专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种简易高效去除石墨烯表面PMMA的方法-CN202211323942.4有效
  • 于法鹏;国星;张雪;王鹏;孙丽;李妍璐;赵显 - 山东大学
  • 2022-10-27 - 2023-09-22 - C01B32/196
  • 本发明公开了一种简易高效去除石墨烯表面PMMA的方法,属于石墨烯转移技术领域,包括:将PMMA/石墨烯薄膜转移至Si/SiO2衬底;将Si/SiO2衬底放置并夹紧于加装了振动组件的振动金属梁上,将振动金属梁垂直插入溶胀液内,磁力搅拌一定时间后提出;将振动金属梁垂直插入浸泡液内,开启振动组件,持续一定时间后提出,关闭振动组件;对负载PMMA/石墨烯薄膜的Si/SiO2衬底进行冲洗,随后对负载石墨烯薄膜的Si/SiO2衬底进行冲洗,吹干,获得已去除PMMA的负载石墨烯薄膜的Si/SiO2衬底。该方法操作简单,可高效、快速去除石墨烯表面的PMMA。
  • 一种简易高效去除石墨表面pmma方法
  • [发明专利]一种易剥离近自由态石墨烯及其制备方法和应用-CN202310071729.7在审
  • 孙丽;王鹏;张雪;国星;李妍璐;程秀凤;于法鹏;赵显 - 山东大学
  • 2023-01-16 - 2023-04-28 - C01B32/186
  • 本发明属于二维材料制备领域,具体涉及一种易剥离近自由态石墨烯及其制备方法和应用。本发明首先通过控制工艺选择性制备具有不同指数面的金属衬底,并以此为衬底经过化学气相沉积生长石墨烯薄膜,生长完成后进行后处理,通过调控后处理的反应温度和时间,在石墨烯与金属衬底界面处发生反应,于界面处形成钝化层,从而直接削弱石墨烯与金属衬底之间的强相互作用,实现石墨烯在金属衬底上的解耦,得到易剥离近自由态石墨烯。本发明通过设计并调整生长工艺和后处理过程,在不引入其他杂质的前提下,显著降低了石墨烯与衬底之间的相互作用,直接制备得到易剥离近自由态石墨烯,剥离转移后的石墨烯能够广泛应用在半导体电子器件及能源转化领域。
  • 一种剥离自由石墨及其制备方法应用
  • [发明专利]基于Cu2O介质层生长单层单晶石墨烯的方法-CN202110808614.2有效
  • 于法鹏;张雪;国星;孙丽;王鹏;李妍璐;赵显 - 山东大学
  • 2021-07-16 - 2022-09-02 - C30B25/00
  • 本发明涉及一种基于Cu2O介质层生长单层单晶石墨烯的方法,该方法将铜箔经预氧化和氢气处理后,在表面制备出一层薄Cu2O介质层,再以Cu2O介质层为基底进行生长石墨烯,使石墨烯生长机制由边缘附着限制变为扩散限制,可显著降低石墨烯的成核密度,同时相对于纯铜箔来说,Cu2O介质层能够减少碳原子的亚表面吸附,有效阻止第二层石墨烯的成核生长,保证单层单晶石墨烯生长。本发明的方法有效减少了铜箔晶界的数量,同时使其变为统一(111)晶面,平坦少晶界的铜箔表面为石墨烯的生长提供了良好的生长环境,同时Cu2O介质层可以降低石墨烯成核密度,加快其生长速度,同时显著抑制石墨烯第二层成核,便于大尺寸单层单晶石墨烯生长。
  • 基于cu2o介质生长单层晶石方法
  • [发明专利]一种基于化学气相沉积制备大尺寸单晶二维材料的方法-CN202111037976.2有效
  • 赵显;孙丽;王鹏;国星;张雪;李妍璐;于法鹏 - 山东大学
  • 2021-09-06 - 2022-07-26 - C30B25/02
  • 本发明属于二维材料制备领域,具体涉及一种基于化学气相沉积制备大尺寸单晶二维材料的方法。所述方法为:采用载气A和载气B混合作为载流气体,先通过设定载气A和载气B的比例构造出近平微凸温场,再调整二者的比例构造出平温场,经过化学气相沉积获得大尺寸单晶二维材料;所述载气A为惰性气体,载气B为与载气A热导率不同的气体。本发明通过在反应室内引入不参加二维材料化学反应生成、且热导率不同的气体,在加强物质间相互作用的同时,有效对反应腔内的温场进行调控,设计并实现了在二维材料生长区域内凸温场向平温场的转变,充分提供温度驱动力,进而促进二维材料核的横向长大,最终获得高质量的大尺寸单晶二维材料。
  • 一种基于化学沉积制备尺寸二维材料方法
  • [发明专利]磷酸钇锶晶体及其制备方法与应用-CN201910517507.7有效
  • 于法鹏;武广达;李芳林;樊梦迪;李妍璐;程秀凤;赵显 - 山东大学
  • 2019-06-14 - 2022-02-15 - G02F1/355
  • 本发明涉及磷酸钇锶晶体及其制备方法与应用。磷酸钇锶晶体的化学式为Sr3Y(PO4)3,该晶体为非中心对称结构,属于立方晶系‑43m点群。所述的磷酸钇锶晶体的制备方法,包括:合成磷酸钇锶多晶料,升温熔化得到熔化均匀的磷酸钇锶熔液;采用铱金棒或磷酸钇锶晶体作为籽晶,使所述籽晶底端与所述磷酸钇锶熔液刚好接触,采用提拉法进行单晶生长,单晶生长温度1700‑1850℃。所述磷酸钇锶晶体熔点高于1800℃,且从室温到熔点无相变,化学性质稳定,不潮解,因此在高温压电和宽温区非线性光学领域具有明显应用优势。
  • 磷酸晶体及其制备方法应用
  • [发明专利]一种在n型4H/6H-SiC硅面上制备周期性石墨烯PN结的方法-CN201910093921.X有效
  • 陈秀芳;秦笑;徐现刚;李妍璐;赵显 - 山东大学
  • 2019-01-30 - 2021-02-12 - H01L31/18
  • 本发明涉及一种在n型4H/6H‑SiC硅面上制备周期性石墨烯PN结的方法,属于微电子材料技术领域,方法包括步骤:将偏轴4°半绝缘和正向n型的4H/6H‑SiC的硅面晶片进行化学机械抛光及化学清洗,在偏轴4°半绝缘的SiC晶片上制备n型单层石墨烯,经过剥离步骤获得n型单层石墨烯微米条带,在n型SiC衬底上制备p型单层石墨烯微米条带,将n型单层石墨烯微米条带对准后放置在p型单层石墨烯微米条带上,施加压力,并将样品放置在加热台上加热,胶带脱离后获得周期性PN结。本方法易于控制,通过精确控制生长压力、时间等,最终在n型4H/6H‑SiC衬底的Si面上获得了表面形貌均匀的高质量周期性石墨烯PN结。
  • 一种sic面上制备周期性石墨pn方法

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