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[发明专利]一种提高显示面板封胶良品率的方法-CN202110460725.9有效
发明人：陈建伦;徐阳;李伟界;胡君文 -专利权人：信利（惠州）智能显示有限公司
申请日： 2021-04-27 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： G02F1/13 文献下载
摘要：本发明涉及一种提高显示面板封胶良品率的方法，该方法包括如下步骤：步骤一、在显示面板的边角处贴上静电胶纸；步骤二、将显示面板放置在能够旋转的平台上，平台为倾斜设置；步骤三、将位于显示面板顶部的侧边的边缘进行涂密封胶，密封胶固化后位于显示面板顶部的侧边的间隙被填充，位于显示面板顶部的侧边的两端均贴有静电胶纸；步骤四、旋转平台带动显示面板转动，直至显示面板的未进行封胶处理的侧边中的一个侧边转动至显示面板的顶部；步骤五、重复步骤三和步骤四，直至显示面板完成封胶处理。
一种提高显示面板封胶良品率方法

[发明专利]一种提高靶材利用率的方法-CN202211182164.1在审
发明人：张依腾;郑风云;杨文胜;何海山;李伟界 -专利权人：信利（惠州）智能显示有限公司
申请日： 2022-09-27 - 公布日： 2023-01-03 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及一种提高靶材利用率的方法，所述方法包括提供带有PLC程序控制的磁控溅射装置，所述磁控溅射装置包括被成膜基板、与所述被成膜基板相对设置的靶材、设置在所述靶材远离所述被成膜基板一侧的磁铁、分别位于所述磁铁左右两端用于识别所述磁铁位置的一组第一感应器，所述第一感应器之间的距离为a，所述磁铁在所述第一感应器之间做左右复往运动，所述方法还包括沿着所述第一感应器方向上在所述第一感应器之间设置有第二感应器，所述第二感应器之间的距离b满足：0.88a≤ba，所述磁铁按照在所述第一感应器之间做左右复往运动、在所述第二感应器之间做左右复往运动的顺序依次循环。
一种提高利用率方法

[发明专利]AMOLED显示器件及其制备方法-CN202210227029.8在审
发明人：郭晓霞;刘荣;吴远焕;李伟界 -专利权人：信利（惠州）智能显示有限公司
申请日： 2022-03-08 - 公布日： 2022-08-05 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明涉及一种AMOLED显示器件及其制备方法，该AMOLED显示器件的制备方法包括在衬底基板上的涂覆光刻胶并进行刻蚀形成阻挡块，阻挡块围成透光区，透光区的纵向截面为倒梯形；在衬底基板形成透光区的端面上依次涂覆有机层和金属层；使用具有粘附层的治具对处于透光区内的膜层进行剥离。本发明提供的AMOLED显示器件的制备工艺简单，通过单独去除屏下摄像头区域的膜层，实现屏体不同区域对光线透过率的要求，在确保显示区域维持正常的显示性能的同时提高屏下摄像区域的高透性。
amoled 显示器件及其制备方法

[实用新型]一种门阀装置-CN202123347347.8有效
发明人：冼伟材;刘伟;李伟界;戴成云 -专利权人：信利（惠州）智能显示有限公司
申请日： 2021-12-28 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种门阀装置，门阀装置设置在TM传送腔室和干刻腔室之间，干刻腔室上设置有贯穿孔，门阀装置覆盖贯穿孔的孔口并且和孔口附近的腔壁连接，门阀装置包括密封板、密封件、外密封圈和内密封圈，密封板设置在干刻腔室的外侧，外密封圈设置在密封板和腔壁之间，内密封圈设置在外密封圈内侧，密封件包括一环形块，环形块设置在贯穿孔内并且环形块的外侧壁和贯穿孔的内侧壁紧密贴合，内密封圈设置在密封板和环形块之间。
一种门阀装置

[发明专利]过孔干刻的方法-CN202111479362.X在审
发明人：谢武林;刘伟;李伟界;戴成云 -专利权人：信利（惠州）智能显示有限公司
申请日： 2021-12-06 - 公布日： 2022-04-22 - 主分类号： H01L21/311 文献下载
摘要：本发明涉及一种过孔干刻的方法，该方法包括用第二刻蚀气体对第一层间绝缘层和栅极绝缘层进行刻蚀，第二刻蚀气体包括Ar、H2、C2HF5，C2HF5对第一层间绝缘层和栅极绝缘层进行刻蚀过程中发生反应生成CFx，CFx沉积在孔内的栅极绝缘层上导致刻蚀中断，该方法还包括使用低温氧等离子体去除CFx。本发明提供的方法能避免过孔干刻过程中因沉积物而导致刻蚀中断的情况，同时也减小过孔干刻时出现PSI过刻程度，避免出现过刻严重的情况，保证了过孔处PSI的膜厚均匀性，消除MURA，提高产品良率。
孔干刻方法

[发明专利]低温多晶硅薄膜及其制备方法、薄膜晶体管和显示面板-CN202111223013.1在审
发明人：方维君;陈卓;刘伟;李伟界 -专利权人：信利（惠州）智能显示有限公司
申请日： 2021-10-20 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种低温多晶硅薄膜的制备方法，包括在衬底基板上依次沉积缓冲层和非晶硅层，制备方法还包括采用激光光束1和激光光束2组成的双激光光束对非晶硅层进行晶化，激光光束1和激光光束2是不同激光器发出的光束，激光光束1是主激光光束，激光光束2是辅助激光光束，激光光束1从非晶硅层的上方照射到非晶硅层，激光光束2从衬底基板的下方照射到非晶硅层，激光光束2依次经过衬底基板、缓冲层后到达非晶硅层。本发明还涉及一种低温多晶硅薄膜，该低温多晶硅薄膜为通过上述方法制备而成。本发明还涉及一种薄膜晶体管，薄膜晶体管包括上述低温多晶硅薄膜。本发明还涉及一种显示面板，显示面板包括上述薄膜晶体管。
低温多晶薄膜及其制备方法薄膜晶体管显示面板

[发明专利]一种剥离光阻的装置及其控制方法-CN202111363522.4在审
发明人：张桂林;张依腾;何海山;李伟界 -专利权人：信利（惠州）智能显示有限公司
申请日： 2021-11-17 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及一种剥离光阻的装置，包括有效成分添加装置、补给监控装置、若干个剥离槽和若干个存储槽，若干个剥离槽分别连通有存储槽，若干个存储槽之间互相连接；存储槽至少包括第一存储槽和第N存储槽，第一存储槽上设置有出液管，第N剥离槽上设置有进液管；有效成分添加装置和第一存储槽通过管道连接，管道上设置有开关阀；补给监控装置分别和第一存储槽、有效成分添加装置连接，补给监控装置与有效成分添加装置通信连接；补给监控装置通过进液管对第N存储槽添加剥离液新液，补给监控装置通过出液管排放第一存储槽中的剥离液废液，补给监控装置控制若干个存储槽之间的连通状态。本发明还涉及一种控制上述剥离光阻的装置的方法。
一种剥离装置及其控制方法

[发明专利]TN型号TFT-LCD得到BM的线宽范围的方法-CN202110961825.X在审
发明人：赵春光;徐阳;李伟界 -专利权人：信利（惠州）智能显示有限公司
申请日： 2021-08-20 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： G02F1/139 文献下载
摘要：本发明涉及一种TN型号TFT‑LCD得到BM的线宽范围的方法，包括如下步骤：步骤一，确定Array基板和CF基板上各膜层的厚度以及折射率；步骤二，设定人眼观察的最大视角θ；步骤三，将透射光由CF基板的玻璃基材射入空气层的出射角设为θ1，将透射光由G膜层射入CF基板的玻璃基材的入射角设为θ2，满足Nglass×sinθ1＝NG×sinθ2，并且透射光在G膜层移动路径的水平方向移动距离d1＝TG×tanθ2；将透射光由OC膜层射入G膜层的入射角设为θ3，满足NOC×sinθ3＝NG×sinθ2，透射光到达G膜层前的移动路径的水平方向移动距离d2＝(Tlc+TOC+Tx)×tanθ3；步骤四，将θ1＝θ，得到(d1+d2)的数值，Array基板侧的S/D线两侧的G层遮光线的宽度为d3，则BM的线宽不小于(2d1+2d2+d3)的数值。
tn 型号 tft lcd 得到 bm 范围方法

[发明专利]控制TFT基板上的过孔孔径大小的方法-CN202111306783.2在审
发明人：肖子黎;冼伟材;刘伟;李伟界;戴成云 -专利权人：信利（惠州）智能显示有限公司
申请日： 2021-11-05 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： H01L21/77 文献下载
摘要：本发明涉及一种控制TFT基板上的过孔孔径大小的方法，过孔贯穿层间绝缘层和栅极绝缘层，该方法包括：在层间绝缘层上沉积两性金属层掩膜；对两性金属层掩膜进行第一干法刻蚀得到过孔的图形；在TFT基板上进行第二干法刻蚀形成过孔；对两性金属层掩膜进行碱性溶液湿法刻蚀。本发明提供的方法避免了后退现象，有效增强了对孔径大小的控制，从而控制CD LOSS，确保产品的搭接电阻及电特性。
控制 tft 基板上孔径大小方法

[发明专利]定位标位置检测方法、装置、计算机和存储介质-CN201810429278.9有效
发明人：陆书鑫;方金波;仝建军;李伟界;黄伟东;李建华 -专利权人：信利（惠州）智能显示有限公司
申请日： 2018-05-08 - 公布日： 2021-12-17 - 主分类号： G06T7/73 文献下载
摘要：本申请涉及一种定位标位置检测方法、装置、计算机和存储介质，所述方法包括获取包含定位标的图像；解析所述图像，确定所述定位标的第一位置；基于所述定位标的第一位置，检测预设区域内的灰阶的变化，根据所述预设区域内的灰阶的变化确定所述定位标的边的位置；根据所述定位标的边的位置，确定所述定位标的第二位置。通过在预设区域内检测灰阶的连续变化，确定定位标的边的位置，有效排除胶点或者污点造成的灰阶干扰，进而精确获取到定位标的位置，从而提高了偏移量的检测精度，使得曝光效果更佳。
位标位置检测方法装置计算机存储介质

[发明专利]光配向装置及光配向方法-CN202110897073.5在审
发明人：邹祖旺;吴康;黄建威;司斌;李伟界 -专利权人：信利（惠州）智能显示有限公司
申请日： 2021-08-05 - 公布日： 2021-12-03 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：本发明涉及一种光配向装置，包括支撑单元、设于支撑单元上方的光照单元，光配向装置还包括绕支撑单元周向设置的吸光单元，支撑单元包括承载台和台板，支撑台设置在台板的上方，台板靠近承载台的一端由若干个斜面组成。本发明还涉及一种光配向方法，包括如下步骤：使用上述光配向装置，承载台承载液晶面板；光照单元对液晶面板上的光配向膜按照一定的照射角度进行线性紫外光照射，部分紫外光透过液晶面板照射到台板上；透过液晶面板的紫外光的其中一部分被台板吸收，未被吸收的紫外光经过斜面后遵循镜面反射被斜面反射到吸光单元上。
装置方法

[发明专利]摩擦配向的方法及装置、液晶显示器件及基板-CN201810135505.7有效
发明人：邹祖旺;王学雷;司斌;李伟界;黄伟东;李建华 -专利权人：信利（惠州）智能显示有限公司
申请日： 2018-02-09 - 公布日： 2021-10-12 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：本发明涉及一种摩擦配向的方法及装置、液晶显示器件及基板。上述的摩擦配向的方法包括：将基板置于台板机构上；通过摩擦辊摩擦基板，同时检测摩擦辊摩擦基板时的压入量，得到摩擦辊位于基板的当前位置的压入量数值；其中，压入量数值的数目为多个，多个压入量数值一一对应于摩擦辊位于基板上的多个不同位置；分别将压入量数值与压入量平均值进行比较，以判定压入量数值与压入量平均值的偏差值是否超出预定值；以及根据控制信号调节台板机构的高度，以调节摩擦辊的压入量。摩擦辊在摩擦基板的过程中台板机构的高低可以实时调整，这样使摩擦机台的水平性对基板的摩擦配向的均匀性的影响较小，从而使基板的摩擦配向的均匀性较好。
摩擦方法装置液晶显示器件

[发明专利]一种提高TN型号Island残留引起点缺陷的检出率的方法-CN202110426536.X在审
发明人：赵春光;徐阳;李伟界 -专利权人：信利（惠州）智能显示有限公司
申请日： 2021-04-20 - 公布日： 2021-08-20 - 主分类号： G02F1/1362 文献下载
摘要：本发明涉及一种提高TN型号Island残留引起点缺陷的检出率的方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤一，在液晶Panel专用电测架的承载台的下方放置背光板，背光板靠近承载台的端面贴下偏光片，在承载台上方放置与下方偏光片相互垂直的上偏光片，将TN型号的待测面板放置在上偏光片上，承载台为镂空结构，背光板产生的光源能透过承载台，待测面板和电测机连接；步骤二，点亮背光板，将电测机的设置电测程序的频率定位为35‑45HZ，Gate高电平时间定位为400‑600μs；步骤三，检测人员通过目测观察待测面板点亮后的状态。
一种提高 tn 型号 island 残留引起点缺陷检出方法

[发明专利]一种检测TFT清洗线MURA的方法-CN202110430833.1在审
发明人：曾纯;徐阳;李伟界 -专利权人：信利（惠州）智能显示有限公司
申请日： 2021-04-21 - 公布日： 2021-08-20 - 主分类号： G02F1/13 文献下载
摘要：本发明涉及一种检测TFT清洗线MURA的方法，包括如下步骤：S1、使用水蒸气喷头向完成清洗流程的玻璃基板表面喷水蒸气，所述水蒸气喷头所喷出的水蒸气覆盖所述玻璃基板的表面；S2、使用能发出绿色光的钠灯作为唯一光源，使用所述钠灯照射所述玻璃基板的表面，检查所述玻璃基板的表面是否存在光散射部分。
一种检测 tft 清洗 mura 方法

[实用新型]光刻胶过滤芯的储存装置-CN202022069137.6有效
发明人：何家鸣;申浩;司斌;李伟界 -专利权人：信利（惠州）智能显示有限公司
申请日： 2020-09-18 - 公布日： 2021-08-13 - 主分类号： B01D35/00 文献下载
摘要：本实用新型公开一种光刻胶过滤芯的储存装置，包括过滤芯组件、存储液通入组件及废液收集组件，所述过滤芯组件包括囊式过滤芯、排气球阀、进液球阀和出液球阀，所述囊式过滤芯上开设有排气口、进液口和出液口，所述排气球阀罩设于所述排气口上，所述进液球阀罩设于所述进液口上，所述出液球阀罩设于所述出液口上。本实用新型为一种光刻胶过滤芯的储存装置，可以暂时存储光刻胶囊式过滤芯，并且将囊式过滤芯与滤芯液存储桶连通，使得滤芯液可以充满整个过滤芯，保证了过滤芯的过滤功能，在下一次需要使用时方便取出，而不需要每次都更换新的滤芯，降低了成本损耗，提高了产品的竞争力。
光刻过滤储存装置

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