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- [发明专利]机器人输送装置-CN201680065918.1有效
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重田贵司;河合俊宏;竹內晴纪;须田佳雅;五味久;尾崎成则
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昕芙旎雅有限公司
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2016-10-28
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2023-03-24
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H01L21/677
- 使整个输送空间的气体循环。机器人输送装置(1)具有：供输送机器人(20)配置的输送空间(10)；以及多个循环流路(30)，其用于使输送空间(10)内的气体循环。在输送空间(10)的周边配置有成为由输送机器人(20)输送的输送物的输送目的地的多个周边空间(50)。输送空间(10)经由多个开口(15)与多个周边空间(50)分别连通。多个循环流路(30)以避开包括多个开口(15)在内的输送机器人(20)的作业区域(20R)的方式设置于隔着输送空间(10)的位置。多个循环流路(30)设置于形成输送空间(10)的柱构件(10P1～10P10)的内部。
- 机器人输送装置
- [发明专利]设备前端模块-CN202211096469.0在审
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河合俊宏;小仓源五郎
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昕芙旎雅有限公司
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2022-09-06
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2023-03-10
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H01L21/677
- 一种设备前端模块，其设置有循环路径，该循环路径包括形成在外壳内的基板传送空间以及被构造为使气体从基板传送空间的一侧流回到另一侧的返回路径，该设备前端模块包括：分隔壁，其被构造为将基板传送空间与返回路径分开；捕获部件，其设置在返回路径中、在气体通过循环路径循环的状态下具有比基板传送空间更高的压力并且被构造为捕获流过返回路径的气体中包含的粒子；以及连接管，其被构造为将在设置在基板传送空间中的预定的设备内流动的气体引导到返回路径，其中连接管在气体流动方向上在捕获部件的上游侧连接至返回路径。
- 设备前端模块
- [发明专利]EFEM、惰性气体供给量控制方法-CN202211019342.9在审
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大泽真弘;河合俊宏
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昕芙旎雅有限公司
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2022-08-24
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2023-03-03
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H01L21/677
- 本发明提供能够避免氮气的浪费而以预定使用量将框体内压力始终保持为微正压的EFEM，包含：惰性气体供给总量设定部(11)，基于框体(2)内的氧浓度设定向框体(2)内供给的惰性气体供给总量；门打开和底部吹扫判定部(12)，针对每个装载口(3)判定FOUP(4)的门是否是打开状态且是否是底部吹扫装置(36)进行的底部吹扫处理中；框体内惰性气体供给量运算部(13)，在判定部(12)的判定结果为是的情况下，基于从惰性气体供给总量减去该装载口(4)的底部吹扫装置(36)的底部吹扫惰性气体供给量而得的值运算向框体(2)内的惰性气体供给量，根据基于运算部(13)的运算结果而决定的惰性气体供给量指令值控制向框体(2)内的惰性气体供给量。
- efem惰性气体供给量控制方法
- [发明专利]EFEM和装载端口-CN202210951196.7在审
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河合俊宏;谷山育志;小宫宗一;重田贵司
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昕芙旎雅有限公司
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2016-07-12
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2022-12-06
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H01L21/677
- 本发明提供在使FOUP和EFEM连通时防止大气进入到FOUP和EFEM内的门开闭系统和具备门开闭系统的装载端口。该门开闭系统包括：基体(41)，其构成将输送空间与外部空间隔离的壁的一部分；开口部(92)，其设于基体；门(81)，其能够开闭开口部；第1密封构件(94)，其用于将基体和容器(7)之间密封；第2密封构件(96)，其用于将基体和门之间密封；密闭空间，在处于容器隔着第1密封构件与开口部相抵接的状态时，该密闭空间由基体、第1密封构件、第2密封构件、盖体(72)以及门构成；第1气体注入部(87)，其用于向密闭空间注入气体；以及第2气体排出部(88)，其用于对密闭空间进行排气。
- efem装载端口
- [发明专利]EFEM-CN202210471398.1在审
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河合俊宏;小仓源五郎
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昕芙旎雅有限公司
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2022-04-28
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2022-10-28
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H01L21/677
- 一种包括循环路径的EFEM，该循环路径包括被构造为形成对基板进行传送的传送空间的传送室以及被构造为使从传送室的一侧流动到另一侧的气体返回的返回路径，该EFEM包括：捕获部件，其设置在返回路径中并被构造为以电气方式捕获流过返回路径的气体中所包含的粒子，其中返回路径和传送室被设置成使得分隔壁插在它们之间并且在分隔壁的两侧产生压差，从而在气体在循环路径中循环的状态下使得返回路径那一侧上的压力变得高于传送室那一侧上的压力。
- efem
- [发明专利]门开闭系统和具备门开闭系统的装载端口-CN201680045424.7有效
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河合俊宏;谷山育志;小宫宗一;重田贵司
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昕芙旎雅有限公司
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2016-07-12
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2022-09-02
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H01L21/677
- 本发明提供在使FOUP和EFEM连通时防止大气进入到FOUP和EFEM内的门开闭系统和具备门开闭系统的装载端口。该门开闭系统包括：基体(41)，其构成将输送空间与外部空间隔离的壁的一部分；开口部(92)，其设于基体(41)；门(81)，其能够开闭开口部(92)；第1密封构件(94)，其用于将基体(41)和容器(7)之间密封；第2密封构件(96)，其用于将基体(41)和门(81)之间密封；密闭空间，在处于容器(7)隔着第1密封构件(94)与开口部(92)相抵接的状态时，该密闭空间由基体(41)、第1密封构件(94)、第2密封构件(96)、盖体(72)以及门(81)构成；第1气体注入部(87)，其用于向密闭空间注入气体；以及第2气体排出部(88)，其用于对密闭空间进行排气。
- 开闭系统具备装载端口
- [发明专利]传送系统-CN202080090818.0在审
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中村浩章;河合俊宏;杉浦孝典;小仓源五郎;谷山育志
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昕芙旎雅有限公司
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2020-09-23
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2022-08-12
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H01L21/677
- 一种传送系统，其在没有人为干预的情况下辨别框架晶圆的正面和背面。框架(102)在从与晶圆(101)的表面正交的方向观察时部分地相对于预定的中心线(202)不对称地形成。传送系统(1)包括：手(43)，其被配置为以使框架在预定的虚拟平面(203)内延伸的方式保持框架(102)；第一传感器(55)，其检测由手(43)保持的并且位于虚拟平面(203)内的预定的第一区域(111)的框架(102)的一部分；第二传感器(56)，其检测由手(43)保持的并且隔着所述中心线(202)而位于与所述第一区域(111)相反侧的第二区域(112)的所述框架(102)的一部分；以及控制器(16)。控制器(16)基于第一传感器(55)的检测结果和第二传感器(56)的检测结果来判定框架晶圆(100)的正面和背面。
- 传送系统
- [发明专利]传送系统-CN202080066773.3在审
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河合俊宏;中村浩章;小仓源五郎;杉浦孝典;谷山育志
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昕芙旎雅有限公司
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2020-09-23
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2022-05-17
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H01L21/677
- 本发明提供一种能够在用于储存多个物体的储存容器与用于对多个物体进行批量处理的处理设备之间高效地传送多个物体的技术。一种用于在用于储存多个物体的储存容器(9)与用于对保持在托盘(8)上的多个物体进行批量处理的处理设备(2)之间传送多个物体的传送系统(1)，包括：将储存容器(9)安装在其上的安装部(31)；将多个物体安装在其上的载物台(41)；支撑托盘(8)的托盘支撑部(51)；在安装在安装部(31)上的储存容器(9)与载物台(41)之间传送多个物体的第一传送装置(44)；以及用于在载物台(41)与通过托盘支撑部(51)支撑的托盘(8)之间传送多个物体的第二传送装置(53)。
- 传送系统
- [发明专利]晶片储存器-CN201980078149.2在审
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谷山育志;河合俊宏
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昕芙旎雅有限公司
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2019-11-25
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2021-07-23
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H01L21/673
- 提供了一种可以进一步改善晶片周围的气氛的晶片储存器。晶片储存器(X)包括：壳体(1)，设置在壳体(1)的前表面上的装载装置(2)，设置在壳体(1)中的晶片盒架子(3)，用于将晶片从安装在装载装置(2)上的搬运容器中搬入晶片盒架子(3)上的晶片盒(C)中和从该晶片盒(C)中搬出的晶片搬运机器人(4)，用于使晶片盒架子(3)上的晶片盒(C)移动到不同高度的晶片盒搬运装置(5)，以及用于在晶片搬运空间和晶片盒搬运空间中产生层流的风扇过滤器单元(8)。
- 晶片储存器
- [发明专利]密封设备-CN201980019550.9在审
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河合俊宏;小仓源五郎
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昕芙旎雅有限公司
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2019-03-13
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2020-11-24
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F16J15/10
- 本发明即使在框架构件和盖构件没有高刚度的情况下也能够密封壳体。EFEM被构造为使壳体的内部空间(40)和外部空间(7)之间的压力差不超过规定值。壳体包括：被组装为在其中形成开口的框架构件；被附接至框架构件以覆盖开口的盖构件；以及被夹在框架构件和盖构件之间并延伸为围绕开口的密封构件(61)。框架构件和盖构件由金属薄板制成。密封构件(61)是其中在正交于密封构件(61)的延伸方向上的截面形成为中空形状的弹性构件。
- 密封设备
- [发明专利]EFEM-CN201980019229.0在审
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河合俊宏;小仓源五郎
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昕芙旎雅有限公司
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2019-03-13
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2020-10-30
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H01L21/677
- 在本发明中，当惰性气体的供应流量改变时，循环路径中的压力波动被抑制。该EFEM设置有：供应阀，其能够改变供应到循环路径的惰性气体的供应流量；排出阀，其能够改变从所述循环路径排出的气体的排出流量；浓度检测部，其检测所述循环路径内的气氛的变化；压力检测部，其检测所述循环路径中的压力；以及控制部，其控制所述供应阀和所述排出阀。所述控制单元基于所述浓度检测部获得的检测结果，确定所述排出阀的开度为预定值。
- efem
- [发明专利]EFEM-CN201980019545.8在审
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河合俊宏;小仓源五郎
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昕芙旎雅有限公司
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2019-03-13
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2020-10-30
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H01L21/677
- 在本发明的惰性气体循环型EFEM中，防止了对次要设备、维护门等的安装产生任何约束，并且消除了根据所连接的基板处理装置的规格等改变回流通路的放置位置等的需求。EFEM(1)设置有：在其中传送晶圆(W)的传送室(41)；安装有用于将氮气输送到传送室(41)的FUU(44)的单元安装室(42)；以及用于将流过传送室(41)的氮气送回到单元安装室(42)的回流通路(43)。基板处理装置(6)连接至传送室(41)的后侧端部。回流通路(43)设置在传送室(41)的前侧端部处。
- efem
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