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[实用新型]反应源瓶及真空镀膜设备-CN202121644089.7有效
发明人：龚炳建;黎微明;李翔;许所昌 -专利权人： 江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2021-07-20 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种反应源瓶，其包括：瓶体，具有蒸发腔以及连通所述蒸发腔的开口；盖体，盖设在于所述开口上，所述盖体上设置有进气管和出气管，所述进气管与所述蒸发腔连通，用于向所述蒸发腔输入反应气体；通道块，设置在所述蒸发腔内，且具有曲折延伸的反应通道，其中，所述蒸发腔内置放有反应物源，所述反应通道的进气端与所述蒸发腔连通，所述反应通道的出气端与所述出气管连通。上述反应源瓶，反应气体在瓶体内与反应物源接触之后，携带反应物源的反应气体能够在反应通道内长时间的停留，使得反应气体和反应物源能够充分进行反应，之后再从出气管排出，保证了反应气体在反应源瓶内的充分反应，保证了镀膜的质量。
反应真空镀膜设备

[实用新型]一种管式PECVD设备及其镀膜腔加热装置-CN202121671641.1有效
发明人：朱双双;左敏;刘强;潘景伟 -专利权人： 江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2021-07-21 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： C23C16/505 文献下载
摘要：本实用新型公开一种管式PECVD设备及其镀膜腔加热装置，镀膜腔加热装置包括两组对称地设于石墨舟上下两侧的加热组件，使镀膜腔的热场温度更均匀，有利于石墨舟均匀受热。每组加热组件包括若干根沿线性均匀铺设于石墨舟表面的加热棒，使石墨舟的表面均匀受热，避免石墨舟因尺寸过大而受热不均匀。石墨舟均匀受热，可避免硅片色差过大，有利于提升镀膜质量。每根加热棒包括至少两根加热丝、包裹于全部加热丝外周的支撑套及填充于支撑套内并用于隔开相邻两根加热丝的绝缘体通过改变加热器的类型来提升其使用寿命，降低故障率，降低镀膜腔内的热场温度不均匀的风险，仍能提升镀膜质量。
一种 pecvd 设备及其镀膜加热装置

[实用新型]一种真空悬浮镀膜设备-CN202121672274.7有效
发明人：李翔;左敏;胡磊;王荣;赵昂璧;李登辉;黎微明 -专利权人： 江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2021-07-21 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型公开一种真空悬浮镀膜设备，包括外壳、安装于外壳内部的内壳以及放置于内壳内部的工件载具，内壳的封闭端设置有连接抽气系统的抽气接口，内壳的开放端设置有用于工件载具进出的开口，外壳的开放端设置有密封门，密封门内侧安装有盖板，盖板内侧安装有匀流板总成，密封门关闭时盖板封闭开口，匀流板总成由开口伸入内壳，盖板和匀流板总成之间设置有空间间隔，匀流板总成上设置有连通空间间隔和内壳内部空间的气孔，通过多个工艺气体通道连通空间间隔，用于将多种类型的气体输送至空间间隔。使工艺气体成分流动更为均匀，腔体内部的流道短，可以有效防止MO源的凝结，进而设备可以使用的工艺腔体尺寸更大，提升设备可靠性和适用性。
一种真空悬浮镀膜设备

[实用新型]一种射频电极馈入装置-CN202120786176.X有效
发明人：朱双双;刘强 -专利权人： 江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2021-04-16 - 公布日： 2022-01-25 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种射频电极馈入装置，其包括：支撑组件，具有散热间隙；多个放置组件，沿第一方向布置于支撑组件上；每一放置组件包括设置于支撑组件的第一放置件和第二放置件，第一放置件和第二放置件分别位于散热间隙在第一方向上的两侧；及多个电极组件，电极组件与放置组件一一对应，每一电极组件均包括第一电极单元和第二电极单元，每一电极组件的第一电极单元和第二电极单元分别与对应放置组件的第一放置件和第二放置件相连。本实用新型的射频电极馈入装置，可以容纳多个石墨舟在支撑组件上，并通过多个电极组件配合多个放置组件，实现多个石墨舟的射频电极馈入，使一个镀膜设备的腔体能够容纳多个石墨舟，提高产能，降低单片电池片成本。
一种射频电极装置

[实用新型]搬运机构及生产线-CN202120604797.1有效
发明人：胡彬;左敏;刘强;吴兴华 -专利权人： 江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2021-03-24 - 公布日： 2022-01-25 - 主分类号： B65G49/07 文献下载
摘要：本申请涉及一种搬运机构及生产线。该搬运机构，用于搬运石墨舟，包括：机架；夹持组件，可活动地设于机架，被配置朝向或背离目标工位运动，并夹持位于目标工位的石墨舟；传感组件，固设于夹持组件，并跟随夹持组件运动，被配置为在夹持组件到达目标工位时，检测目标工位是否放置有石墨舟。与现有技术相比，省去了桨工位、冷却工位等工位的总共40多个传感器，从而降低设备成本；同时，只需要对搬运机构上的传感组件进行调试和安装，降低了安装成本和安装难度，降低了因调试偏差导致的错误率。
搬运机构生产线

[发明专利]钝化接触太阳能电池制备方法及钝化接触太阳能电池-CN202111108667.X在审
发明人：廖宝臣;李翔;黎微明 -专利权人： 江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2021-09-22 - 公布日： 2022-01-18 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本发明涉及一种钝化接触太阳能电池的制备方法及钝化接触太阳能电池，具体制备步骤为：提供一硅片，对硅片进行预处理，制备均具有绒面形貌的正面和背面；在正面制备硼掺杂层；对背面进行刻蚀；采用ALD沉积技术在背面制备隧穿氧化层；采用PECVD沉积技术在隧穿氧化层上依次制备本征硅层、磷掺杂硅层和氧化硅层；采用ALD沉积技术在在硼掺杂层上制备氧化铝层；采用PECVD沉积技术在氧化铝层上制备正膜，采用PECVD沉积技术在氧化硅层上制备背膜；在正膜和背膜上分别制备电极，其中，所述ALD沉积技术和所述PECVD沉积技术通过管式PEALD沉积技术和所述管式PECVD沉积技术集成到同一设备上。一套设备完成了所有膜层的制备，工艺简单，效率高且使得产品良率高。
钝化接触太阳能电池制备方法

[实用新型]粉末搅拌机构及粉末镀膜装置-CN202121683939.4有效
发明人：李翔;左敏;杨勇;张威威;邹嘉宸;袁红霞;赵昂璧;黎微明 -专利权人： 江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2021-07-22 - 公布日： 2022-01-18 - 主分类号： C23C16/442 文献下载
摘要：本申请公开了一种粉末搅拌机构及粉末镀膜装置，该粉末搅拌机构包括：反应容器，设有用于容纳粉末的反应腔；所述反应容器的底面设置有多个喷气孔，以使得气体供给组件通过所述多个喷气孔向所述反应腔喷气；刮板，设于所述反应腔内，至少部分所述刮板与所述反应腔的底面贴合，所述刮板在运动过程中能将所述粉末刮至所述喷气孔上。本申请提供的粉末搅拌机构及粉末镀膜装置，能够避免出现粉末堆积的情况，提高了粉末镀膜的效率和良品率。
粉末搅拌机构镀膜装置

[实用新型]一种位置测量装置及设备-CN202121431860.2有效
发明人：田玉峰;郑中伟 -专利权人： 江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2021-06-26 - 公布日： 2022-01-11 - 主分类号： B25J19/00 文献下载
摘要：本申请实施例提供了一种位置测量装置及设备，包括动力机构和位置测量机构，所述动力机构一端设置在被测量结构上，所述动力机构另外一端通过传动件与所述位置测量机构连接，所述位置测量机构根据所述传动件的运动情况测量被测量件的位置信息。本实用新型提供的位置测量装置是由动力机构和位置测量机构通过传动件连接组成的机械结构，结构简单、操作方便、易于实现。
一种位置测量装置设备

[实用新型]一种射频电极转接接头及设备-CN202121600967.5有效
发明人：康旭;朱双双 -专利权人： 江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2021-07-14 - 公布日： 2022-01-07 - 主分类号： H01R31/06 文献下载
摘要：本申请实施例提供了一种射频电极转接接头及设备，其中，转接接头包括壳体，第一绝缘件和导电结构；所述第一绝缘件和壳体依次套设在导电结构的外围，所述体导电结构一端设有用于与射频电极匹配连接的第一安装孔。与现有技术相比，本申请提出的射频电极转接接头及设备，结构简单，操作方便快捷；减少多余零件的加工，降低了设备的生产成本。
一种射频电极转接接头设备

[发明专利]镀膜设备以及镀膜机构-CN202111105649.6在审
发明人：吴兴华;张鹤;严大;黄伟;王亨;郑中伟;黎微明 -专利权人： 江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2021-09-22 - 公布日： 2022-01-04 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本申请公开了一种镀膜设备以及镀膜机构，该镀膜设备包括：镀膜机构，包括第一炉管、第二炉管以及第三炉管，第一炉管、第二炉管分别用于在基板的第一表面依次形成第一膜层、第二膜层，第三炉管用于在第二炉管形成第二膜层后，在基板的第二表面形成第三膜层，其中，第二膜层与第三膜层的形成时间相等且均是第一膜层的形成时间的第一整数倍，第二炉管与第三炉管的数量相等且均是第一炉管的数量的第二整数倍，第一整数与第二整数相等；翻面机构，用于在第二炉管形成第二膜层后，将基板进行翻面；传送机构，用于将基板在镀膜机构和翻面机构之间传送。本申请的镀膜设备能够实现双面镀膜，提高镀膜的生产效率。
镀膜设备以及机构

[发明专利]原子层沉积装置及其匀流机构-CN202111097818.6在审
发明人：李翔;袁红霞;韩萍;邹嘉宸;左敏;胡磊;黎微明 -专利权人： 江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2021-09-18 - 公布日： 2021-12-31 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本申请公开了一种原子层沉积装置及其匀流机构，该匀流机构包括层叠设置的多个匀流板，相邻所述匀流板之间设有第一开口，所述第一开口用于供气流流入；每个所述匀流板设有在层叠方向上贯通的第一通孔，所述第一通孔形成容置空间，所述气流通过所述第一开口流入后能沉积至位于所述容置空间内的待镀膜产品表面，所述匀流板和所述待镀膜产品位于同一平面。该原子层沉积装置包括反应腔和所述匀流机构，所述匀流机构位于所述反应腔内。本申请提供的原子层沉积装置及其匀流机构，能够提高待镀膜产品的镀膜均匀性并减少非原子层沉积镀膜的其他反应产生。
原子沉积装置及其机构

[发明专利]镀膜设备-CN202111105642.4在审
发明人：廖宝臣;王亨;张良俊;李翔;黎微明 -专利权人： 江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2021-09-22 - 公布日： 2021-12-31 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本申请公开了一种镀膜设备，包括：反应腔；温控部；第一气体供给部，用于在温控部将反应腔内的温度控制在第一预设温度范围内时，向反应腔提供第一镀膜气体，使得反应腔内产生原子层沉积反应/等离子体增强原子层沉积反应；真空系统；第二气体供给部，用于在温控部将反应腔内的温度控制在第二预设温度范围内时，向反应腔提供第二镀膜气体；电源，用于在真空系统将反应腔内的真空度控制在预定真空度范围内，以及第二气体供给部向反应腔提供第二镀膜气体后，向反应腔内馈入电压，使得反应腔内产生等离子体增强化学气相沉积反应。本申请的镀膜设备既能进行原子层沉积工艺/等离子体增强原子层沉积工艺，也能进行等离子体增强化学气相沉积工艺。
镀膜设备

[实用新型]安全锁机构及开盖装置-CN202121531875.6有效
发明人：左敏;李登辉;胡磊 -专利权人： 江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2021-07-06 - 公布日： 2021-12-31 - 主分类号： E05B15/00 文献下载
摘要：本申请公开了一种安全锁机构及开盖装置，该安全锁机构包括：固定座；可伸缩的第一动力件，与盖体连接，带动盖体运动，使盖体封闭腔体或使盖体与腔体分离；第一动力件包括第一卡合部；锁止件，包括能与第一卡合部卡合的第二卡合部；可伸缩的第二动力件，其相对设置的两端分别与锁止件和固定座连接；控制件，与第二动力件连接，控制第二动力件的伸缩，使第二动力件带动第二卡合部运动；当第二卡合部靠近第一卡合部并与第一卡合部相卡合时，第一动力件被锁定，盖体与腔体分离；当第二卡合部远离第一卡合部并与第一卡合部分离时，第一动力件被释放，盖体能封闭腔体。本申请提供的安全锁机构及开盖装置，能自动控制锁止件的位置，无须人工手动操作。
安全机构装置

[实用新型]转运装置、装载机台及PECVD设备-CN202120601113.2有效
发明人：刘强;左敏;吴兴华;胡彬;黎微明;其他发明人请求不公开姓名 -专利权人： 江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2021-03-24 - 公布日： 2021-12-14 - 主分类号： C23C16/54 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种转运装置，包括安装支架、伸缩机构及托料组件。伸缩机构沿第三方向可往复移动地连接于所述安装支架，且所述伸缩机构具有沿与所述第三方向垂直的第二方向可往复移动的伸缩端；托料组件连接于所述伸缩端，用于承托物料。通过设置上述装运装置，托料组件承托物料，然后伸缩机构的伸缩端沿第二方向及第三方向往复移动，从而实现物料的转运，而在不转运物料时，伸缩端可以沿第二方向及第三方向移动回到初始的位置，避免占用空间，提高空间利用率。本实用新型还涉及一种装载机台及PECVD设备。
转运装置装载机台 pecvd 设备

[实用新型]推料装置、装载机台及PECVD设备-CN202120602238.7有效
发明人：刘强;左敏;吴兴华;胡彬;黎微明 -专利权人： 江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2021-03-24 - 公布日： 2021-12-14 - 主分类号： C23C16/54 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种推料装置，包括推料底座、推料座、承载组件及调节组件。推料座沿第一方向可往复移动地连接于所述推料底座；承载组件包括连接杆及承载件，所述连接杆与所述承载件固定连接，所述承载件用于承载物料；调节组件设置于所述推料座，所述连接杆连接于所述调节组件，且所述调节组件被构造为可操作地调节所述连接杆相对所述第一方向倾斜的角度。加工炉管设置于承载组件沿第一方向的一侧，推料座沿第一方向移动的过程中将物料输送至加工炉管内加工。而调节组件可以调节连接杆相对第一方向倾斜的角度，从而调节承载件输送物料的精度，避免物料与加工炉管发生碰撞。本实用新型还涉及一种装载机台及PECVD设备。
装置装载机台 pecvd 设备