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[发明专利]血液滤器及其制造方法-CN201480032424.4有效
发明人：金木达朗;岸冈高广;西野泰斗;广井佳臣;大谷彩子;小泽智行 -专利权人：日产化学工业株式会社
申请日： 2014-06-09 - 公布日： 2019-10-01 - 主分类号： A61M1/02 文献下载
摘要：本发明提供一种血液滤器，所述血液滤器包括：多孔元件；以及存在于该多孔元件的表面的至少一部分上的共聚物，所述共聚物包含：包含下述式(a)表示的有机基团的重复单元和包含下述式(b)表示的有机基团的重复单元(式中，U^a1、U^a2、U^b1、U^b2及U^b3、以及An^－如说明书及权利要求书中所记载的那样)。
血液滤器及其制造方法

[发明专利]感光性纤维及其制造方法-CN201480057069.6有效
发明人： 岸冈高广;横山义之 -专利权人：日产化学工业株式会社;富山县
申请日： 2014-10-17 - 公布日： 2019-07-19 - 主分类号： D01F6/52 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种纤维，所述纤维可以直接通过利用光刻法的简便方法进行形状加工，并且可以形成复杂且微细的纤维图案。一种纤维，其含有：(A)高分子化合物，所述高分子化合物包含下述结构单元，所述结构单元在侧链上具有选自羟基、羟甲基及碳原子数为1～5的烷氧基甲基中的至少1种有机基团，所述有机基团；及(B)光产酸剂。
感光性纤维及其制造方法

[发明专利]含有主链具有三嗪环及硫原子的共聚物的抗蚀剂下层膜形成用组合物-CN201480070299.6有效
发明人：绪方裕斗;岸冈高广;广井佳臣;大桥智也;臼井友辉 -专利权人：日产化学工业株式会社
申请日： 2014-12-10 - 公布日： 2019-06-11 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：本发明提供一种新型的抗蚀剂下层膜形成用组合物。所述抗蚀剂下层膜形成用组合物包含具有下述式(1)所示的结构单元及下述式(2)所示的结构单元的共聚物、交联性化合物、交联催化剂以及溶剂。(式中，A表示含三嗪环的2价的有机基团，X¹表示‑S‑基或‑O‑基，Q表示碳原子数1～15的直链状、支链状或环状的烃基，该烃基可以在主链上具有至少1个硫原子或氧原子，也可以具有至少1个羟基作为取代基，n表示0或1，R¹及R²各自独立地表示碳原子数1～3的亚烷基或单键，Z表示具有至少1个硫原子或氧原子的2价的基团，X¹表示‑O‑基时，Z表示具有至少1个硫原子的2价的基团。)
含有具有三嗪环原子共聚物抗蚀剂下层形成组合

[发明专利]包含含有酰胺基的聚酯的抗蚀剂下层膜形成用组合物-CN201780062564.X在审
发明人：田村护;绪方裕斗;臼井友辉;岸冈高广 -专利权人：日产化学株式会社
申请日： 2017-10-03 - 公布日： 2019-06-04 - 主分类号： C07C233/43 文献下载
摘要：本发明提供能够获得特别是在KrF工艺中发挥充分的防反射功能、高耐溶剂性和干蚀刻速度的抗蚀剂下层膜、并可以形成良好的截面形状的光致抗蚀剂图案的抗蚀剂下层膜形成用组合物。一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含共聚物，所述共聚物包含：来源于二环氧化合物的结构单元(A)；以及来源于下述式(1)所示的化合物的结构单元(B)，(式中，A表示苯环、或环己烷环，X表示氢原子、碳原子数1～10的烷基、碳原子数1～10的烷氧基、或碳原子数2～11的烷氧基羰基，所述碳原子数1～10的烷基和碳原子数1～10的烷氧基可以具有卤素取代基，Y表示‑COOH、或‑L‑NHCO‑Z‑COOH，Z表示可以被氧原子、硫原子或氮原子中断的碳原子数3～10的亚烷基，L表示单键、或间隔基)。
碳原子数抗蚀剂下层膜形成用组合物式( 1 )烷基烷氧基光致抗蚀剂图案二环氧化合物防反射功能共聚物包含卤素取代基烷氧基羰基环己烷环截面形状耐溶剂性氮原子干蚀刻共聚物间隔基硫原子氢原子亚烷基氧原子酰胺基苯环单键聚酯式中中断

[发明专利]包含具有乙内酰脲环的化合物的抗蚀剂下层膜形成用组合物-CN201780040019.0在审
发明人：绪方裕斗;后藤裕一;远藤雅久;臼井友辉;岸冈高广 -专利权人：日产化学株式会社
申请日： 2017-06-23 - 公布日： 2019-03-01 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：本发明的课题是提供包含具有乙内酰脲环的化合物的、新的抗蚀剂下层膜形成用组合物。解决手段是一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含1分子中具有至少2个下述式(1)所示的取代基的化合物、和溶剂。(式中，R₁和R₂各自独立地表示氢原子或甲基，X₁表示碳原子数1～3的羟基烷基、或主链具有1个或2个醚键的碳原子数2～6的烷基。)
抗蚀剂下层膜形成用组合物式( 1 )碳原子数乙内酰脲烷基羟基烷基氢原子溶剂醚键式中主链

[发明专利]基于湿式处理的表面粗化方法-CN201680052691.7在审
发明人：桥本圭祐;染谷安信;岸冈高广;坂本力丸 -专利权人：日产化学工业株式会社
申请日： 2016-09-15 - 公布日： 2018-05-11 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：本发明提供基板表面的粗化方法。本发明的表面粗化方法包括下述工序：第1工序，在基板的表面上涂布含有无机粒子(a1)和有机树脂(a2)的组合物(a3)，然后进行干燥和固化，从而在该基板上形成有机树脂层(A)；第2工序，通过用含有氟化氢、过氧化氢或酸的溶液蚀刻形成了有机树脂层(A)的基板从而使该基板的表面粗化。特别优选的方式中，蚀刻利用含有氟化氢和氟化铵、或过氧化氢和铵的溶液进行，有机树脂层(A)以相对于有机树脂(a2)100质量份而言无机粒子(a1)为5～50质量份的比例含有无机粒子(a1)和有机树脂(a2)，组合物(a3)使用作为无机粒子(a1)的二氧化硅或氧化钛分散在有机溶剂中而得的二氧化硅溶胶或氧化钛溶胶、与有机树脂(a2)的溶液的混合物。本方法可应用于LED的光取出层或太阳能电池的低反射玻璃。
基于处理表面方法

[发明专利]含有活性酯基的纤维制造用组合物及使用该纤维的细胞培养支架材料-CN201580008422.6有效
发明人：梅嵜真纪子;岸冈高广;西野泰斗;大谷彩子;龟井谦一郎;刘莉;陈勇 -专利权人：日产化学工业株式会社;国立大学法人京都大学
申请日： 2015-02-13 - 公布日： 2018-03-02 - 主分类号： D01F6/52 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供纤维制造用组合物、将该组合物进行纺丝而得到的纤维、以及使用该纤维的细胞培养支架材料，所述纤维制造用组合物用于制造适合于将对细胞的粘附·增殖·分化等有效的物质固定化、并且保持耐有机溶剂性的纤维。一种纤维制造用组合物，其含有(A)包含通式(1)表示的单元结构及通式(2)表示的单元结构的高分子化合物，(B)交联剂，(C)酸化合物，以及(D)溶剂。式(1)及(2)中的各符号如说明书中所述。
含有活性纤维制造组合使用细胞培养支架材料

[发明专利]微透镜用感光性树脂组合物-CN201180056901.7有效
发明人：庄田浩之;坂口崇洋;岸冈高广 -专利权人：日产化学工业株式会社
申请日： 2011-11-21 - 公布日： 2017-05-10 - 主分类号： G03F7/023 文献下载
摘要：本发明的课题是提供微透镜用感光性树脂组合物。作为解决本发明课题的方法是含有(A)成分、(B)成分和溶剂的微透镜用感光性树脂组合物。(A)成分具有下述式(1)所示的马来酰亚胺结构单元和下述式(2)所示的重复结构单元的共聚物，(B)成分感光剂，(上述式(2)中，R0表示氢原子或甲基，R1表示单键或碳原子数1～5的亚烷基，R2表示具有热交联性的1价有机基团。其中，上述式(2)所示的重复结构单元中R0彼此可以互不相同)。
透镜感光性树脂组合

[发明专利]具有砜结构的含有硅的抗蚀剂下层膜形成用组合物-CN201280038944.7有效
发明人：中岛诚;佐久间大辅;菅野裕太;岸冈高广 -专利权人：日产化学工业株式会社
申请日： 2012-08-10 - 公布日： 2017-04-19 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：一种光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物，其中，含有作为硅烷的水解性有机硅烷、其水解物或其水解缩合物，该硅烷为下述式（1）所示的化合物，〔(R1)aSi(R2)(3‑a)〕b(R3) 式（1）式（1）中，R3表示含有磺酰基和吸光基、以Si‑C键与Si原子键合的有机基团，R1是烷基、芳基、芳烷基、卤代烷基、卤代芳基、卤代芳烷基、链烯基、或具有环氧基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、巯基、烷氧基芳基、酰基氧基芳基、异氰脲酸酯基、羟基、环状氨基或氰基的有机基团、或它们的组合，其表示以Si‑C键与Si原子键合的有机基团，R2表示烷氧基、酰基氧基或卤素基，a表示0～2的整数，b表示1～3的整数。
具有结构含有抗蚀剂下层形成组合

[发明专利]纤维、用于制造该纤维的组合物及包含该纤维的生物相容性材料-CN201480069424.1在审
发明人： 岸冈高广;梅嵜真纪子;大谷彩子 -专利权人：日产化学工业株式会社
申请日： 2014-12-19 - 公布日： 2016-08-03 - 主分类号： D01F6/76 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供安全性优异、可简便地制造、并且具有耐有机溶剂性的纤维、用于制造该纤维的原料组合物及包含该纤维的生物相容性材料。本发明的纤维是将下述组合物进行纺丝而制造的，所述组合物含有：(A)将1种或2种以上的通式(1)表示的化合物缩合而得到的缩合产物，和(B)酸化合物。式(1)中的各符号如说明书中所记载。
纤维用于制造组合包含生物相容性材料

[发明专利]纤维形成用组合物及使用该纤维的生物相容性材料-CN201480048111.8在审
发明人：梅嵜真纪子;岸冈高广;西野泰斗;大谷彩子 -专利权人：日产化学工业株式会社
申请日： 2014-08-29 - 公布日： 2016-04-13 - 主分类号： D01F6/52 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供用于制造可简便地制造、且具有耐有机溶剂性的纤维的纤维形成用组合物、将该组合物进行纺丝而得到的纤维、及包含该纤维的生物相容性材料。本发明涉及纤维形成用组合物，其含有(A)包含通式(1)表示的单元结构的高分子化合物、(B)交联剂、(C)酸化合物、及(D)溶剂，式(1)中的各符号具有说明书中记载的含义。
纤维形成组合使用生物相容性材料

[发明专利]形成膜的组合物及离子注入方法-CN201380008178.4有效
发明人：大桥智也;岸冈高广 -专利权人：日产化学工业株式会社
申请日： 2013-02-08 - 公布日： 2014-10-08 - 主分类号： H01L21/265 文献下载
摘要：本发明的课题是提供一种离子注入方法和形成离子注入用膜的组合物以及形成抗蚀剂下层膜的组合物。解决手段是，一种离子注入方法，其包括以下工序：在基板上涂布形成膜的组合物并烘烤从而形成膜的工序，所述组合物包含含有13族、14族、15族或16族的元素的化合物和有机溶剂；将杂质离子从前述膜的上方经由前述膜注入到前述基板中，并且将前述膜中的13族、14族、15族或16族的元素导入到前述基板中的工序。前述形成膜的组合物是包含含有13族、14族、15族或16族的元素的化合物和有机溶剂的形成离子注入用膜的组合物。另外，其是包含具有至少两个硼酸酯基的化合物的形成抗蚀剂下层膜的组合物。
形成组合离子注入方法

[发明专利]含有异氰脲酸化合物与苯甲酸化合物的反应生成物的形成防反射膜的组合物-CN201410113858.9在审
发明人： 岸冈高广;坂本力丸;丸山大辅 -专利权人：日产化学工业株式会社
申请日： 2005-09-27 - 公布日： 2014-06-04 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种防反射膜，其显示很高的防反射效果、不与光致抗蚀剂发生混合、可以形成在下部没有大的卷边形状的光致抗蚀剂图形、可以在使用了ArF准分子激光和F2准分子激光等的照射光的光刻工序中使用；还提供用于形成该防反射膜的形成防反射膜的组合物。本发明通过提供下述形成防反射膜的组合物而解决了上述课题，即，一种形成防反射膜的组合物，含有下述反应生成物，即，由具有2个或3个2,3－环氧丙基的异氰脲酸化合物与苯甲酸化合物进行反应而获得的反应生成物。
含有异氰脲酸化苯甲酸化合物反应生成物形成反射组合

[发明专利]聚合物和含有该聚合物的组合物以及粘合剂用组合物-CN201280043274.8有效
发明人：田村护;大桥拓矢;岸冈高广;榎本智之 -专利权人：日产化学工业株式会社
申请日： 2012-09-06 - 公布日： 2014-05-07 - 主分类号： C08G73/06 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供新的聚合物、和含有上述聚合物的组合物以及可得到具有所需特性的固化膜的新的粘合剂用组合物。本发明通过下述技术手段解决了上述课题，提供一种聚合物，其是具有下述式（1）所示的结构单元的聚合物（式中，X为二价基团，R₁表示碳原子数为1～10的亚烷基、碳原子数为2～10的亚烯基或亚炔基、碳原子数为6～14的亚芳基、碳原子数为4～10的环状亚烷基等），或具有下述式（6）所示的结构单元的聚合物（式中，Q₄表示乙烯基、烯丙基、环氧基或缩水甘油基，R₅表示二价的有机基团，该二价的有机基团具有：仅包含碳原子的主链、或者包含碳原子和选自氧原子、氮原子和硫原子中的至少一种原子的主链），还提供含有该聚合物的组合物以及含有该聚合物和溶剂的粘合剂用组合物。。
聚合物含有组合以及粘合剂

[发明专利]含有共聚物的感光性树脂组合物-CN201080038024.6有效
发明人： 岸冈高广 -专利权人：日产化学工业株式会社
申请日： 2010-08-30 - 公布日： 2012-05-30 - 主分类号： G03F7/023 文献下载
摘要：本发明的课题是提供具有所需的特性的感光性树脂组合物。作为解决本发明课题的方法是，一种感光性树脂组合物，其含有(A)成分：具有下述式(1)所示的结构单元和下述式(2)所示的至少1种结构单元的共聚物、以及(B)成分：感光剂。(式中，2个X各自独立地表示氢原子、碳原子数1～5的烷基、碳原子数5或6的环烷基、苯基或苄基，Y表示氢原子、碳原子数1～5的烷基、碳原子数5或6的环烷基、苯基或苄基；其中，该烷基、该环烷基、该苯基和该苄基的氢原子的一部分或全部可以被卤原子、羧基、羟基、氨基或硝基取代)。
含有共聚物感光性树脂组合