专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]用于低损坏率和高处理量等离子体处理的大面积VHF PECVD腔室-CN201780055121.8有效
  • 盛殊然;阿部忍;桑原庆太;崔苏河 - 应用材料公司
  • 2017-07-31 - 2021-04-06 - H01J37/32
  • 本文公开的实施方式总体涉及用于改变在等离子体处理腔室中沉积的薄膜的均匀性图案的等离子体处理系统,所述等离子体处理系统包括至少一个VHF功率发生器,所述至少一个VHF功率发生器耦接到所述等离子体处理腔室内的扩散器。每个VHF功率发生器的馈送位置偏移以及经由相位调制和扫描而对每个VHF功率发生器进行的控制通过补偿因驻波效应引起的由所述腔室产生的薄膜图案的不均匀性来允许等离子体均匀性改善。可以通过对施加在不同的耦接点处的VHF功率之间的动态相位调制而产生耦接到背板上的不同位置和/或设置在所述背板上的不同位置处的所述多个VHF功率发生器之间的功率分配。
  • 用于损坏处理等离子体大面积vhfpecvd
  • [发明专利]用于薄膜太阳能应用的微晶硅沉积-CN200880112704.0无效
  • 蔡容基;崔寿永;盛殊然 - 应用材料股份有限公司
  • 2008-10-22 - 2010-09-15 - H01L31/00
  • 如权利要求所述的本发明的实施例涉及一种薄膜多结太阳能电池以及用于形成该太阳能电池的方法与设备。在一个实施例中提供了一种在基板上方形成薄膜多结太阳能电池的方法。该方法包括:在反应区中放置基板;将混合气体提供至反应区,其中所述混合气体包括含硅化合物和氢气;以第一沉积速率在基板上形成本征型微晶硅层的第一区域;以高于第一沉积速率的第二沉积速率在基板上形成本征型微晶硅层的第二区域;以及以低于第二沉积速率的第三沉积速率在基板上形成本征型微晶硅层的第三区域。
  • 用于薄膜太阳能应用微晶硅沉积

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