专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种夹层结构透明导电薄膜及其制备方法-CN201610036475.5有效
  • 吴木营;何林;杨雷 - 东莞理工学院
  • 2016-01-20 - 2017-07-25 - H01B5/14
  • 本发明涉及功能薄膜材料的技术领域,特别是涉及一种夹层结构透明导电薄膜及其制备方法,该透明导电薄膜为BaSnO3/Cu/BaSnO­3的夹层结构,即包括依次层叠的BaSnO3薄膜层、Cu薄膜层和BaSnO3薄膜层。该夹层结构透明导电薄膜的制备方法包括步骤一,将BaSnO3靶材和Cu靶材装入磁控溅射系统的腔体内;步骤二,在衬底上进行沉积得到BaSnO3薄膜层;步骤三,在BaSnO3薄膜层上溅射Cu薄膜层;步骤四,在Cu薄膜层上溅射BaSnO3薄膜层,制得夹层结构透明导电薄膜。该夹层结构透明导电薄膜具有成本低、电阻率低、导电性能好、厚度薄、化学稳定性好、且与衬底之间的吸附性强的优点。
  • 一种夹层结构透明导电薄膜及其制备方法
  • [发明专利]一种薄膜热敏电阻及其制备方法及其电阻值的调节方法-CN201510143366.9有效
  • 何林;杨雷;吴木营 - 东莞理工学院
  • 2015-03-30 - 2017-06-23 - H01C7/04
  • 本发明涉及薄膜热敏电阻技术领域,具体涉及一种薄膜热敏电阻及其制备方法及其电阻值的调节方法。一种薄膜热敏电阻,其特征在于由下而上依次包括基板、底层Mn‑Co‑Ni‑Fe‑O四元过渡金属氧化物膜层、中间层Mn‑Co‑Ni‑Cu‑O四元过渡金属氧化物膜层、顶层Mn‑Co‑Ni‑O三元过渡金属氧化物膜层和电极;该负温度系数薄膜热敏电阻呈现Mn‑Co‑Ni‑O/Mn‑Co‑Ni‑Cu‑O/Mn‑Co‑Ni‑Fe‑O三层结构。本发明制备的薄膜热敏电阻的电阻值在0.5~3.1 MΩ左右可调,老化系数小于4.4%,从而使得该薄膜热敏电阻具有电阻值较低、老化系数低且使用寿命长的优点。
  • 一种薄膜热敏电阻及其制备方法阻值调节
  • [发明专利]一种透明薄膜变容管及其制备方法-CN201610169691.7在审
  • 吴木营;何林;杨雷 - 东莞理工学院
  • 2016-03-23 - 2017-02-15 - H01G7/06
  • 本发明涉及电子信息材料与元器件的技术领域,特别是涉及一种透明薄膜变容管及其制备方法,该透明薄膜变容管包括衬底、沉积于所述衬底的锡钛酸钡薄膜、以及与所述锡钛酸钡薄膜连接的电极。其中,锡钛酸钡薄膜中锡钛酸钡的化学式为BaSn0.15Ti0.85O3。本发明所制得的透明薄膜变容管具有介电调谐率大、介电损耗低、性质稳定且透明性高的优点。该透明薄膜变容管的制备方法,包括步骤一,制备锡钛酸钡靶材;步骤二,脉冲激光沉积锡钛酸钡薄膜;步骤三,制备电极。该透明薄膜变容管的制备方法使得所制备的薄膜变容管的结晶性好,且薄膜变容管的组分均匀,薄膜变容管的组分与靶材组分更加接近。
  • 一种透明薄膜变容管及其制备方法
  • [发明专利]一种Ga掺杂ZnO透明导电薄膜的制备方法-CN201210412425.4有效
  • 刘敏霞;吴木营 - 东莞理工学院
  • 2012-10-25 - 2013-02-06 - C23C14/35
  • 本发明属于光电子信息功能材料技术领域,具体涉及一种Ga掺杂ZnO透明导电薄膜的制备方法,包括如下步骤:称取ZnO粉末和Ga2O3粉末,其中Ga占总粉末的摩尔百分含量为1~3%,将称取的粉末经预烧结和烧结处理,制得Ga掺杂ZnO靶材;将衬底和制得的靶材装入磁控溅射镀膜机中,将溅射室抽真空,通入氩气,控制工作压强为0.1~0.5Pa;将衬底的温度升至300~600℃,控制溅射功率为80~120W,进行镀膜处理,制得Ga掺杂ZnO透明导电薄膜,本发明的制备方法可大面积规模化生产、工艺简单、成本低,制得的透明导电薄膜表面平整致密,粗糙度较小,电阻率低,透过率高,性能稳定,应用前景广阔。
  • 一种ga掺杂zno透明导电薄膜制备方法

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