专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种红光micro LED芯片及其制作方法-CN202311027524.5在审
  • 李俊承;王克来;郑万乐;陈宝 - 南昌凯捷半导体科技有限公司
  • 2023-08-16 - 2023-09-15 - H01L33/00
  • 本发明具体涉及一种红光micro LED芯片及其制作方法,包括在第一GaAs基板上生长外延结构;将其与第二GaAs基板键合在一起;在第二GaAs基板表面沉积保护层,去除第一GaAs基板;进行LED芯片前段工艺;使用临时键合胶覆盖wafer表面,将wafer与临时基板粘结在一起;去除保护层,去除第二GaAs基板和键合层;剥离芯粒,完成制作。本发明通过在红光micro LED芯片制作过程中引入GaAs基板作为制程中间基板,方便去除,同时将临时键合胶键合在透明临时基板上,适合LLO工艺或者热滑移等解键合工艺,解决了红光micro LED芯片外延层转移的难点,良率高,成本低,对巨量转移工艺友好。
  • 一种红光microled芯片及其制作方法
  • [发明专利]一种Micro-LED芯片及其制作方法-CN202310408825.6有效
  • 王克来;李俊承;陈宝;戴文;潘彬;王向武 - 南昌凯捷半导体科技有限公司
  • 2023-04-18 - 2023-07-21 - H01L33/02
  • 本发明涉及一种Micro‑LED芯片及其制作方法,该芯片包括P电极、N电极、钝化层、第一半导体层、发光层、第二半导体层、GaAs衬底;第一半导体层由GaP窗口层和P‑AlGaInP限制层组成;第二半导体层由N‑AlGaInP限制层、GaAs接触层、N‑AlGaInP电流扩展层和GaAs牺牲层组成;GaAs牺牲层被去除后,第二半导体层与GaAs衬底之间呈镂空状态,并在靠近P电极一侧通过钝化层连接。本发明设计多个AlGaInP和GaAs层叠循环结构,通过对外延层进行湿法刻蚀,无需进行衬底转移,能有效避免衬底转移过程中的良率损失,提高工作效率和成品率,工艺简单,可满足规模化应用。
  • 一种microled芯片及其制作方法
  • [发明专利]一种miniLED芯片及其制作方法-CN202210663704.1有效
  • 王克来;李俊承;陈宝;戴文;潘彬;王向武 - 南昌凯捷半导体科技有限公司
  • 2022-06-14 - 2022-08-30 - H01L33/64
  • 本发明涉及LED技术领域,具体涉及一种mini LED芯片及其制作方法,该芯片包括蓝宝石衬底、键合层、P型半导体层、发光层、N型半导体层、P接触电极、N接触电极、石墨导热层、钝化层、P电极和N电极;石墨导热层由氧化钛和石墨组成;钝化层与石墨导热层相对应的表面设计贯穿钝化层的散热孔,散热孔用石墨回填且与石墨导热层相接触。本发明通过在mini LED芯片中加入石墨导热层,同时在钝化层表面设计散热孔并用石墨回填,利用石墨超强的导热能力,可以有效将mini LED芯片工作时产生的热量传导出去,降低芯片自身的温度,提高芯片光电性能的稳定性,进而有效延长芯片的使用寿命。
  • 一种miniled芯片及其制作方法

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