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- [实用新型]磁控溅射耙室装置-CN99204602.5无效
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张秀元
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秦皇岛星岛玻璃有限公司
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1999-02-10
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2000-03-29
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C23C14/35
- 本实用新型公开了一种磁控溅射耙室装置,包括箱式耙室,及其底部安装带胶轮的滚道,耙体上端安装耙盖和固定其上的磁铁包容的金属板构成的耙,耙室内滚道的两侧分别设有由遮板支架和竖遮板,及上部的横遮板组成屏蔽箱,位于滚道上部水平安装屏蔽板,通过其上分布的透孔与胶轮对应,且在横遮板上水平分布设置舌体。具有磁控溅射厚度均匀,成品率可达98%以上,是目前镀膜玻璃理想的磁控溅射耙室设备。
- 磁控溅射装置
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