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[发明专利]偏振片及利用该偏振片的显示器及紫外线照射装置-CN201980002907.2有效
发明人：粟屋信义;须崎泰正;田中觉 -专利权人： SCIVAX株式会社
申请日： 2019-06-24 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种能够抑制在正交尼科尔状态下因漏光所导致的消光比劣化的偏振片及利用该偏振片的显示器及紫外线照射装置。一种偏振片，其具备：对于使用频带的光而言透明的基板(1)；将在一个方向上延伸的金属线(21)以比光的波长短的间距排列多条而成的线栅部(2)，其中，所述偏振片具备偏振轴修正部(3)，该偏振轴修正部(3)相对于线栅部(2)设置在光入射的一侧，使用电介质形成，在使用频带的线偏振光相对于金属线(21)从45度的方位角入射时以使线偏振光的入射侧透射轴与出射侧吸收轴的角度偏差变小的方式进行修正。
偏振利用显示器紫外线照射装置

[发明专利]光学系统装置及光学元件制造方法-CN202080100825.4在审
发明人：绳田晃史;中村智宣;田中觉 -专利权人： SCIVAX株式会社
申请日： 2020-12-17 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： G01S7/481 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种不需要准直透镜且可利用的光的效率较高的光学系统装置。所述光学系统装置包括：光源部(1)，其照射波长为λ的光；以及光学元件(2)，其具有由周期性透镜构成的凹凸构造，在将n设为1以上的自然数、所述凹凸构造的间距中的从小到第k个(k为1以上的自然数)间距的大小设为Pk时，针对任意1个以上的间距Pk，所述光源部与所述光学元件的距离L1以满足式1的方式设计，式1为
光学系统装置光学元件制造方法

[发明专利]半导体发光元件及半导体发光元件的制造方法-CN201780060220.5有效
发明人：丹羽纪隆;稻津哲彦;须崎泰正;绳田晃史;田中觉 -专利权人：日机装株式会社;SCIVAX株式会社
申请日： 2017-09-27 - 公布日： 2022-12-16 - 主分类号： H01L33/22 文献下载
摘要：半导体发光元件(10)包括具有光取出面(主表面(22b))的光取出层(衬底(22))。光取出层具有：多个锥形状部(52)，其被阵列状地形成在光取出面上；以及多个粒状部(56)，其被形成在锥形状部(52)的侧面部及位于相邻的锥形状部(52)间的谷部的平坦部这两者上。半导体发光元件(10)的制造方法包括在光取出层上形成具有阵列状的图案的掩膜的工序、以及从掩膜上对掩膜及光取出层进行刻蚀的工序。进行刻蚀的工序包含进行干法刻蚀直到整个掩膜被除去为止的第1干法刻蚀工序、以及从掩膜被除去起进一步对光取出层进行干法刻蚀的第2干法刻蚀工序。
半导体发光元件制造方法

[发明专利]透镜及光学系统装置-CN202180025345.0在审
发明人：绳田晃史;田中觉 -专利权人： SCIVAX株式会社
申请日： 2021-03-30 - 公布日： 2022-11-25 - 主分类号： G02B13/00 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种能够以简单的结构测量光源或光学元件的光学特性的透镜及光学系统装置。透镜(1)具有光轴且包含入射面(F)和出射面(B)，入射面(F)和出射面(B)形成为，使从第1位置(O)相对于光轴以照射角度(θ)入射至入射面(F)的光，通过入射面(F)和出射面(B)的折射而以相对于光轴的出射角度θ/m(m＞1)从出射面(B)出射，并且从出射面(B)出射的光的视位置全部从第2位置(P)起始。另外，光学系统装置包括该透镜(1)、以及使从透镜(1)出射的光扩散的扩散板。
透镜光学系统装置

[发明专利]贴合体制造方法、贴合体及微细结构形成方法-CN202080040772.1在审
发明人：谷口丰;田中觉 -专利权人： SCIVAX株式会社
申请日： 2020-06-02 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种贴合体制造方法、贴合体及微细结构形成方法，能够形成可靠地将模具与被成形物之间的气体去除的状态，能够进行压印法中的单片处理。所述贴合体制造方法包括：密封材(4)配置工序，以在使模具(1)和被成形物(2)贴合时能够包围被成形物(2)的被成型面的方式将密封材(4)配置于模具(1)和被成形物(2)中的任一方或双方；减压工序，在使模具(1)和被成形物(2)分离的状态下对模具(1)和被成形物(2)周围的气氛进行减压；密封工序，使模具(1)和被成形物(2)重叠，用密封材(4)将模具(1)与被成形物(2)之间密封；以及第1加压工序，在将模具(1)与被成形物(2)之间密封的状态下通过流体进行加压，密封材(4)构成为至少在密封工序中具有流动性，并且在将模具(1)和被成形物(2)进行脱模时密封材(4)仅粘接于模具(1)和被成形物(2)中的任一方。
贴合体制方法微细结构形成

[发明专利]控制装置、控制方法及记录介质-CN202110440905.0在审
发明人：高见豪;西条史雄;田中觉 -专利权人：横河电机株式会社
申请日： 2021-04-23 - 公布日： 2021-10-26 - 主分类号： G05B19/414 文献下载
摘要：本发明提供一种控制装置、控制方法及记录介质。所述控制装置具备：取得部，取得针对控制对象设备测定出的测定值；第一控制部，通过反馈控制和前馈控制中的至少一方，输出与测定值相应的控制对象设备的操作量；第二控制部，使用利用学习用数据进行学习所得的模型，输出与测定值相应的控制对象设备的操作量；以及切换部，进行由第一控制部和第二控制部中的哪一个对控制对象设备进行控制的切换。
控制装置方法记录介质

[发明专利]光学元件及光学系统装置-CN201880002224.2有效
发明人：绳田晃史;粟屋信义;田中觉 -专利权人： SCIVAX株式会社
申请日： 2018-04-02 - 公布日： 2021-10-01 - 主分类号： F21V5/04 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种制作容易且无浪费地将光导向前方的光学元件及使用该光学元件的光学系统装置。具有使基准平面形状(1)旋转而得到的旋转体或使基准平面形状(1)平行移动而得到的平行移动体的至少一部分的光学元件(10)中，基准平面形状(1)包括：用于使来自规定位置(9)的光入射的入射部(2)；将通过入射部(2)被直接照射的光反射的出射部(3)；以及将由出射部(3)反射的光向出射部(3)反射的第一反射部(4)。此外，基准平面形状(1)也可以具有将通过入射部(2)被直接照射的光向出射部(3)反射的第二反射部。光学系统装置将光源配置在规定位置(9)。
光学元件光学系统装置

[发明专利]微细图案成形方法、压印用模具制造方法及压印用模具、以及光学设备-CN201980076533.9在审
发明人：田边大二;粟屋信义;田中觉 -专利权人： SCIVAX株式会社
申请日： 2019-10-15 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种按被成形物的规定位置形成控制了方向或位置的微细图案的成形方法、使用该成形方法的压印用模具制造方法、压印用模具、以及光学设备。所述成形方法包括：第1掩模图案形成工序，通过压印，在被成形物(2)的至少包含未形成有微细图案(21)的区域的表面形成用于形成微细图案(21)的第1掩模图案(31)；第2掩模图案形成工序，在被成形物(2)及第1掩模图案(31)上形成抗蚀膜(4)，通过光照射进行曝光并且进行显影，以使未形成有微细图案(21)且形成有第1掩模图案(31)的区域露出的方式形成第2掩模图案(41)；以及微细图案形成工序，对该被成形物(2)进行蚀刻，形成微细图案(21)，将第1掩模图案形成工序、第2掩模图案形成工序、微细图案形成工序按该顺序反复进行。
微细图案成形方法压印模具制造以及光学设备

[发明专利]热源系统、控制装置及方法和计算机可读取的记录介质-CN201780061229.8有效
发明人：二阶堂智;立石浩毅;筈井祐介;竹中悠;花崎广隆;田中觉 -专利权人：三菱重工制冷空调系统株式会社;东京电力控股株式会社
申请日： 2017-09-20 - 公布日： 2021-02-19 - 主分类号： F24F11/30 文献下载
摘要：热源系统(1)的上位控制装置应用于具有多个热源的热源系统(1)，以使向外部负载(6)供给的载热体的温度即载热体出口温度成为设定温度的方式对热泵式制冷机(2a)、(2b)和吸收式制冷机(2c)、(2d)进行控制，热泵式制冷机(2a)、(2b)的性能系数(COP)高于吸收式制冷机(2c)、(2d)的性能系数(COP)，该上位控制装置具有载热体出口温度变更单元，该载热体出口温度变更单元在假设变更了热泵式制冷机(2a)、(2b)的载热体出口温度的情况下的吸收式制冷机(2c)、(2d)的变更后预测值高于吸收式制冷机(2c)、(2d)成为轻负载停止的第2轻负载停止阈值时，进行变更热泵式制冷机(2a)、(2b)的载热体出口温度的载热体出口温度控制。
热源系统控制装置方法计算机读取记录介质

[发明专利]光学元件及光学系统装置-CN201880037479.2在审
发明人：绳田晃史;田中觉 -专利权人： SCIVAX株式会社
申请日： 2018-12-14 - 公布日： 2020-08-04 - 主分类号： G02B3/06 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种不仅控制光的照射方向还能够对照度进行控制的光学元件及使用该光学元件的光学系统装置。光学元件(10)，其具有使将来自规定位置的光变换为与规定方向平行的光的基准平面形状(1)进行旋转而得到的旋转体或使该基准平面形状平行移动而得到的平行移动体的至少一部分，基准平面形状(1)包括照度调节部(2)和出射方向调节部(3)，照度调节部(2)为对从规定位置(9)入射的光的方向进行变换以使得出射方向调节部(3)的照度变得均匀的形状，出射方向调节部(3)为通过折射将光的方向变换为规定方向的形状。
光学元件光学系统装置

[发明专利]养殖装置、养殖系统以及养殖方法-CN201780089730.5在审
发明人：田中泰;牧村英俊;日野百代;冈田健;田中觉;田原志浩 -专利权人：三菱电机株式会社
申请日： 2017-04-26 - 公布日： 2019-12-13 - 主分类号： A01K61/60 文献下载
摘要：控制装置(6)根据由监视装置(4)取得的监视信息，决定网材(3)的容量和位置，卷绕装置(2)将网材(3)的容量调整成由控制装置(6)决定的容量，水中移动装置(5)使网材(3)移动到由控制装置(6)决定的位置。
控制装置网材监视信息监视装置卷绕装置容量调整移动装置水中移动

[发明专利]光学部件及使用该光学部件的液晶面板及它们的制造方法-CN201780073924.6在审
发明人：粟屋信义;田名网克周;田中觉 -专利权人： SCIVAX株式会社
申请日： 2017-12-05 - 公布日： 2019-07-16 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种机械强度较高、透射率等光学特性较高的光学部件及使用该光学部件的液晶面板以及它们的制造方法。所述光学部件具备：基板(1)，其采用对使用频带波长的光而言透明的材料形成；线栅部(2)，其在基板(1)上呈线与间隙状地配置有多个凸部(21)；覆盖部(3)，其采用对使用频带的光而言透明的电介质形成，并且覆盖线栅部(2)；以及空隙部(4)，其形成在线栅部(2)的相邻的凸部(21)间，与连结该相邻的凸部(21)的顶点(21a)彼此而成的直线相比向覆盖部(3)侧突出。
光学部件凸部使用频带液晶面板透明的基板线栅覆盖电介质形成材料形成光学特性间隙状空隙部透射率波长栅部连结制造配置

[发明专利]光学元件、发光元件及使用它们的光学装置以及它们的制造方法-CN201780043159.3在审
发明人：绳田晃史;粟屋信义;田名网克周;田中觉 -专利权人： SCIVAX株式会社
申请日： 2017-07-12 - 公布日： 2019-03-15 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：本发明提供一种光学元件、发光元件及使用它们的光学装置以及它们的制造方法，可提高电磁波的透过度，且不需要对准。具体而言，为用于对波长λ的电磁波的光学特性进行控制的光学元件(10)，其具备：偏光件部(2)，由凹凸结构构成，使射入的电磁波的P偏光透过且反射S偏光；第1相位差元件部(3)，由凹凸结构构成，可将直线偏光转换成圆偏光或椭圆偏光；及基部(1)，在形成有偏光件部(2)与第1相位差元件部(3)的同时，可在偏光件部(2)和第1相位差元件部(3)之间透过电磁波。
电磁波相位差元件光学元件偏光件凹凸结构发光元件光学装置光学特性椭圆偏光直线偏光透过度圆偏光波长基部射入反射制造对准转换

[发明专利]数据取得装置、数据取得方法和计算机能读取的记录介质-CN201580079792.9有效
发明人： 田中觉;郡光则 -专利权人：三菱电机株式会社
申请日： 2015-07-10 - 公布日： 2019-01-29 - 主分类号： G06F16/21 文献下载
摘要：数据取得装置具有：命令受理部(110)，其受理从数据库取得数据的包含值指定范围的询问命令(201)，所述值指定范围指定与要取得的数据对应的定义值的范围；取得定义存储部(160)，其存储将值定义范围和从数据库取得数据的取得方法对应起来的取得定义信息(161)；以及命令生成部(120)，其判定值指定范围内是否存在与值定义范围重合的范围，在判定为存在重合的范围的情况下，生成利用与值定义范围对应的取得方法取得与重合的范围内包含的定义值对应的数据的数据取得命令(202)。
数据取得装置方法程序

[发明专利]光学元件及光学系统装置-CN201780033662.0在审
发明人：绳田晃史;粟屋信义;田中觉 -专利权人： SCIVAX株式会社
申请日： 2017-07-21 - 公布日： 2019-01-18 - 主分类号： G02B3/08 文献下载
摘要：本发明提供一种制作容易且能够无浪费地将光导向前方较大范围的光学元件及使用该光学元件的光学系统装置。控制从规定位置(30)入射的光的配光进行出射的光学元件，其具备反射利用部，该反射利用部包括：多个凸结构(15)，该凸结构(15)包括能够使来自规定位置(30)的光透过的入射面(11)和使透过该入射面(11)的光沿着规定方向反射的反射面(12)；以及出射面(19)，其使由反射面(12)反射的光沿着规定的配光方向出射。
光学元件反射光学系统装置反射面入射面凸结构出射配光方向反射出射面光导向光透过入射制作

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