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[发明专利]一种飞秒激光制备掩膜版的方法-CN202210449705.6在审
发明人：王学文;廉思甜;麦立强;柴年垚;喻科菘;潘雪雷;蔡智君 -专利权人：佛山仙湖实验室
申请日： 2022-04-27 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： B23P15/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种飞秒激光制备掩膜版的方法，包括如下步骤：步骤一：剪裁金属箔片；步骤二：将金属箔片包裹在盖玻片一面；步骤三：清洁金属箔片表面；步骤四：在金属箔片上通过飞秒激光技术刻蚀出刻蚀槽，制成掩膜版。本方案通过使用飞秒激光加工掩膜版替代了以往的通过使用光刻机和光刻胶进行曝光的工艺，本方案无需使用光刻胶，掩膜版制作过程环保，并且通过飞秒激光直接蚀刻，加工速度快，可有效节省加工时间。
一种激光制备掩膜版方法

[发明专利]氧等离子体局部增强WS₂/RGO材料、其制备以及电催化产氢器件及其制备方法-CN201810289107.0有效
发明人：许絮;王元;麦立强;潘雪雷 -专利权人：武汉理工大学
申请日： 2018-04-03 - 公布日： 2019-10-25 - 主分类号： C25B1/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种氧等离子体局部增强WS₂/RGO材料的电催化产氢器件及其制备方法，采用一步水热法在氧化还原石墨烯上负载二硫化钨，再将其分散到带有氧化层的硅基板上；旋涂一层光刻胶，并用电子束刻蚀的方法在纳米片特定位置刻蚀出矩形窗口，使纳米片部分暴露；利用不同功率的氧等离子体对上述产品进行处理。然后利用溶剂去除表面光刻胶，得到部分氧等离子体处理的纳米片材料，再将该纳米片组装成微纳器件。本发明的有益效果是：利用氧等离子体在WS₂表面制造更多的催化活性位点，并利用单片纳米器件的特殊优势，结合拉曼等手段实现对纳米片处理前后和反应前后的表面状态、物性等进行原位探测，实现对反应机理和优化机制的探索和研究。
氧等离子体纳米片制备局部增强电催化产氢氧等离子体处理催化活性位点电子束刻蚀纳米片材料一步水热法表面状态二硫化钨反应机理矩形窗口纳米器件溶剂去除微纳器件氧化还原原位探测物性光刻胶硅基板石墨烯氧化层单片刻蚀旋涂组装并用暴露优化制造探索研究

[发明专利]场效应电催化产氢器件的制备方法-CN201611022130.0有效
发明人：麦立强;潘雪雷;晏梦雨;王俊辉 -专利权人：武汉理工大学
申请日： 2016-11-16 - 公布日： 2018-09-18 - 主分类号： C25B11/06 文献下载
摘要：本发明涉及一种场效应电催化产氢器件的制备方法，将至少一层二硒化钒纳米薄片分散到带有氧化层的硅基板上，其中纳米薄片作为沟道材料，氧化层作为介电层，在沟道材料的两端制作金属微电极；旋涂一层绝缘层，并在两金属微电极之间刻蚀出矩形窗口；在硅基板空白一侧除去氧化层，制作背栅电极的接触点，在器件表面注入电解液获得场效应电催化产氢器件。本发明的有益效果是：可以作为优化纳米材料电催化性能的新策略。
场效应电催化器件制备方法

[实用新型]污水处理净化系统-CN201620171304.9有效
发明人：麦立强;潘雪雷;梅志文;何博文;贺汝涵;姚依;史杰琳;梅芬 -专利权人：武汉理工大学
申请日： 2016-03-07 - 公布日： 2016-08-17 - 主分类号： C02F9/08 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种污水处理净化系统，包括供电装置和依次连接的污水收集装置、第一过滤器、絮凝沉淀装置、过滤装置、固液分离装置、酸碱中和装置、沉淀收集装置、光催化降解装置、第二过滤器；所述固液分离装置与废渣收集器连接；所述供电装置包括太阳能发电装置和与太阳能发电装置连接的蓄电池，所述太阳能发电装置和蓄电池分别与第一过滤器、絮凝沉淀装置、过滤装置、固液分离装置、酸碱中和装置、沉淀收集装置、光催化降解装置、第二过滤器连接。本实用新型结构简单、成本低、出水水质佳，使污水能达到排放标准。
污水处理净化系统

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