过连接组件微量调节搬运机构的重心位置，进一步的避免了其在工作过程中发生较大的震动。该控制方法包括该机械手在不同工作状态时的不同动作过程的具体控制方法，该控制方法的步骤简单，控制精度高。
一种搬运机械手控制方法

[发明专利]一种蓝宝石光学片的处理方法-CN201910727254.6有效
发明人：徐永亮;吴鲁;姜杨斌;那木吉拉图;周波 -专利权人： 苏州恒嘉晶体材料有限公司
申请日： 2019-08-07 - 公布日： 2021-10-15 - 主分类号： C30B33/02 文献下载
摘要：本申请公开一种蓝宝石光学片的处理方法，包括：制备涂料；将制备的涂料涂覆在蓝宝石光学片的表面，形成涂层；烘干在蓝宝石光学片的表面上形成的涂层；烘干后，在700‑1500℃温度环境下，对蓝宝石光学片热处理1‑3个小时，热处理过程中，涂层成分与蓝宝石成分共融，且形成的共熔物至少部分渗透至微裂纹中；通过表面处理去除蓝宝石光学片表面的所述涂层，以使蓝宝石光学片的表面性能满足使用要求。由于通过本申请方法，涂层成分与蓝宝石成分可以发生共融，且其共熔物会渗入蓝宝石光学片表面的微裂纹中，因此可以有效改善蓝宝石光学片的断裂韧性，解决在有外力作用或者跌落时，微裂纹扩展导致的蓝宝石光学片破裂的问题。
一种蓝宝石光学处理方法

[实用新型]一种抛光盘及抛光盘下盘面的冷却系统-CN202022801676.4有效
发明人：徐永亮;陈宇超;吴鲁;施海斌;姜恒 -专利权人： 苏州恒嘉晶体材料有限公司
申请日： 2020-11-27 - 公布日： 2021-10-01 - 主分类号： B24B37/20 文献下载
摘要：本实用新型提供一种抛光盘，包括抛光垫、不锈钢盘、热电制冷板、下盘铸件、腔体、外拐角结构、内拐角结构、隔板、进水口和出水口以及旋转盘底座，抛光垫设置在不锈钢盘的上方，不锈钢盘的下方设置有热电制冷板，热电制冷板的下方设置有下盘铸件，下盘铸件与热电制冷板之间设置有腔体，进水口设置在腔体的一端下方，出水口设置在腔体的一端上方，腔体的内部设置有隔板和用于保证水流传导过程中流畅的外拐角结构以及内拐角结构，旋转盘底座设置在腔体的下方。本实用新型还提供一种抛光盘下盘面的冷却系统。本实用新型能够实现对抛光盘下盘面温度的快速、精准地调控，极大地提高了蓝宝石的抛光质量和生产效率。
一种抛光盘面冷却系统

[发明专利]一种具有清洗装置的抛光机及其使用方法-CN202110869156.3在审
发明人：徐永亮;陈宇超;钱超;岳甫;刘彬;姜恒 -专利权人： 苏州恒嘉晶体材料有限公司
申请日： 2021-07-30 - 公布日： 2021-09-28 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本申请的一种具有清洗装置的抛光机，抛光机包括相互对应的且均可转动的上抛光盘和下抛光盘，清洗装置包括设置在抛光机上且为中空结构的清洗柱，沿清洗柱的周向上设置有喷头组件，喷头组件与清洗柱连通，喷头组件的喷射方向朝向待清洗的抛光盘。本申请提供一种具有清洗装置的抛光机，能够对每个上抛光盘同时进行清洗，解决了人工刷洗上抛光盘时存在的费时费力、清洗不彻底的问题。本申请还提供了一种具有清洗装置的抛光机的使用方法，清洗过程由清洗程序控制清洗装置，启动清洗程序后自动开始清洗，清洗完成后自动停止，清洗期间设备无需人员看守，省时省力。
一种具有清洗装置抛光机及其使用方法

[发明专利]一种衬底片厚度检测装置及测量方法-CN202110826577.8在审
发明人：徐永亮;孙磊;于海群;陆兵;黄燕;陈宇超 -专利权人： 苏州恒嘉晶体材料有限公司
申请日： 2021-07-21 - 公布日： 2021-09-14 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本申请提供一种衬底片厚度检测装置及测量方法，通过安装在机架台面上的感应陶瓷盘传感器，对陶瓷盘进行感应，当感应到陶瓷盘之后驱动旋转转台带动旋转工作台，使得旋转工作台上的陶瓷盘平稳的匀速旋转，然后通过光谱共焦传感器测量出与陶瓷盘上衬底片上表面的距离，以及与陶瓷盘上表面的距离，通过光谱共焦传感器与陶瓷盘上表面的距离以及光谱共焦传感器与陶瓷盘上衬底片上表面的距离作差即可得陶瓷盘上衬底片的厚度值。该装置，能够在整个测量过程，实现全自动化操作，可以节省人力，避免传统技术中测量精度受人工因素影响较大的问题，且本申请中的技术无需人工记录数据，需要的数据直接从光谱共焦传感器中导出，避免记录数据时出错。
一种衬底厚度检测装置测量方法

[发明专利]一种抛光盘及抛光盘下盘面的冷却系统-CN202011358372.3在审
发明人：徐永亮;陈宇超;吴鲁;施海斌;姜恒 -专利权人： 苏州恒嘉晶体材料有限公司
申请日： 2020-11-27 - 公布日： 2021-02-12 - 主分类号： B24B37/20 文献下载
摘要：本申请提供一种抛光盘，包括抛光垫、不锈钢盘、热电制冷板、下盘铸件、腔体、外拐角结构、内拐角结构、隔板、进水口和出水口以及旋转盘底座，抛光垫设置在不锈钢盘的上方，不锈钢盘的下方设置有热电制冷板，热电制冷板的下方设置有下盘铸件，下盘铸件与热电制冷板之间设置有腔体，进水口设置在腔体的一端下方，出水口设置在腔体的一端上方，腔体的内部设置有隔板和用于保证水流传导过程中流畅的外拐角结构以及内拐角结构，旋转盘底座设置在腔体的下方。本申请还提供一种抛光盘下盘面的冷却系统。本申请能够实现对抛光盘下盘面温度的快速、精准地调控，极大地提高了蓝宝石的抛光质量和生产效率。
一种抛光盘面冷却系统

[实用新型]一种坩埚轴-CN201920245516.0有效
发明人：徐永亮;于海群;冯微 -专利权人： 苏州恒嘉晶体材料有限公司
申请日： 2019-02-27 - 公布日： 2020-01-10 - 主分类号： C30B17/00 文献下载
摘要：本申请提供了一种坩埚轴，包括坩埚轴本体与四根形状相同的增强导热柱，四根增强导热柱均匀设置在坩埚轴本体的侧边缘，增强导热柱的高度与坩埚轴本体的高度相等，坩埚轴本体的结构为圆柱体。本申请所提供的坩埚轴解决现有技术中由于泡生法蓝宝石单晶生长过程中由于受到坩埚底部鸟笼加热器的影响，传统圆柱形坩埚轴顶部截面面积受限，不能有效满足于大尺寸、高质量的蓝宝石晶体生长的问题，本申请提供的坩埚轴增大了坩埚轴顶部与坩埚底部的接触面积，从而增大坩埚底部温度梯度，可以起到有效导热的作用，为蓝宝石晶体生长的收尾阶段提供了良好的有利条件，提高了晶体质量以及晶体利用率。
坩埚轴坩埚轴本体导热柱坩埚蓝宝石晶体生长申请加热器导热晶体利用率蓝宝石单晶鸟笼传统圆柱顶部截面高度相等均匀设置面积受限生长过程收尾阶段温度梯度侧边缘泡生法

[发明专利]一种蓝宝石衬底片抛光方法-CN201910248636.0在审
发明人：徐永亮;王辽阔;施海斌;柳瑞森;吴鲁;周波 -专利权人： 苏州恒嘉晶体材料有限公司
申请日： 2019-03-29 - 公布日： 2019-05-28 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本申请提供了一种蓝宝石衬底片抛光方法，将铜抛后清洗干净的蓝宝石衬底片按照厚度分组，同一组内晶片厚度差异在10μm以内；提供一个陶瓷盘，陶瓷盘表面平整度在3μm以内，用贴蜡机将一组晶片均匀贴在距陶瓷盘边缘1cm的表面上，蜡冷却后晶片固定在陶瓷盘上；抛光机下盘表面贴上suba600或suba800的抛光布，将陶瓷盘贴有晶片的一面向下放置在抛光布上，下压上盘压紧陶瓷盘并使之跟随上盘同步转动，下盘与上盘同向转动，同时抛光布表面喷上粒径大小为80～350nm的的氧化铝抛光液，氧化铝抛光液与水的体积配比为1:6到1:15；抛光过程中，可以通过对抛光液冷却带走热量使抛光机下盘盘面温度控制在30～40℃；抛光结束后取下陶瓷盘，用毛刷对晶片进行冲水清洗。
陶瓷盘晶片蓝宝石抛光衬底片抛光液上盘抛光布抛光机氧化铝冷却清洗表面平整度抛光布表面厚度差异晶片固定抛光过程体积配比同步转动同向转动下盘表面下盘盘面向下放置冲水蜡机粒径毛刷取下贴上下盘下压压紧分组申请

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