专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]转向齿条的制造-CN200480035945.1有效
  • J·多曼恩;J·F·耶格吉;L·J·麦克莱恩 - 毕晓普创新有限公司
  • 2004-12-03 - 2007-10-24 - B21K1/00
  • 用于执行无飞边锻造操作来制造转向齿条的有齿部分的锻模设备和方法。锻模设备包括第一和第二锻模构件和至少一个冲压构件,每个具有大体上成形为所述的有齿部分的部分的对应部的形成表面,且所述的第一锻模构件的形成表面的至少部分大体上成形为所述的齿条的齿的对应部。所述的第一和第二锻模构件可相互相向移动到闭合位置,以此从放置在所述的锻模设备中的坯料部分地锻造出所述的有齿部分,且形成由所述的形成表面限定的大体上闭合的腔,一旦所述的锻模构件处于所述的闭合位置,所述的冲压构件适合于移动到所述的腔内,以此完成所述的锻造操作。
  • 转向齿条制造
  • [发明专利]回转阀中的端口密封-CN200580029330.2无效
  • A·B·沃利斯;A·D·托马斯 - 毕晓普创新有限公司
  • 2005-08-31 - 2007-08-01 - F01L7/16
  • 一种用于内燃机的轴流式回转阀(1),包括具有孔的气缸盖(10),轴流式回转阀(1)在所述孔中旋转。该阀具有圆柱形中心部分(4),以及终止于中心部分中孔口(7,8)的进气口和排气口(2,3),所述孔口通过所述孔中的开口(15)周期性地与燃烧室(23)相连通。所述中心部分与所述孔之间的间隙由浮动密封阵列密封,该浮动密封阵列包括至少两个在所述开口相对侧上间隔开的轴向密封(16a,16b)。该组件还包括至少一个浮动的轴向延伸隐蔽密封(5),其布置于所述开口的外侧,并且在圆周方向上远离所述轴向密封。
  • 回转中的端口密封
  • [发明专利]角度和扭矩的光学传感器-CN02827936.0无效
  • R·诺尔特迈尔 - 罗伯特-博希股份公司;毕晓普创新有限公司
  • 2002-02-08 - 2005-05-18 - G01D5/347
  • 一种用于确定一个可转动物体(13)的角位移和扭矩的光学传感器构成。该传感器包括至少一个形成图案的表面(1),一个ASIC(3),至少一个透镜(2)和至少一个EMR源(1 6,17)。ASIC(3)包括处理装置和一个用于EMR的检测器阵列。至少一个EMR源(16,17)照亮形成图案的表面(1),并且,至少一个透镜(2)将来自形成图案的表面(1)的被反射的EMR(5)的一部分聚焦到用于EMR的检测器阵列上。形成图案的表面(1)包括一个图案,该图案包括转向标记和激光标记(8)。至少一个透镜(2)将被转向标记(14)反射的EMR基本上聚焦到检测器阵列上。转向标记(14)不对称。
  • 角度扭矩光学传感器
  • [发明专利]锻造方法和装置-CN02807473.4无效
  • K·J·罗斯科;A·W·哈斯塞特 - 毕晓普创新有限公司
  • 2002-03-28 - 2004-07-07 - B21K1/30
  • 一种生产伞齿轮、尤其是盆形齿轮的方法,所述伞齿轮包括安装表面。所述方法包括步骤:在锻造模具中无毛边式地温锻毛坯、优选为环形毛坯,生产出具有精密锻造齿的伞齿轮;对齿进行淬火操作;然后通过用配对的伞齿轮来研磨所述齿,从而不通过机加工就完成齿的精加工。还公开了用于在压力机中从环形毛坯中锻造盆形齿轮的模具装置。
  • 锻造方法装置
  • [发明专利]用于光编码器的位置传感器和电路-CN99816192.6无效
  • A·莫尔塔拉;P·马萨;P·海姆;F·海特格 - 毕晓普创新有限公司;瑞士微电子技术中心
  • 1999-11-17 - 2004-06-16 - G01D5/34
  • 一种用于测量入射辐射的空间周期强度辐射图的位置的电子电路包括:探测器阵列(1);每个具有连接至缓冲器(14)的电容器阵列(12,13)的两个或两个以上相关器单元(2,3);以及相角计算单元(4)。探测器阵列(1)的间距小于入射强度辐射图的节距、使得后者被过抽样,由此得到高精度。探测器输出(17)被沿电容器阵列(12,13)周期变化的各个固定电容值(15,16)加权,并且对于每个相关器单元(2,3)的输出的加权和在各自的缓冲器(14)输出。各个相关器单元(2,3)的电容值(15,16)按预定的相移互相偏移。使用电容器阵列(12,13)的模拟计算是快速和高能效的,而且能够以超大规模集成电路(VLSI)电路实现。
  • 用于编码器位置传感器电路
  • [发明专利]制造锻制齿条的方法和装置-CN02806982.X有效
  • L·J·麦利恩 - 毕晓普创新有限公司
  • 2002-03-21 - 2004-05-19 - B21K7/12
  • 一种通过锻压制造转向齿条杆(6)的方法,该方法包括步骤:将加热的圆柱形齿条杆(6)放入第一锻压模(15),在其一端锻制出第一齿部分(37),取出齿条杆;在所述齿条杆的另一端或其附近对齿条杆加热,将齿条杆的另一端放入第二锻压模并锻制出第二齿部分(38),在锻制第二齿部分之前,利用第一齿部分或齿条杆一端或附近的特征为基准,使齿条杆的轴向位置和角度与预定的轴向位置和角度对准,并在进行锻制第二齿部分之前设定并保持确定的轴向位置和角度位置。
  • 制造锻制齿条方法装置
  • [发明专利]传递路径转矩传感器-CN98812361.4无效
  • K·Y·埃森豪尔 - 毕晓普创新有限公司
  • 1998-12-15 - 2004-03-03 - G01L3/08
  • 一种转矩传感器包括具有通过扭转适应耦合(2)连接的第一和第二转矩输入部件(1a,1b)的转轴,从而能使转矩输入部件之间的相对角偏转作为轴转矩大小的函数。传感器具有EMR源(5,6)和阵列或EMR灵敏检测器(7,8)。每个转矩输入部件具有带交替的对EMR有高、低透射率区域的光栅带(101,102)。光栅带位于EMR从源传递到阵列的传递路径(90,91)。通过位于通向阵列的传递路径中的光栅带的交替的高、低透射率区域所造成阵列上的入射EMR产生图案。阵列上的图案经处理得出转矩部件的相对角偏转并提供轴转矩大小的量度。
  • 传递路径转矩传感器
  • [发明专利]一种在扭矩传感器的光栅元件表面上制造光栅图形的方法-CN98810267.6无效
  • K·Y·埃森豪尔 - 毕晓普创新有限公司
  • 1998-10-15 - 2004-01-14 - B23K26/08
  • 一种在扭矩传感器的光栅元件表面上制造光栅图形的方法,该换能器有一个包括第一和第二刚性扭矩输入部件的轴,两个部件由扭矩联轴器连接,能够在第一和第二输入部件之间进行相对角偏移,第一和第二光栅元件分另与第一和第二输入部件联接,这两个光栅元件的表面是相邻的,能作为轴中扭矩的函数而相对移动,该方法包括下列步骤:将两个输入部件及相应的光栅元件可以转动地沿轴向固定在扭矩联轴器上而形成一个装置;将该装置安装在一个包括一辐射源的机器中,该辐射源设置成照射两个光栅元件的表面区域,而保持两个扭矩输入部件之间相对于其零扭矩校准状态的预定相对角位移;同时照射两个光栅元件的相邻表面区域,而保持两个扭矩输入部件之间的预定角位移。
  • 一种扭矩传感器光栅元件表面上制造图形方法
  • [发明专利]光学传感器-CN99813120.2无效
  • K·Y·埃森豪尔;J·巴克斯特 - 毕晓普创新有限公司
  • 1999-11-05 - 2001-12-05 - G01D5/56
  • 一种用以确定可移动表面的位置的传感器(10),该可移动表面包括对于EMR具有高和低反射率的构图区域(7,8),该传感器包括一个ASIC(22)、至少一个透镜以及至少一个EMR源(16)。该ASIC包括EMR传感探测器的至少一个阵列和处理装置,该EMR源有利于照射表面,该至少一个透镜(19)有利于从该表面所反射的EMR的聚焦以及在EMR传感探测器的至少一个阵列上产生与该表面上的构图相应的图像。所述ASIC、至少一个透镜以及至少一个EMR源全部被封装在一单一的壳体(15)中并且被集成为一单个的可更换模块,该壳体提供了对这些元件的精确光学对准,并且ASIC的处理装置有利于对图像的处理以便对表面上构图的位置加以确定。
  • 光学传感器
  • [发明专利]角度编码器-CN99809141.3无效
  • K·Y·埃森豪尔;J·巴克斯特尔 - 毕晓普创新有限公司
  • 1999-07-21 - 2001-09-05 - G01D5/38
  • 一种角度位置传感器,包括可绕相对于周围外壳(5)所安装的旋转轴(8)而旋转的机体(1)。机体具有光栅元件(2),光栅元件(2)包括围绕旋转轴的旋转表面。该表面包括以单个二进位条形码无穷连续形式排列的高(21)和低(22)EMR反射率区域的伪随机分布。该传感器包括对于外壳所安装的EMR源(10)和EMR灵敏探测器阵列(9)。源照射表面并且阵列接收由表面反射的入射EMR。由入射EMR在该阵列上所产生的图形起因于表面低和高反射率的交互区域。由处理器(11)对图形进行处理来得到相对于外壳区域的绝对角度位置,并因此提供旋转体相对于外壳的绝对角度位置测量。
  • 角度编码器

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