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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]组合物、组合物的制造方法及不饱和化合物的制造方法-CN201980052209.3有效
发明人：西村宪人;大野胜俊 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2019-08-16 - 公布日： 2023-03-03 - 主分类号： C07C265/04 文献下载
摘要：本发明提供保存时的稳定性和利用时的稳定性优异的组合物及其制造方法。本发明的组合物包含通式(1)所示的化合物(A)和化合物(B)。化合物(B)为2分子以上的上述化合物(A)通过各化合物(A)所具有的烯属不饱和基彼此结合而成的低聚物。相对于化合物(A)100质量份，含有化合物(B)0.00002～0.2质量份。(R1‑COO)n‑R2‑(NCO)m…(1)(在通式(1)中，R1为碳原子数2～7的烯属不饱和基。R2为碳原子数1～7的m+n价的烃基，且可以包含醚基。n和m为整数1或2)。
组合制造方法不饱和化合物

[发明专利]组合物、组合物的制造方法及不饱和化合物的制造方法-CN201980050950.6有效
发明人：西村宪人;大野胜俊 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2019-08-16 - 公布日： 2023-02-17 - 主分类号： C07C265/04 文献下载
摘要：本发明提供保存时的稳定性和利用时的稳定性优异的组合物及其制造方法。一种组合物，其包含通式(1)所示的化合物(A)、和通式(2)所示的化合物(B)，相对于化合物(A)100质量份，含有上述化合物(B)0.00002～0.2质量份。(R1‑COO)n‑R2‑(NCO)m…(1)(R1‑COO)n‑R2‑(R3‑R1)m…(2)(在通式(1)和通式(2)中，R1为碳原子数2～7的烯属不饱和基。R2为碳原子数1～7的m+n价的烃基，且可以包含醚基。通式(1)的R1和R2与通式(2)的R1和R2分别相同。在通式(2)中，R3为‑NHC(＝O)‑。n和m为整数1或2)。
组合制造方法不饱和化合物

[发明专利]组合物、组合物的制造方法及不饱和化合物的制造方法-CN201980050831.0在审
发明人：西村宪人;大野胜俊 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2019-08-16 - 公布日： 2021-03-16 - 主分类号： C07C265/04 文献下载
摘要：一种组合物，是包含通式(1)所示的化合物(A)和通式(2)所示的化合物(B)的组合物，其中，相对于化合物(A)100质量份，含有化合物(B)0.00002～0.2质量份。(R1‑COO)n‑R2‑(NCO)m…(1)(在式(1)中，R1为碳原子数2～7的烯属不饱和基。R2为碳原子数1～7的m+n价的烃基。n和m为1或2。)(在式(2)中，R为(‑R2‑(OCO‑R1)，R1和R2分别与式(1)的R1和R2相同。)
组合制造方法不饱和化合物

[发明专利]组合物、组合物的制造方法及不饱和化合物的制造方法-CN201980048363.3在审
发明人：西村宪人;大野胜俊 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2019-08-16 - 公布日： 2021-03-09 - 主分类号： C07C265/04 文献下载
摘要：该组合物为包含通式(1)所示的化合物(A)、和通式(2)所示的化合物(B)的组合物，其中，相对于上述化合物(A)100质量份，含有上述化合物(B)0.00002～2.0质量份。(R1‑COO)n‑R2‑(NCO)m (1) (R1‑COO)n‑R2‑NHC(＝O)NH‑R2‑(OCO‑R1)m (2)(在通式(1)和通式(2)中，R1为碳原子数2～7的烯属不饱和基。R2为碳原子数1～7的m+n价的烃基，且可以包含醚基。通式(1)的R1与通式(2)的R1相同，通式(1)的R2与通式(2)的R2相同。n和m为整数1或2。)
组合制造方法不饱和化合物

[发明专利]组合物、组合物的制造方法、不饱和化合物及不饱和化合物的制造方法-CN201610086594.1有效
发明人： 大野胜俊;森中克利 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2016-02-16 - 公布日： 2019-05-17 - 主分类号： C07C269/02 文献下载
摘要：本发明提供组合物、组合物的制造方法、不饱和化合物及不饱和化合物的制造方法。本发明提供可以减少制造不饱和化合物时生成着色成分的阻聚剂的添加量、保存时的稳定性和利用时的稳定性优异的组合物及其制造方法。本发明的组合物含有不饱和异氰酸酯化合物、和以质量基准计为0.01～10ppm的叔胺盐酸盐。组合物可以含有以质量基准计为0.1ppm以上的叔胺盐酸盐。不饱和异氰酸酯化合物优选为丙烯酰氧基乙基异氰酸酯或甲基丙烯酰氧基乙基异氰酸酯。
组合制造方法不饱和化合物

[发明专利]封闭异氰酸酯化合物的制造方法-CN201810736045.3在审
发明人： 大野胜俊;加藤智光;古川哲弘;大泽信夫;万谷慎一 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2013-07-24 - 公布日： 2018-10-26 - 主分类号： C07C269/02 文献下载
摘要：本发明提供通式(III)所表示的封闭异氰酸酯化合物的制造方法，其特征在于，使下述通式(I)所表示的含有(甲基)丙烯酰基的异氰酸酯化合物与下述通式(II)所表示的肟系化合物反应，在制造工序中不使用溶剂，或者使用前述通式(III)所表示的化合物代替溶剂。R⁰为甲基或氢原子，R¹为‑CO‑或‑COOR⁴‑，R⁴为可以含有醚键和/或亚苯基的碳原子数1～10的亚烷基，R²和R³分别独立地为选自甲基、乙基、正丙基、正丁基、和正戊基中的任一种基团。
封闭异氰酸酯化合物溶剂异氰酸酯化合物肟系化合物丙烯酰基碳原子数制造工序氢原子亚苯基亚烷基正丙基正丁基正戊基醚键乙基制造

[发明专利]反应促进剂、以及使用其的氨基甲酸酯化合物、硫代氨基甲酸酯化合物、酰胺化合物或脲化合物的制造方法-CN201480041309.3有效
发明人： 大野胜俊;加藤智光 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2014-07-22 - 公布日： 2017-08-04 - 主分类号： B01J31/02 文献下载
摘要：一种反应促进剂，是用于分子内具有不直接键合于芳香环的异氰酸酯基的化合物与具有含活性氢基团的化合物的反应的反应促进剂，其包含具有卤代氨基甲酰基的化合物。一种制造方法，其特征在于，是使分子内具有不直接键合于芳香环的异氰酸酯基的化合物与具有含活性氢基团的化合物发生反应，从而制造氨基甲酸酯化合物、硫代氨基甲酸酯化合物、酰胺化合物或脲化合物的方法，使前述反应在前述反应促进剂的存在下进行。
反应促进剂以及使用氨基甲酸酯化合物制造方法

[发明专利]组合物、固化性组合物、其制造方法及固化物-CN201480040270.3有效
发明人： 大野胜俊;加藤智光 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2014-07-22 - 公布日： 2017-05-24 - 主分类号： C08F20/34 文献下载
摘要：本发明提供一种组合物，其包含聚合性化合物(A)和反应促进剂(B)，所述聚合性化合物(A)在分子内具有(甲基)丙烯酰基和异氰酸酯基，所述反应促进剂(B)由分子内具有(甲基)丙烯酰基和卤代氨基甲酰基的化合物构成。
组合固化制造方法

[发明专利]不饱和氨基甲酸酯、不饱和硫代氨基甲酸酯、不饱和脲化合物或不饱和酰胺化合物-CN201410521197.3有效
发明人： 大野胜俊;森中克利 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2014-09-30 - 公布日： 2017-05-03 - 主分类号： C07C269/02 文献下载
摘要：一种不饱和氨基甲酸酯化合物、不饱和硫代氨基甲酸酯化合物、不饱和脲化合物、或不饱和酰胺化合物，其是使不饱和异氰酸酯化合物和具有活性氢的化合物进行反应而得到的不饱和氨基甲酸酯化合物、不饱和硫代氨基甲酸酯化合物、不饱和脲化合物、或不饱和酰胺化合物，其特征在于，前述不饱和异氰酸酯化合物满足以下A)，A)在10mL己烷中加入4mL不饱和异氰酸酯化合物进行混合，经过5分钟之后所测定的波长400nm的吸光度(400nm Abs)为0.01～2.5。
不饱和氨基甲酸酯化合物

[发明专利]基板抛光设备、基板抛光方法和在该抛光设备中用于调节抛光垫的抛光面温度的设备-CN201510158582.0在审
发明人：曾根忠一;本岛靖之;丸山彻;大野胜俊;盐川阳一 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2010-12-28 - 公布日： 2015-08-19 - 主分类号： B24B37/015 文献下载
摘要：提供了一种用于抛光基板的设备。所述设备包括：支撑抛光垫的可旋转抛光台；被构造为保持基板并且将基板压靠在所述旋转抛光台上的抛光垫的抛光面上从而抛光基板的基板保持器；被构造为测定抛光垫的抛光面温度的垫温度检测器；被构造为接触抛光垫的抛光面从而调节抛光面温度的垫温度调节器；以及被构造为通过基于所述垫温度检测器检测到的抛光面温度信息控制所述垫温度调节器以控制抛光面温度的温度控制器。
抛光设备方法用于调节温度

[发明专利]封闭异氰酸酯化合物的制造方法-CN201380023479.4在审
发明人： 大野胜俊;加藤智光;古川哲弘;大泽信夫;万谷慎一 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2013-07-24 - 公布日： 2015-01-07 - 主分类号： C07C269/02 文献下载
摘要：本发明提供通式(III)所表示的封闭异氰酸酯化合物的制造方法，其特征在于，使下述通式(I)所表示的含有(甲基)丙烯酰基的异氰酸酯化合物与下述通式(II)所表示的肟系化合物反应，在制造工序中不使用溶剂，或者使用前述通式(III)所表示的化合物代替溶剂。R⁰为甲基或氢原子，R¹为-CO-或-COOR⁴-，R⁴为可以含有醚键和/或亚苯基的碳原子数1～10的亚烷基，R²和R³分别独立地为选自甲基、乙基、正丙基、正丁基、和正戊基中的任一种基团。
封闭氰酸酯化制造方法

[发明专利]不饱和氨基甲酸酯化合物、不饱和脲化合物或不饱和酰胺化合物、以及它们的制造方法-CN201410149135.4有效
发明人： 大野胜俊;森中克利 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2014-04-15 - 公布日： 2014-10-22 - 主分类号： C07C269/02 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供由不饱和异氰酸酯化合物与具有活性氢原子的化合物反应而得到的稳定性优异的不饱和氨基甲酸酯化合物、不饱和脲化合物、或不饱和酰胺化合物、以及它们的制造方法。不饱和氨基甲酸酯化合物、不饱和脲化合物、或不饱和酰胺化合物是使下述(1)不饱和异氰酸酯化合物和(2)具有活性氢原子的化合物进行反应而得到的，所述(1)不饱和异氰酸酯化合物，在使用孔径0.5μm的PTFE滤膜、以压力30kPa对其进行吸滤时，每1cm²的滤过速度为0.01g/(sec·cm²)～0.08g/(sec·cm²)。
不饱和氨基甲酸酯化合物以及它们制造方法

[发明专利]被稳定化了的带异氰酸酯基的烯属不饱和化合物-CN201280008818.7有效
发明人：西村宪人;万谷慎一;大野胜俊 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2012-02-02 - 公布日： 2013-10-30 - 主分类号： C07C263/18 文献下载
摘要：本发明的课题是防止分子内具有异氰酸酯基的烯属不饱和化合物的聚合、多聚化反应和变色反应而使稳定性提高。本发明涉及一种带异氰酸酯基的烯属不饱和化合物的稳定化组合物，其特征在于，含有：分子中包含异氰酸酯基和烯属不饱和基各一个以上的带异氰酸酯基的烯属不饱和化合物(A)、和稳定剂(B)，并且该稳定剂(B)为该化合物(A)的烯属不饱和基部位中的至少一个被置换成可以具有取代基的卤代烷基或氨基烷基的化合物。
稳定氰酸不饱和化合物

[发明专利]研磨方法和研磨装置-CN201210021163.9无效
发明人： 大野胜俊;松尾尚典 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2012-01-18 - 公布日： 2012-07-25 - 主分类号： B24B37/015 文献下载
摘要：本发明提供一种研磨方法和研磨装置，所述研磨方法能够以足够的研磨速率对衬底的表面(待研磨面)进行研磨，并且能够得到所希望的研磨轮廓，而且能够防止未研磨部在研磨后残留在衬底的表面。所述研磨方法一边通过向研磨垫喷射气体以控制所述研磨垫的温度一边通过所述研磨垫对待研磨面进行研磨。所述研磨方法包括：一边对所述气体的流量或喷射方向进行PID控制一边在研磨期间监视所述待研磨衬底的研磨状态；并且当达到所述被研磨膜的预定膜厚时，改变所述研磨垫的控制温度。
研磨方法装置

[发明专利]基板抛光设备、基板抛光方法和在该抛光设备中用于调节抛光垫的抛光面温度的设备-CN201010621521.0有效
发明人：曾根忠一;本岛靖之;丸山彻;大野胜俊;盐川阳一 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2010-12-28 - 公布日： 2011-09-14 - 主分类号： B24B29/00 文献下载
摘要：提供了一种用于抛光基板的设备。所述设备包括：支撑抛光垫的可旋转抛光台；被构造为保持基板并且将基板压靠在所述旋转抛光台上的抛光垫的抛光面上从而抛光基板的基板保持器；被构造为测定抛光垫的抛光面温度的垫温度检测器；被构造为接触抛光垫的抛光面从而调节抛光面温度的垫温度调节器；以及被构造为通过基于所述垫温度检测器检测到的抛光面温度信息控制所述垫温度调节器以控制抛光面温度的温度控制器。
抛光设备方法用于调节温度

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