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[实用新型]阵列基板的蚀刻装置和蚀刻机-CN202121204774.8有效
发明人： 张阳圣;康报虹 -专利权人：惠科股份有限公司
申请日： 2021-05-31 - 公布日： 2021-12-17 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本申请公开了一种阵列基板的蚀刻装置和蚀刻机，蚀刻装置包括腔体、承载平台、抽气泵和多个导流板，所述导流板设置在所述承载平台的边缘外侧，所述承载平台的每一侧都设有多个导流板，相邻所述导流板之间设有开口；且相邻所述导流板的高度不同，开口由相邻所述导流板之间的高度差形成。本申请通过在承载平台每一侧设置多个导流板，利用相邻导流板的高度差形成开口，从而使气体生成物可以从承载平台四周不同的方向均匀流出被抽气泵抽走，使等离子体在腔体四周的浓度达到基本平衡，不会形成不适当的负载效应，使得待加工阵列基板各个部分的蚀刻程度基本相同，保证待加工基板的各部分的加工均匀性，进而提高产品品质。
阵列蚀刻装置

[实用新型]一种视窗保护机构及蚀刻设备-CN201920044229.3有效
发明人： 张阳圣 -专利权人：惠科股份有限公司
申请日： 2019-01-10 - 公布日： 2019-10-22 - 主分类号： C23F1/08 文献下载
摘要：本申请公开了一种视窗保护机构，包括用于安装视窗且具有滑动槽的第一安装板、用于选择性遮挡视窗且通过滑动槽与第一安装板滑动连接的挡板、以及用于驱动挡板的移动以实现挡板对视窗的选择性遮挡的驱动机构。本申请采用驱动机构带动挡板的移动，使得挡板在遮挡视窗和不遮挡视窗的两种状态间切换，当需要通过视窗观看蚀刻设备内的蚀刻状态时选择将挡板不遮挡视窗，使用者可通过视窗观察内部反应状态，当不需要观察蚀刻设备的内部使用状态时选择将挡板遮挡视窗，此时挡板能够避免蚀刻过程中等离子体对视窗的轰击和腐蚀，也即避免了非观察状态下视窗的雾化，因此能有效避免视窗在蚀刻过程中的雾化问题，进而降低了设备的使用成本。
视窗挡板蚀刻遮挡蚀刻设备选择性遮挡保护机构驱动机构安装板滑动槽中等离子体反应状态观察状态滑动连接雾化问题状态时移动观察轰击申请雾化腐蚀驱动观看

[实用新型]一种排气装置及干式真空泵-CN201820990622.7有效
发明人： 张阳圣;陈志锋 -专利权人：惠科股份有限公司;重庆惠科金渝光电科技有限公司
申请日： 2018-06-26 - 公布日： 2019-01-15 - 主分类号： F04C29/12 文献下载
摘要：本实用新型实施例公开了一种排气装置及干式真空泵，其中，排气装置包括两排气支管、排气主管以及两可控阀门。两排气支管分别与两所述排气口连接；两可控阀门分别设于两所述排气口处，所述可控阀门用于开启或者关闭所述排气口；排气主管同时与两所述排气支管连接。通过应用本实用新型实施例的技术方案，在干式真空泵的两个排气口处分别设置一排气支管以及一可控阀门。干式真空泵工作时，只从其中一排气口排气，当该排气口处的排气支管发生堵塞时，则将该排气口处的可控阀门关闭，打开另一个排气口处的可控阀门，使干式真空泵能够从另一个排气口排气，从而确保了干式真空泵能够正常地工作，提高了生产效率，提高了企业的收益。
干式真空泵排气口处排气支管可控阀门排气口排气装置本实用新型排气主管阀门排气生产效率堵塞收益应用