专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]磁存储器-CN202111623227.8在审
  • 下村尚治;梅津信之;近藤刚;上田善宽;大寺泰章;山本明人;冈岛睦;门昌辉;中西务;M·A·坎萨 - 铠侠股份有限公司
  • 2021-12-28 - 2023-03-07 - G11C11/16
  • 本发明提供磁存储器,具备:电极,沿包含第1方向及与第1方向交叉的第2方向的平面延伸;第1布线,沿第1方向延伸;多个第2布线,配置于电极与第1布线之间,沿第2方向延伸且沿第1方向排列;多个第1磁性部件,与第1布线对应设置,各自具备电连接于第1布线的第1部分和电连接于电极的第2部分,沿与第1方向及第2方向交叉的第3方向从第1部分向第2部分延伸,从第3方向观察时,与多个第2布线中相邻的2个之间对应地分别存在一个第1磁性部件;及控制电路,电连接于电极、第1布线及多个第2布线,在向多个第1磁性部件中的一个写入第1信息时向位于一个第1磁性部件的第1方向的一侧的多个第2布线中的至少2根分别供给第1电流。
  • 磁存储器
  • [发明专利]存储器件及存储器件的制造方法-CN202110869975.8在审
  • 冈岛睦;大寺泰章;中西务 - 铠侠股份有限公司
  • 2021-07-30 - 2022-09-30 - H01L27/108
  • 提供存储器件及其制造方法。实施方式的存储器件包括:电路(CC),其设置在半导体基板(9)的第1面上,包括第1接触部(53);氧化铝层(63),其在与第1面垂直的方向上设置在基板(9)的上方;存储单元(MC),其包括设置在氧化铝层(63)内的电容器(10);导电层(61),其在第1方向上设置在基板(9)与氧化铝层(63)之间,与存储单元(MC)电连接;第1绝缘层(60),其在第1方向上设置在导电层(61)与基板(9)之间;第2绝缘层(80),其在与基板(9)的表面平行的第2方向上与氧化铝层(63)相邻,在第1方向上设置在基板(9)的上方;以及第2接触部(70),其设置在第2绝缘层(80)内,在第1方向上设置在第1接触部(53)的上方,将存储单元(MC)电连接于第1接触部(53)。
  • 存储器件制造方法
  • [发明专利]磁性存储器-CN202110214493.9在审
  • 近藤刚;梅津信之;大寺泰章;中西务;平山重之 - 铠侠股份有限公司
  • 2021-02-25 - 2022-03-08 - G11C11/16
  • 本实施方式的磁性存储器具备:第1配线及第2配线;非磁性导电体部,沿第1方向设置;第1磁性部件,包含电连接于所述第1配线的第1部分及电连接于所述第2配线的第2部分,且所述第1磁性部件是以在所述第1方向上从所述第1部分向所述第2部分延伸,包围所述非磁性导电体部的方式配置;绝缘部,配置于所述非磁性导电体部与所述第1磁性部件之间;以及控制电路,电连接于所述非磁性导电体部、所述第1配线及所述第2配线。
  • 磁性存储器
  • [发明专利]光盘、光盘装置、和光盘再现方法-CN200710147654.7无效
  • 大寺泰章;吉田展久;中村直正 - 株式会社东芝
  • 2007-08-31 - 2008-03-05 - G11B7/24
  • 公开了一种光盘、光盘装置、和光盘再现方法。光盘中的信息以凹坑图案记录并且该光盘包括一个反射膜。当该凹坑的下凹和凸起与通常情况凹坑的下凹和凸起相反时,在该凹坑上以银或银合金及铝或铝合金的双层膜的形式来形成反射膜。形成的反射膜具有包括第一层(50)和不同于该第一层(50)的第二层(52)的双层结构。第一层(50)的材料是铝、铝合金或铝氧化物。第二层(52)与该第一层接触,并且其材料是银或银合金。
  • 光盘装置再现方法

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