专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]共享充电设备及系统-CN202122740280.8有效
  • 贺爱文;周伟;唐玄玄 - 深圳竹芒科技有限公司
  • 2021-11-08 - 2022-06-28 - H02J7/00
  • 本申请公开了共享充电设备及系统,其中共享充电设备包括:音频采集模块,用于采集预置范围内的音频信息,音频信息是编码设备设置信息得到的;音频解码模块,连接音频采集模块,用于解码音频信息获得设备设置信息;控制模块,连接音频解码模块,用于根据音频解码模块获得的设备设置信息配置共享充电设备。解决共享充电设备在未联网的情况下无法配置参数的技术问题,并提高共享充电设备参数配置的便利性。
  • 共享充电设备系统
  • [实用新型]一种金属3D打印脱脂设备供酸雾装置-CN202120535990.4有效
  • 刘曌宇;王俊;朱胜;张二辉;唐玄玄;封华;李健喆;章锦晶;龙旺平;吴晓雨 - 苏州复浩三维科技有限公司
  • 2021-03-15 - 2021-11-02 - B22F12/00
  • 本实用新型公开了一种金属3D打印脱脂设备供酸雾装置,包括供酸装置、供保护气体装置、雾化腔室;所述雾化腔室的底部设置有储酸箱;所述供酸装置通过第一供酸管道与储酸箱相连通;所述供保护气体装置的供气管道依次穿过雾化腔室的底部和供酸箱,并延伸出供酸箱;位于雾化腔室内的供气管道上套设有第二供酸管道,所述供气管道的顶部与所述第二供酸管道的顶部位于同一水平面上;所述供气管道顶部的上方设置有挡板。本实用新型的有益效果为:本实用新型所述金属3D打印脱脂设备供酸雾装置,能使酸和保护气在通入3D打印装置的脱脂腔前混合均匀且加热到可反应温度,这样脱脂腔内只需提供合适的保温温度即可,避免了脱脂腔温度过高造成能量浪费的温度。
  • 一种金属打印脱脂设备供酸雾装置
  • [发明专利]平板电极结构和等离子体沉积设备-CN201710537334.6有效
  • 唐玄玄;王俊 - 上海稷以科技有限公司
  • 2017-07-04 - 2020-11-10 - C23C16/50
  • 本发明涉及等离子处理设备领域,公开了一种平板电极结构和应用了该种平板电极结构的等离子体沉积设备,平板电极结构包括:至少一个阴极和一个阳极,且这些阴极和阳极之间依次交替设置;其中,至少有一个阳极内形成有第一送气通道,且在阳极朝向阴极的一面的中部开有第一出气口,在阳极的边缘开有第一进气口;气体从第一进气口进入第一送气通道,从第一出气口排出,形成等离子体。本发明能够改善等离子体沉积薄膜的厚度均匀性。
  • 平板电极结构等离子体沉积设备
  • [发明专利]等离子体表面处理设备和等离子体设备腔体结构-CN201710343046.7有效
  • 唐玄玄;彭帆 - 上海稷以科技有限公司
  • 2017-05-16 - 2019-11-15 - H01J37/32
  • 本发明涉及真空设备领域,公开了一种等离子体表面处理设备和等离子体设备腔体结构,等离子体设备腔体结构包括:料盒、射频电极和接地电极;等离子体表面处理设备包括设置有进气模块和抽气口的真空等离子腔体,真空等离子腔体内设置有料盒、射频电极和接地电极。料盒内装有多个标的物,这些标的物在料盒内间隔设置,并使任意相邻的两个标的物之间预留有供气流通过的间隙;料盒的侧壁上设置有若干个通风槽,通风槽和间隙数量相对应设置,使得通风槽和间隙共同构成了经过标的物表面的气流通道;射频电极位于料盒的一侧,且正对气流通道;接地电极至少有一部分位于接地电极位于料盒的另一侧,且正对气流通道。本发明能够提高标的物的表面处理效果。
  • 等离子体表面处理设备结构
  • [实用新型]进气分配结构和真空等离子体设备-CN201721346031.8有效
  • 唐玄玄;彭帆;丁伟 - 上海稷以科技有限公司
  • 2017-10-19 - 2018-05-15 - H01J37/32
  • 本实用新型涉及等离子体设备领域,公开了一种进气分配结构以及应用了该种进气分配结构的真空等离子体设备。其中,真空等离子体设备由真空腔体和进气分配结构组成。进气分配结构包括:进气分配盘,正对于真空腔体的内壁设置;密封组件,部分设置于真空腔体的内壁和进气分配盘之间,与真空腔体的内壁和进气分配盘共同构成至少一个分隔空间,真空腔体的进气口与分隔空间相连通;并且进气分配盘上设置有若干个气体分配孔。本实用新型有利于腔体内气体均匀分布,确保更好的等离子体处理效果。
  • 分配结构真空等离子体设备
  • [实用新型]表面处理系统和腔体结构-CN201720540294.6有效
  • 唐玄玄;彭帆 - 上海稷以科技有限公司
  • 2017-05-16 - 2018-02-02 - H01J37/36
  • 本实用新型涉及真空设备领域,公开了一种表面处理系统和腔体结构,腔体结构包括料盒、射频电极和接地电极;表面处理系统包括设置有进气模块和抽气口的真空等离子腔体,真空等离子腔体内设置有料盒、射频电极和接地电极。料盒内装有多个标的物,这些标的物在料盒内间隔设置,并使任意相邻的两个标的物之间预留有供气流通过的间隙;料盒的侧壁上设置有若干个通风槽,通风槽和间隙数量相对应设置,使得通风槽和间隙共同构成了经过标的物表面的气流通道;射频电极位于料盒的一侧,且正对气流通道;接地电极至少有一部分位于料盒的另一侧,且正对气流通道。本实用新型能够提高标的物的表面处理效果。
  • 表面处理系统结构
  • [实用新型]平板电极结构和等离子体沉积设备-CN201720799154.0有效
  • 唐玄玄;王俊 - 上海稷以科技有限公司
  • 2017-07-04 - 2018-01-30 - H05H1/34
  • 本实用新型涉及等离子处理设备领域,公开了一种平板电极结构和应用了该种平板电极结构的等离子体沉积设备,平板电极结构包括至少一个阴极和一个阳极,且这些阴极和阳极之间依次交替设置;其中,至少有一个阳极内形成有第一送气通道,且在阳极朝向阴极的一面的中部开有第一出气口,在阳极的边缘开有第一进气口;气体从第一进气口进入第一送气通道,从第一出气口排出,形成等离子体。本实用新型能够改善等离子体沉积薄膜的厚度均匀性。
  • 平板电极结构等离子体沉积设备

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