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本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

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专利名称

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申请人
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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]接合装置、接合系统以及接合方法-CN201910554608.1有效
发明人：杉原绅太郎;真锅英二;古家元;三村勇之;大森阳介 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2015-08-07 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本发明提供接合装置、接合系统以及接合方法。接合装置(41)包括：上吸盘(140)，其用于对上晶圆(WU)进行真空吸引而将该上晶圆(WU)吸附保持于下表面；以及下吸盘(141)，其设于上吸盘(140)的下方，用于对下晶圆(WL)进行真空吸引而将该下晶圆(WL)吸附保持于上表面。下吸盘(141)具有用于对下晶圆(WL)进行真空吸引的主体部(190)和设于主体部(190)上且与下晶圆(WL)的背面相接触的多个销(191)。设于主体部(190)的中心部的销(191a)的顶端位置高于设于主体部(190)的外周部的销(191b)的顶端位置。
接合装置系统以及方法

[实用新型]一种过滤池-CN202222561046.3有效
发明人： 古家元 -专利权人：重庆栖子堂景观设计工程有限公司
申请日： 2022-09-27 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： C02F9/00 文献下载
摘要：本实用新型提出了一种过滤池，设于地面之下的过滤池本体，过滤池本体包括依次排列设置的沉淀仓、毛刷仓、藤棉仓、生化仓以及清水仓；沉淀仓与毛刷仓之间设有高度低于地平线的第一隔墙；毛刷仓与藤棉仓之间设有第一通水管，藤棉仓与生化仓之间设有第二通水管，生化仓与清水仓之间设有第三通水管；第一通水管、第二通水管以及第三通水管的进水口高度逐渐降低，且进水口高于出水口；清水仓内设有连通主池的抽水机构；提高水体的流动速度，适应于大体量水体过程中加快过滤速度；整个过滤过程一次性实现多层过滤，相对于现有技术中的过滤方式来说速度更快，能够一次过滤后达到生态水质要求，且过滤过程中无需换水。
一种滤池

[发明专利]接合装置、接合系统以及接合方法-CN201510484914.4有效
发明人：杉原绅太郎;真锅英二;古家元;三村勇之;大森阳介 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2015-08-07 - 公布日： 2019-11-12 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本发明提供接合装置、接合系统以及接合方法。接合装置(41)包括：上吸盘(140)，其用于对上晶圆(W_U)进行真空吸引而将该上晶圆(W_U)吸附保持于下表面；以及下吸盘(141)，其设于上吸盘(140)的下方，用于对下晶圆(W_L)进行真空吸引而将该下晶圆(W_L)吸附保持于上表面。下吸盘(141)具有用于对下晶圆(W_L)进行真空吸引的主体部(190)和设于主体部(190)上且与下晶圆(W_L)的背面相接触的多个销(191)。设于主体部(190)的中心部的销(191a)的顶端位置高于设于主体部(190)的外周部的销(191b)的顶端位置。
接合装置系统以及方法

[发明专利]接合装置-CN201110317784.7无效
发明人：秋山直树;杉山雅彦;古家元 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2011-10-18 - 公布日： 2012-05-16 - 主分类号： H01L21/603 文献下载
摘要：本发明提供一种接合装置，高效地进行具有金属的接合部的基板彼此的温度调整，使基板接合处理生产率提高。接合装置具有在下表面形成开口的处理容器；配置在处理容器内且用于载置叠合晶圆并对叠合晶圆进行热处理的第二热处理板；在处理容器内与第二热处理板相对设置且用于向第二热处理板侧按压叠合晶圆的加压机构；在处理容器的内表面沿该处理容器的开口设置的将处理容器和第2热处理板之间气密地封闭的环状的支承台；设于第二热处理板的下方且支承台的内侧的冷却机构，冷却机构包括上表面与第二热处理板平行地设置的冷却板；与冷却板的内部相连通且用于向该冷却板的内部供给空气的连通管；使冷却板上下移动的升降机构。
接合装置

[发明专利]基板处理装置的恢复方法、恢复程序、及基板处理装置-CN200510117785.1有效
发明人： 古家元;田中秀树;大久保智也;小林凉子 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2005-11-10 - 公布日： 2006-06-21 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种能够不降低处理装置的工作效率，来进行该装置的异常判定的基板处理装置的恢复方法。加工腔室(P/C)(2)具有腔室(10)，在P/C(2)的维护之后，控制部(57)实施包括将所述腔室(10)内抽成真空的抽成真空工序、设定所述腔室(10)内温度的温度设定工序、判定所述腔室(10)内有无异常的异常判定工序、和使所述腔室(10)内的气氛与规定的处理条件一致而稳定下来的时效处理工序的自动设置处理，其中，异常判定工序是将对应于所述腔室(10)内的状态变化而变化的作为装置记录的下部匹配器(19)的阻抗，与正常状态下的下部匹配器(19)的阻抗进行比较。
处理装置恢复方法程序

[发明专利]等离子体处理装置用电极及等离子体处理装置-CN03806899.0有效
发明人：松岛圭一;铃木隆司;古家元 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2003-03-27 - 公布日： 2005-07-20 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：本发明的等离子体处理装置用电极(23)包括：支持部件(35)，与保持被处理基板(W)的电极(13)相对向地配置；电极板(36)，安装于支持部件(35)上，具备多个气体排出孔(36A)和与支持部件(35)相对向地开口的螺丝孔(44A)，从气体排出孔(36A)向其与电极(13)之间形成的处理空间内供给处理气体，在上述处理空间内形成等离子体；连接部件(42)，通过从支持部件(35)侧螺合于电极板(36)的螺丝孔(44A)中，将电极板(36)连接在支持部件(35)上。
等离子体处理装置用电

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