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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]含氟有机化合物的制造方法和制造装置-CN201880076516.0有效
发明人：福地阳介;万谷慎一;楠元希;小林浩 -专利权人：株式会社力森诺科
申请日： 2018-11-07 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： C07C17/10 文献下载
摘要：提供一种含氟有机化合物的制造方法，其能够在利用氟气的直接氟化反应中即时地检测副反应的发生，能够以高产率制造高纯度的含氟有机化合物。使含有具有氢原子且碳原子数为2以上的原料有机化合物的原料液(1)与氟气在反应容器(11)内反应，将原料有机化合物的氢原子置换为氟原子而生成含氟有机化合物，此时，连续测定反应容器(11)内的气相部分(2)中所含的四氟甲烷，根据四氟甲烷的测定值来控制氟气向反应容器(11)的供给量。
有机化合物制造方法装置

[发明专利]封闭异氰酸酯化合物的制造方法-CN201810736045.3在审
发明人：大野胜俊;加藤智光;古川哲弘;大泽信夫;万谷慎一 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2013-07-24 - 公布日： 2018-10-26 - 主分类号： C07C269/02 文献下载
摘要：本发明提供通式(III)所表示的封闭异氰酸酯化合物的制造方法，其特征在于，使下述通式(I)所表示的含有(甲基)丙烯酰基的异氰酸酯化合物与下述通式(II)所表示的肟系化合物反应，在制造工序中不使用溶剂，或者使用前述通式(III)所表示的化合物代替溶剂。R⁰为甲基或氢原子，R¹为‑CO‑或‑COOR⁴‑，R⁴为可以含有醚键和/或亚苯基的碳原子数1～10的亚烷基，R²和R³分别独立地为选自甲基、乙基、正丙基、正丁基、和正戊基中的任一种基团。
封闭异氰酸酯化合物溶剂异氰酸酯化合物肟系化合物丙烯酰基碳原子数制造工序氢原子亚苯基亚烷基正丙基正丁基正戊基醚键乙基制造

[发明专利]封闭异氰酸酯化合物的制造方法-CN201380023479.4在审
发明人：大野胜俊;加藤智光;古川哲弘;大泽信夫;万谷慎一 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2013-07-24 - 公布日： 2015-01-07 - 主分类号： C07C269/02 文献下载
摘要：本发明提供通式(III)所表示的封闭异氰酸酯化合物的制造方法，其特征在于，使下述通式(I)所表示的含有(甲基)丙烯酰基的异氰酸酯化合物与下述通式(II)所表示的肟系化合物反应，在制造工序中不使用溶剂，或者使用前述通式(III)所表示的化合物代替溶剂。R⁰为甲基或氢原子，R¹为-CO-或-COOR⁴-，R⁴为可以含有醚键和/或亚苯基的碳原子数1～10的亚烷基，R²和R³分别独立地为选自甲基、乙基、正丙基、正丁基、和正戊基中的任一种基团。
封闭氰酸酯化制造方法

[发明专利]被稳定化了的带异氰酸酯基的烯属不饱和化合物-CN201280008818.7有效
发明人：西村宪人;万谷慎一;大野胜俊 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2012-02-02 - 公布日： 2013-10-30 - 主分类号： C07C263/18 文献下载
摘要：本发明的课题是防止分子内具有异氰酸酯基的烯属不饱和化合物的聚合、多聚化反应和变色反应而使稳定性提高。本发明涉及一种带异氰酸酯基的烯属不饱和化合物的稳定化组合物，其特征在于，含有：分子中包含异氰酸酯基和烯属不饱和基各一个以上的带异氰酸酯基的烯属不饱和化合物(A)、和稳定剂(B)，并且该稳定剂(B)为该化合物(A)的烯属不饱和基部位中的至少一个被置换成可以具有取代基的卤代烷基或氨基烷基的化合物。
稳定氰酸不饱和化合物

[发明专利]被稳定化了的带异氰酸酯基的烯属不饱和化合物-CN201280008812.X有效
发明人：西村宪人;万谷慎一 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2012-02-02 - 公布日： 2013-10-23 - 主分类号： C07C263/18 文献下载
摘要：本发明的课题是防止分子内具有异氰酸酯基的烯属不饱和化合物的聚合而使稳定性提高。本发明涉及一种带异氰酸酯基的烯属不饱和化合物的稳定化组合物，其特征在于，含有：分子中包含异氰酸酯基和烯属不饱和基各一个以上的带异氰酸酯基的烯属不饱和化合物(A)、和稳定剂(B)，并且该稳定剂(B)为该化合物(A)的烯属不饱和基部位中的至少一个被置换成可以具有取代基的烷基的化合物。
稳定氰酸不饱和化合物

[发明专利]包含异氰酸酯基的烯属不饱和羧酸酯化合物的聚合抑制方法和制造方法-CN200980130703.3无效
发明人：西村宪人;万谷慎一 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2009-08-06 - 公布日： 2011-07-06 - 主分类号： C07C263/18 文献下载
摘要：本发明的课题是提供包含异氰酸酯基的烯属不饱和羧酸酯化合物的聚合抑制方法和采用了该聚合抑制方法的包含异氰酸酯基的烯属不饱和羧酸酯化合物的制造方法。本发明的包含异氰酸酯基的烯属不饱和羧酸酯化合物的聚合抑制方法，其特征在于，含有包含异氰酸酯基的烯属不饱和羧酸酯化合物的液相的氧气(O2)浓度为0.5mg/L以上。优选地，其特征在于，向上述液相导入含有氧气(O2)的气体。更优选地，其特征在于，上述液相的氧气(O2)浓度通过浸渍在上述液相中的电极来测定。
包含氰酸不饱和羧酸酯化聚合抑制方法制造

[发明专利]杂环巯基化合物的生产方法-CN200780019825.6有效
发明人： 万谷慎一;青木英雅 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2007-05-28 - 公布日： 2009-06-10 - 主分类号： C07D207/26 文献下载
摘要：本发明的方法使用易得的原材料，高产量和高产率地在工业上生产用作药物或杀虫剂合成中的原材料或中间物、或用作烫发剂的杂环巯基化合物。如下制备式(1)所示的杂环巯基化合物(其中X表示-O-、-S-、-NH-和-NR¹-中的任何结构；R¹表示各具有1至6个碳原子的烷基、烷氧基和烷氧基烷基中的任何基团；Y表示氧原子、硫原子或-NR²-；R²表示氢原子或具有1至6个碳原子的烷基；Z¹表示具有至少一个巯基的二价有机残基)：在存在溶剂的情况下在7.0至11.0的pH值使金属硫化物或金属氢硫化物与式(2)所示的化合物(其中X和Y与式(1)中定义相同；Z²表示具有至少一个卤素基团的二价有机残基)反应。
巯基化合物生产方法

[发明专利]含杂环巯基化合物的烫发剂-CN200680018526.6有效
发明人：涩谷彰;万谷慎一;斋藤信 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2006-05-25 - 公布日： 2008-05-21 - 主分类号： A61Q5/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种烫发剂，该烫发试剂即使在对皮肤刺激不明显的中性至弱酸性pH范围内也能够实现烫发。该烫发剂包含至少一种由式(1)表示的杂环巯基化合物：其中R¹和R²彼此独立地代表氢原子或任选取代的具有1－5个碳原子的烷基；X代表－O－、－S－、－NH－或－NR³－；R³代表具有1－5个碳原子的烷基；n为0－2的整数；而且，当n为2时，基团SH可以与具有2个碳原子的亚烷基中的任一碳原子连接。
含杂环巯基化合物烫发

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