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专利名称

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申请人
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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]基板处理设备-CN201880027296.2有效
发明人： 刘光洙;朴特基;李龙炫;郑喆羽 -专利权人：周星工程股份有限公司
申请日： 2018-04-24 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：根据本发明实施例的电容耦合等离子体基板处理设备包括：处理室，其提供被抽真空且密封的内部空间；气体入口，其连接到处理室以将处理气体提供到处理室内部；气体分配单元，其连接到气体入口以将引入气体入口的处理气体注入内部空间；阻抗匹配网络，其设置在处理室外部，并将RF电源的RF功率传输到气体分配单元；RF连接线，其将阻抗匹配网络的输出连接到气体入口或气体分配单元；以及屏蔽板，其包括铁磁体并且RF连接线和气体入口中的至少一个穿透该屏蔽板。
处理设备

[发明专利]基板处理设备-CN202180070615.X在审
发明人：张大洙;金显昌;史胜晔;刘光洙;李智勋 -专利权人：周星工程股份有限公司
申请日： 2021-08-30 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明涉及一种基板处理设备，包括：腔体、支撑腔体的上部的腔体盖、相对腔体盖安装以支撑基板的基座、喷射多种气体的气体喷射器，以及安装于腔体盖中的下垂防止栓。下垂防止栓能够与气体喷射器结合。下垂防止栓包括能供多种气体流动的多条路径。
处理设备

[发明专利]使用气体分配单元的气体供应方法-CN202180056456.8在审
发明人：金显昌;金润晶;刘光洙;李龙炫;李真镐 -专利权人：周星工程股份有限公司
申请日： 2021-08-04 - 公布日： 2023-05-05 - 主分类号： C23C16/52 文献下载
摘要：本发明提供一种使用气体分配单元的气体供应方法，气体分配单元包括分别安装在多个气体供应通道上的多个气体流速控制设备，并配置为单独地控制通过各个气体供应通道供应的处理气体的流速，并且不同地调整通过各个气体供应通道供应的处理气体的气体供应时间和供应顺序，从而改善沉积薄膜在衬底的整个表面区域上的厚度均匀性。
使用气体分配单元供应方法

[发明专利]衬底处理装置-CN202080045539.2在审
发明人：吴雄教;金英云;刘光洙;金度亨;河闰圭 -专利权人：周星工程股份有限公司
申请日： 2020-07-09 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明涉及一种衬底处理装置，包括第一电极和第二电极，第一电极和第二电极的位置可以考虑热膨胀系数的差异而提前调整，使得即使在处理期间第一电极和第二电极出现热膨胀的情况下也防止通过第一电极和第二电极之间的接触所产生的短路。即使在第一电极和第二电极由于处理期间温度的上升而出现热膨胀的情况下，本发明的衬底处理装置也可以防止第一电极和第二电极之间的短路，并且可以在用于处理大衬底的衬底处理装置中维持薄膜的均匀性。
衬底处理装置

[发明专利]基板处理设备-CN201980026434.X在审
发明人：吴雄教;金英云;刘光洙;曺源泰 -专利权人：周星工程股份有限公司
申请日： 2019-04-19 - 公布日： 2020-11-27 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明涉及一种基板处理设备，包括：腔室；第一电极，其设置在腔室的顶部；第二电极，其设置在第一电极的底部并且包括多个开口；多个突起电极，其从第一电极延伸并且延伸到第二电极的多个开口；基板支撑件，其面对第二电极并且基板放置在其上；第一放电区域，其在第一电极的底表面与第二电极的顶表面之间；第二放电区域，其在突起电极的侧表面与第二电极的开口内表面之间；第三放电区域，其在突起电极的底表面与第二电极的开口内表面之间；以及第四放电区域，其在第二电极与基板之间，其中，在第一放电区域至第四放电区域的至少一个区域中产生等离子体。
处理设备

[发明专利]基板处理设备-CN201980021363.4在审
发明人：吴雄教;具泫淏;刘光洙;李相斗;曺圭正 -专利权人：周星工程股份有限公司
申请日： 2019-01-29 - 公布日： 2020-11-06 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明涉及一种基板处理设备，该基板处理设备包括：支撑部，支撑部用于支撑基板；第一电极部，第一电极部设置在支撑部的上方；第二电极部，第二电极部设置在第一电极部的上方；产生孔，产生孔形成为延伸穿过第一电极部；以及突出电极，突出电极从第二电极部向下突出至与产生孔相对应的位置处的同时与第二电极部耦接，其中，突出电极形成为在竖直方向上具有比第一电极部短的长度。
处理设备

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