专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]减少缺陷的基板处理方法-CN201480023532.5在审
  • 肖恩·R·柯克帕特里克 - 艾克索乔纳斯公司
  • 2014-02-25 - 2016-03-02 - H01L21/30
  • 一种用于处理基板表面的方法使用源自气体团簇离子束的中性射束辐照以及由此产生的包括光刻光掩膜基板的制品。一个实施例提供了处理包含一个或多个嵌入粒子或包含亚表面损伤的基板的表面的方法,该方法包含以下步骤:提供减压室;在减压室中形成包含气体团簇离子的气体团簇离子束;在减压室中加速气体团簇离子以形成沿射束路径的加速的气体团簇离子束;促使沿射束路径的至少一部分加速的气体团簇离子分裂和/或离解;在减压室中从射束路径中去除带电粒子以形成沿射束路径的加速的中性射束;将表面保持在射束路径中;以及通过辐照处理基板的至少一部分表面。
  • 减少缺陷处理方法

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