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[发明专利]一种辊压单元、划槽晶圆分离装置及划槽晶圆分离方法-CN202011159426.3有效
发明人：陶利权;刘盈楹;宋文超;贾祥晨;谢坤宪;马雪婷;孙元章;李国森 -专利权人：北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所）
申请日： 2020-10-26 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供了一种辊压单元，涉及划槽晶圆分离技术领域。该辊压单元包括基准座、压辊、顶推机构和调紧机构；基准座和压辊通过顶推机构连接，顶推机构具有弹性，压辊能够在顶推机构的弹力作用下远离基准座；压辊的移动方向与其自身的轴线方向垂直；调紧机构设置在顶推机构上，用于调整顶推机构的弹力。本发明的辊压单元，能够通过调紧机构改变顶推机构的弹力，进而调整压辊对划槽晶圆的碾压作用力，防止由于作用力太小而出现粘连，或者由于作用力过大而出现崩边的情况，提高晶圆产品生产效率低而降低产品破损率。在此基础上，本发明还提供了一种划槽晶圆分离装置及划槽晶圆分离方法。
一种单元划槽晶圆分离装置方法

[发明专利]晶圆承载装置和晶圆分离设备-CN202011169301.9有效
发明人：陶利权;刘盈楹;于高洋;李家明;郭育澎;张玮琪;陈健韬;王铮;闫芸 -专利权人：北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所）
申请日： 2020-10-27 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： H01L21/673 文献下载
摘要：一种晶圆承载装置和晶圆分离设备，晶圆承载装置包括定盘、动盘、多个载物部和多个调节部；动盘与定盘枢转连接；载物部与动盘枢转连接，载物部的一部分位于动盘的远离定盘的一侧，载物部与动盘间的枢转轴和动盘与定盘间的枢转轴相平行；调节部的至少一部分位于定盘与动盘之间，多个调节部以动盘与定盘间的枢转轴为中心对称设置，调节部能够伸缩以调节定盘与动盘间的距离。晶圆承载装置能够承载多片晶圆并进行转动，因此每次能够加工多片晶圆，提高了加工效率，还能够通过调节部进行调平，避免出现倾斜或翘起，从而提高晶圆分离的成品率。晶圆分离设备采用上述的晶圆承载装置承载晶圆，不仅提高了加工效率，还提高了晶圆分离的成品率。
承载装置分离设备

[发明专利]多阳极导电装置及电镀设备-CN202211387178.7在审
发明人：陈苏伟;刘凯文;王洪建;郭春华;刘盈楹 -专利权人：北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所）
申请日： 2022-11-07 - 公布日： 2023-01-13 - 主分类号： C25D17/00 文献下载
摘要：本申请涉及电镀设备技术领域，尤其是涉及一种多阳极导电装置及电镀设备。该多阳极导电装置包括安装主座、阳极连接柱、放置座体、第一压板和第一旋紧定位组件；安装主座围接出安装插槽，放置座体插接于安装插槽内；安装主座上开设有第一定位通孔；第一定位通孔内插接有阳极连接柱，阳极连接柱的一端伸出安装主座并用于与电源阳极电连接，阳极连接柱的内部用于插接阳极杆，第一压板与阳极连接柱的定位槽口相对应；第一旋紧定位组件与放置座体相螺接并与第一压板活动连接，以通过旋动第一旋紧定位组件驱动第一压板。该电镀设备包括该多阳极导电装置。该多阳极导电装置和电镀设备可以在一次拆装过程中，同时实现多个阳极杆与电源阳极的电连接拆装。
阳极导电装置电镀设备

[发明专利]一种废液排放系统、废液排放方法及应用-CN202210568841.7在审
发明人：陈苏伟;李佳东;刘盈楹;李国森;张贵拓 -专利权人：北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所）
申请日： 2022-05-24 - 公布日： 2022-08-23 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及半导体设备废液排放的领域，具体而言，涉及一种废液排放系统、废液排放方法及应用。所述废液排放系统，包括：压缩气体储存装置、第一气动隔膜阀门、虹吸装置、第二气动隔膜阀门、沉积腔室和气液分离装置；其中，所述压缩气体储存装置、所述第一气动隔膜阀门、所述虹吸装置、所述第二气动隔膜阀门和所述沉积腔室依次连接；所述气液分离装置与所述虹吸装置的气液混合出口相连。所述的废液排放系统，各部件和结构设置合理，能够有效解决沉积腔室工艺中，晶圆上甩干的镀液淤积后倒流回工艺腔室的问题。
一种废液排放系统方法应用

[发明专利]一种晶圆镀液搅拌机构-CN202210611606.3在审
发明人：吴娖;刘盈楹;陈苏伟;高津平;康国雨 -专利权人：北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所）
申请日： 2022-05-31 - 公布日： 2022-08-12 - 主分类号： C25D21/10 文献下载
摘要：本发明涉及晶圆生产加工技术领域，具体而言，涉及一种晶圆镀液搅拌机构，包括驱动机构和搅拌组件，所述驱动机构与所述搅拌组件连接；所述搅拌组件包括连接件和搅拌盘，所述搅拌盘通过所述连接件与所述驱动机构连接，所述搅拌盘位于电镀腔内的镀液中，所述驱动机构用于驱动所述搅拌盘对电镀腔内的镀液进行搅拌以提高晶圆上硅穿孔的镀液填充良率；本申请的晶圆位于电镀腔的镀液中，搅拌组件的搅拌盘也位于电镀腔的镀液中，通过驱动机构驱动搅拌盘移动，对镀液进行搅拌，能够有效提高镀液的搅拌均匀性和晶圆硅通孔内的镀液交换速率，从而有效提高硅通孔镀制的填充良率和镀层厚度均匀性。
一种晶圆镀液搅拌机构

[发明专利]电镀夹具-CN202210619171.7在审
发明人：陈苏伟;王洪建;魏红军;刘盈楹;雷光宇 -专利权人：北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所）
申请日： 2022-06-01 - 公布日： 2022-08-12 - 主分类号： C25D17/08 文献下载
摘要：本申请涉及芯片制造电化学加工技术领域，尤其是涉及一种电镀夹具。该电镀夹具包括密封导电机构和承载导电机构；承载导电机构包括形成有晶圆定位槽地承载组件；密封导电机构包括第一密封组件、压接组件和环形导电弹片，环形导电弹片环绕晶圆定位槽设置，且环形导电弹片的内圈伸入晶圆定位槽内并相对于晶圆定位槽悬空，压接组件压设于环形导电弹片上且开设有通孔；第一密封组件至少包括第一密封构件；压接组件与承载组件可拆卸连接，以使得第一密封构件压紧于环形导电弹片与晶圆之间。该电镀夹具实现了晶圆导电方式从点接触向面接触升级，显著提高了晶圆的导电均匀性，并能够通过有效密封，提高晶圆的正面的电流密度均匀性，和产品良率。
电镀夹具

[发明专利]晶圆转速检测装置-CN202011146986.5有效
发明人：陶利权;于高洋;宋文超;刘盈楹;王丽江;胡天水;刘凯文;郭育澎;闫芸 -专利权人：北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所）
申请日： 2020-10-23 - 公布日： 2022-08-02 - 主分类号： G01P3/36 文献下载
摘要：本申请涉及晶圆清洗设备领域，尤其是涉及一种晶圆转速检测装置。晶圆转速检测装置包括定座筒体和从动轴，定座筒体的的一端的端盖上开设有安装孔，从动轴通过安装孔伸入到定座筒体内，并通过第一轴承和第二轴承与定座筒体转动连接。定座筒体上在第一轴承和第二轴承之间形成有进气口，从动轴的侧壁上形成有第一流道，第一流道的一端位于第一轴承和第二轴承之间，第一流道的另一端延伸至从动轴与定座筒体的安装孔的内壁相对的侧壁处，从而使进入定座筒体内的气体能够经由第一流道流动至安装孔处，进而将气体经由安装孔与从动轴之间的缝隙导入刷洗箱内，以通过气体起到阻隔效果，避免刷洗箱内的清洗液经由定座筒体的内腔发生泄露。
转速检测装置

[发明专利]磁吸门结构和机箱-CN202011175598.X有效
发明人：陶利权;刘盈楹;王丽江;胡天水;何川;吴政;高博;付佳伟 -专利权人：北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所）
申请日： 2020-10-28 - 公布日： 2021-11-23 - 主分类号： H05K5/02 文献下载
摘要：一种磁吸门结构和机箱，磁吸门结构包括门框上梁、门框下梁、托板、磁吸部和门体，托板与门框下梁连接，托板的一部分朝向磁吸门的外侧突出于门框下梁，磁吸部与门框上梁连接，门体包括能够被磁吸部吸附的配合部；当门体关闭时，门体的底部与突出于门框下梁的托板连接，门体的配合部与磁吸部吸附连接。磁吸门结构在门框下梁处设置有托板，门体关闭时，门体的底部支撑在托板上，因此稳定性更强，门体受到托板和磁吸部的作用能够更紧密的贴合在门框上，因此门缝较小。机箱采用上述的磁吸门结构，具有侧板可拆卸和结构稳定的优点。
磁吸门结构机箱

[发明专利]在线品检装置及其调整方法-CN202011158474.0在审
发明人：陶利权;于高洋;王洪建;刘盈楹;王丽江;张玮琪;王刚 -专利权人：北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所）
申请日： 2020-10-26 - 公布日： 2021-02-05 - 主分类号： G01N21/89 文献下载
摘要：一种在线品检装置及其调整方法，涉及品检在线检测技术领域；该在线品检装置包括侧架组件、光源组件、支撑组件和用于与光学检测组件可拆装连接的上框架组件；侧架组件的数量为两个，两个侧架组件的中部通过中支梁可拆装连接；两个侧架组件的上部通过支撑组件可拆装连接上框架组件；光源组件的两端分别与两个侧架组件可拆装连接。该在线品检调整方法，适用于在线品检装置。本发明的目的在于提供一种在线品检装置及其调整方法，以在一定程度上解决现有技术中存在的加工、运输和安装难度较大，以及易产生形变而影响检测效果的技术问题。
在线装置及其调整方法

[发明专利]内嵌式观测窗-CN202011110401.4在审
发明人：陶利权;刘盈楹;胡天水;王丽江;刘凯文;张利军;谢坤宪;闫芸 -专利权人：北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所）
申请日： 2020-10-16 - 公布日： 2021-02-02 - 主分类号： E06B5/00 文献下载
摘要：本发明涉及扫描检测技术领域，具体而言，涉及一种内嵌式观测窗。内嵌式观测窗包括底座、上壳体和主视窗；所述上壳体和所述主视窗均设置在所述底座上，且所述底座、所述上壳体和所述主视窗共同构成作业空间；所述上壳体相对所述底座固定；所述主视窗打开的方式包括：所述主视窗相对所述底座向所述作业空间内转动。本发明主视窗能够通过相对底座向内部的作业空间内转动，以打开作业空间，反向转动以关闭作业空间，进而不会占用设备的外部空间，进而不会影响到操作人员的观察角度，提高了操作人员的观测准确性。
内嵌式观测

[发明专利]一种光学镜头对位机构-CN202011110389.7在审
发明人：陶利权;于高洋;王洪建;刘盈楹;何川;张贵拓;范文斌;闫芸 -专利权人：北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所）
申请日： 2020-10-16 - 公布日： 2021-01-22 - 主分类号： G02B7/04 文献下载
摘要：本发明涉及在线检测技术领域，具体而言，涉及一种光学镜头对位机构。光学镜头对位机构包括三维线性对位结构和双轴角度对位结构；所述双轴角度对位结构设置在所述三维线性对位结构上。本发明通过三维线性对位结构实现对光学镜头的线性调整，通过双轴角度对位结构实现对光学镜头的角度调节，进而不需要对光学镜头进行反装，提高了光学镜头的调节效率。
一种光学镜头对位机构

[发明专利]滚刷从动组件-CN202011135865.0在审
发明人：陶利权;宋文超;于高洋;刘盈楹;王丽江;胡天水;张伟锋;闫芸 -专利权人：北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所）
申请日： 2020-10-22 - 公布日： 2021-01-22 - 主分类号： B08B1/04 文献下载
摘要：本申请涉及晶片清洗设备技术领域，尤其是涉及一种滚刷从动组件，包括承载构件、限位导向构件、弹性复位机构、连接组件以及滚刷；其中，限位导向构件连接于承载构件，弹性复位机构滑动连接于限位导向构件；滚刷位于连接组件的一端部，且滚刷通过连接组件转动连接于弹性复位机构；弹性复位机构位于连接组件的侧部。可见，本滚刷从动组件与刷洗箱装拆过程极其简单，而且滚刷与连接组件之间不再设置有弹簧，减少了滚刷从动组件的长度，进而减小了机械手的长度，降低成本投入，同时使得晶片传送过程更稳定，传送效率更高。
从动组件

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